自动化超精密真空板

要求更小更精密的前列IT产业中，有追求纳米级超精密加工的次世代企业，精密加工技术及设计技术为背景，在半导体和电子部件市场中，有生产自动化设备的精密部件，切削工具的企业，上海安宇泰科技有限公司。用自主技术-电解在线砂轮修整技术（ELID）与飞秒激光抛光技术融合在一起，生产世界超精密刀具。为了精巧地剥离一微米以下的超薄膜，开发了非接触切割方法。电解在线砂轮修整技术（ELID）与飞秒激光抛光融合在一起，生产超精密真空板。采用激光在PCD、PCBN上加工芯片切割机的几何工艺，制作非铁金属切削加工用PCD芯片切割嵌件，微泰的竞争力是超精密加工技术和生产，管理系统。保证产品的彻底的品质检查。利用自主开发的ELID研磨机 ,实现了厚度0.03毫米的锋利的刀片式引线切割。利用飞秒激光抛光技术,提高刀具锋利度，提高了寿命和品质50%以上。公差要求高的模具加工方面，具有实现五微米以下的公差平面研磨系统。通过激光设备可以精密地加工0.02毫米的微孔。在PCD、PCBN嵌件表面激光加工制作各种几何芯片切断点，通过自动化检查设备和自主开发的切断性能测试系统，进行彻底检查并通过MES进行电脑管理。我们拥有包括ISO14001在内的多项国际自主技术。

通常，按加工精度划分，机械加工可分为一般加工、精密加工、超精密加工三个阶段。自动化超精密真空板

微泰利用激光制造和供应精密切割产品。在 MLCC 印刷过程中，如果需要对精密面罩板或复杂形状的产品进行精确的切割，则通常的激光切割供应商会遇到难以处理的难题。 然而，微泰拥有激光加工技术，能够进行精密切割加工，并生产和提供高质量的激光切割产品，满足客户的需求。应用于MLCC掩模板 阵列遮罩板 ，测包机分度盘。各种MLCC设备精密零件。掩蔽夹具：在MLCC制造过程中进行溅射涂层；在凹槽宽度公差 (+0.01) 范围内进行加工、去毛刺同时需要平面度；微泰使用超精密激光设备，超高速加工MLCC掩模板 阵列遮罩板半导体加工超精密超细孔超激光精密切割是利用脉冲激光束聚焦在加工物体表面，形成一个个高能量密度光斑以瞬间高温熔化被加工材料。

微泰使用激光加工超精密几何产品。可以对各种材料（包括 PCD、PCBN、陶瓷膜、硬质合金、不锈钢、热处理钢和钼）进行精细加工。在工业加工中，没有激光，很难实现。然而，典型的激光加工机的加工质量主要取决于激光成形加工，而激光成形加工的精度只有 ±0.1 mm 。 这是因为激光是以切割为主的行业。相比之下，微泰加工技术非常成熟，生产和供应精度高、质量高的激光加工产品。应用于PCD嵌件、断屑漕、激光固定板、Ink-

cup板、MLCC测包机分度盘。

飞秒激光利用相对较短的激光脉冲，热损伤很小，加工对象没有物性变形层，表面平整，可以实现超精密微孔加工。微泰 利用先进的飞秒激光高速螺旋钻削技术，用扫描仪，可以在任何位置自由调整聚焦点，还可以调节激光束的入射角，从而实现锥度、直锥度可以进行倒锥度等，所需的微孔的几何加工。本系统通过调整入射角和焦距，可以进行产业所需的各种形状的加工，可以进行5um到200um的精密孔加工。此外，还可以进行MAX10度角的倒锥孔和三维加工。激光加工完成后，用微孔检测系统，将载入相应的坐标信息。通过视觉扫描，确认每个微孔的大小和位置信息，并将其识别合格还是不合格。收集完成后，按下返工按钮即可进行再加工。本技术适用于，需要超精密加工的半导体制造设备零件、医疗领域设备及器材配件，各种传感器相关配件，适用于光学相关设备和零件的精密加工领域。特别是用于MLCC制造中的薄膜片叠层用真空板微孔加工。有微孔加工需求，超精密加工需求，请联系！激光超精密加工的切割面光滑：激光切割的切割面无毛刺。

微泰以30年的技术和经验为基础，生产各种Cutter刀片和Blade刀具。对于MLCC及Film、二次电池等各种生产现场的切割处理，所需的刀片类不是单纯的切割，而是需要精密的进给度及切割边缘的角度管理、先进的材料管理等，以避免对被切割物造成损伤。通常，Cutter类被称为blade、cutter、knife、verticalblade、wheelcutter等多种名称，关键技术刀刃部的管理技术是Cutter类的重点技术点。为此，微泰提供了可靠、可靠的高精度、好品质、长寿命的各种刀片。超薄，超锋利的镜头切割器，光滑无毛边地切割塑料镜片的浇口，占韩国塑料镜头切割刀片90%以上的市场。对于大件产品的加工，大件产品的模具制造费用很高，激光超精密加工不需任何模具制造。微加工超精密刀具制造

超精密激光表面处理的特点是无需使用外加材料，只改变被处理材料表面层的组织结构，被处理件变形很小。自动化超精密真空板

微泰真空卡盘精密的半导体晶圆真空吸盘是半导体制造设备的关键部件，可确保晶圆表面的平坦度和平行度，从而在半导体制造过程中安全地固定晶圆，使各种制造过程顺利进行。微泰使无氧铜、铝、SUS 材料的半导体晶圆真空吸盘的平坦度保持在 3 微米以下；支持 6 英寸、 8 英寸和 12 英寸尺寸的晶圆加工；支持 2 层和 3 层的高级加工技术。 提供 4 层连接。尺寸： 6 英寸， 8 英寸.12 英寸。材料: AL6061, AL7075, SUS304, SUS316OFHC(Oxygen free High Conductivity Copper) 平面度公差：小于 3 um 连接: 2floor, 3floor, 4floor 表面处理: Anodizing, Electroless Nickel Plating,Gold Plating, Mirror Polishing。无氧铜 (OFHC) 半导体晶圆真空卡盘，无氧铜 (OFHC) 材料可延长晶圆卡盘的使用寿命，并可MAX限度地减少杂质进入半导体材料，从而防止潜在污染，而且易于加工和成型，可精确匹配卡盘设计。 可加工 。 然而，这种材料的加工要求极高，需要特别小心和精确才能获得光滑的表面光洁度，例如翘曲或毛刺、易变形和加工过程中的硬化。自动化超精密真空板