做试验箱规格尺寸

本篇介绍专业全自动HMDS真空烤箱，首先简单介绍一下HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。试验箱的运用领域有哪些呢？做试验箱规格尺寸

无氧干燥箱应用于航空、航天、石油、化工、、船舶、电子、通讯等科研及生产单位，主要作BPO胶/PI胶/BCB胶固化，模压固烤、IC（晶圆、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指纹识别）、FPD、高精密电子元件、电子陶瓷材料无尘烘干，电工产品、材料、零备件等的高温洁净和无氧环境中干燥和老化试验。下面为大家简单介绍一下无氧干燥箱。 1.技术指标与基本配置： 1.1使用温度：RT～260℃，极限温度：300℃； 1.2炉膛腔数:2个,上下布置； 1.3炉膛材料：SUS304镜面不锈钢；加热元件：不锈钢加热器；热偶：K分度 1.4温度和氧含量记录:无纸记录仪； 2.氧含量（配氧分析仪）： 2.1高温状态氧含量：≤ 10ppm +气源氧含量;低温状态氧含量：≤ 20ppm +气源氧含量 2.2控温稳定度：±1℃； 2.3温度均匀度：±2%℃（260℃平台）；高低温试验箱代理公司试验箱，有哪些好处值得选择？

超高真空烘箱广泛应用于航空、航天、电子、通讯等科研及生产单位。确定仪器仪表、电工产品、材料、零部件、设备等在低气压、高温单项或同时作用下的环境适应性与可靠性试验。下面为大家介绍一下超高真空烘箱的主要技术指标。1.工作室温度范围：常温～+300℃用户使用温度260℃2.温度波动度：±1.0℃（空载）；3.温度偏差：常压温度试验：常温～200℃时±2℃200～300℃时±5.0℃低气压高温综合试验:≤100℃时±2.0℃，100℃～200℃时±5.0℃200℃～300℃时±7.0℃

真空烘箱是将干燥物料处于负压条件下进行干燥的一种箱体式干燥设备。它是利用真空泵进行抽气抽湿，使工作室内形成真空状态，降低水的沸点，加快干燥的速度。下面为大家介绍一下真萍科技真空烘箱的特点。1.长方体工作室，使有效容积达到相当大，微电脑温度控制器，精确控温。2.钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体，一目了然。3.箱体闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度4.工作室采用不锈钢板(或拉丝板)制成，确保产品经久耐用。5.储存、加热、试验和干燥都是在没有氧气或者充满惰性气体环境里进行，所以不会氧化。6.相当短加热时间，与传统干燥烘箱比加热时间减少50%以上。真空烘箱因为是由电力提供热能，而湿的物品是会导电的，故在使用上宜小心不要有漏电的现象发生，故一般烘箱都要接地使用，以保安全。若没有地线也要确认烘箱没有漏电的现象；若有轻微的漏电现象，可试着将插座拔起后将插脚以相反方向再插入，若没有漏电现象可小心使用，若仍有漏电现象则应立即停用。试验箱的重要组成部分。

隧道炉适用于五金模具、航天航空、纳米材料、精密陶瓷、粉末治金、铁氟龙喷涂、五金、锂电池、化工、运动器材、汽车零配件、电机、化工、工业之烘烤、干燥、预热回火、退火、老化等用途。作为隧道炉的质量供应商原产厂家，小编下面就为大家介绍一下真萍科技隧道炉的产品材质的构成。1.外箱构成。外箱采用1.5mm厚Q235冷轧钢板/内箱采用1.5mm厚SUS304#不锈钢2.系统装置保护装置定时报警断电装置、超温断电、漏电保护断路器、电机过载保护。试验箱的功能具体介绍！四川大试验箱

合肥真萍告诉您试验箱的应用范围。做试验箱规格尺寸

真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex阿摩利亚气体)破坏，解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线，解决液晶的受潮问题，解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜的柜体规格、配备。1.左右双开门，3mm钢化玻璃，1mm厚不锈钢板，气密式隐藏锁把手。2.柜体密封高吸附力磁性胶条与柜体密闭，脚垫采高承载车轮及调整高低脚垫。3.附高载重不锈钢隔板，柜体加装高载重煞车轮。4.上掀式气密盖，方便FFU保养及维修。5.回风循环设计，单向氮气循环不产生紊流。6.背面气密开门式设计，方便洁净清理与保养。做试验箱规格尺寸