东莞低压气相沉积真空镀膜技术

用高能粒子轰击固体表面时能使固体表面的粒子获得能量并逸出表面，沉积在基片上。溅射现象于1870年开始用于镀膜技术，1930年以后由于提高了沉积速率而逐渐用于工业生产。常用的二极溅射设备通常将欲沉积的材料制成板材──靶,固定在阴极上。基片置于正对靶面的阳极上,距靶几厘米。系统抽至高真空后充入10~1帕的气体(通常为氩气)，在阴极和阳极间加几千伏电压，两极间即产生辉光放电。放电产生的正离子在电场作用下飞向阴极，与靶表面原子碰撞，受碰撞从靶面逸出的靶原子称为溅射原子,其能量在1至几十电子伏范围。溅射原子在基片表面沉积成膜。与蒸发镀膜不同，溅射镀膜不受膜材熔点的限制,可溅射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等难熔物质。LPCVD主要特征是因为在低压环境下，反应气体的平均自由程及扩散系数变大，膜厚均匀性好、台阶覆盖性好。东莞低压气相沉积真空镀膜技术

真空镀膜机EMI溅射镀膜具有以下特点：磁控溅射是一种高速率低基片温升的成膜技术。1.被溅射基材几无限制（PC、ABS、PC+ABS、陶瓷、、玻璃等）2.膜质致密均匀、膜厚容易控制。3.溅射粒子的初始动能大，溅射薄膜的结合力强（D3359-93方法测试）。4.溅射薄膜的致密度高、小孔少、品质因数高。5.在反应气氛中可以直接获得化合膜。6.溅射时基片的温升低。7.在相同的工艺条件、溅射功率下，溅射速率几乎不变，故可以用时间来估算沉积的膜厚。8.价格低。9.真空溅射加工的金属薄膜厚度只有0.5～2μm，一定不影响装配。10.真空溅射是彻底的环保制程，一定环保无污染。山东共溅射真空镀膜加工蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。

真空镀膜机镀铝薄膜与铝箔复合材料相比具有以下特点：（1）较大减少了用铝量，节省了能源和材料，降低了成本，复合用铝箔厚度多为7～gpm，而镀铝薄膜的铝层厚度约为0．05n左右，其耗铝量约为铝箔的1/140～1/180，且生产速度可高达450m/min。（2）具有优良的耐折性和良好的韧性，比较少出现小孔和裂口，无揉曲龟裂现象，因此对气体、水蒸汽、气味、光线等的阻隔性提高。（3）具有较佳的金属光泽，光反射率可达97%；且可以通过涂料处理形成彩色膜，其装潢效果是铝箔所不及的。（4）可采用屏蔽式进行部分镀铝，以获得任意图案或透明窗口，能看到内装物。（5）真空镀膜机镀铝层导电性能好，能消除静电效应；其封口性能好，尤其包装粉末状产品时，不会污染封口部分，保证了包装的密封性能。（6）对印刷、复合等后加工具有良好的适应性。

真空镀膜的操作规程：1.在真空镀膜机运转正常情况下，开动真空镀膜机时，必须先开水管，工作中应随时注意水压。2.在离子轰击和蒸发时，应特别注意高压电线接头，不得触动，以防触电。3.在用电子头镀膜时，应在钟罩周围上铝板。观察窗的玻璃较好用铅玻璃，观察时应戴上铅玻璃眼镜，以防X射线侵害人体。4.镀制多层介质膜的镀膜间，应安装通风吸尘装置，及时排除有害粉尘。5.易燃有毒物品要妥善保管，以防失火中毒。6.酸洗夹具应在通风装置内进行，并要戴橡皮手套。7.把零件放入酸洗或碱洗槽中时，应轻拿轻放，不得碰撞及溅出。平时酸洗槽盆应加盖。8.工作完毕应断电、断水。评价氧化硅薄膜的质量：腐蚀速率越慢，薄膜质量越致密，反之，腐蚀速率越快，薄膜质量越差。

真空镀膜机多室连续式真空炉由进料室、预热室、高温工作室、冷却室、出料室、中间闸板阀、真空系统、工件传递系统、水冷系统、电控系统等部分组成。由于采用积木组合式设计，根据用户需要可以任意搭配组合成七室、五室、三室等不同规模的生产线，以满足大小不同的产量需要。1、炉体与炉门为了充分利用炉体的内部空间，减轻真空系统的负载，炉体采用方箱型结构，既实用又美观。预热室、高温工作室、冷却室、出料室均为水冷双层式炉壳,炉体内壁采用出气率低的奥氏体不锈钢材料制造，外壁用碳钢材料。进料室为单层式炉壳。真空镀膜机、真空镀膜设备炉门采用悬垂吊挂式平移结构，便于炉外料车与炉内辊轴的对接传递，减少占地空间。真空镀膜的操作规程：在离子轰击和蒸发时，应特别注意高压电线接头，不得触动，以防触电。甘肃光电器件真空镀膜加工厂

真空镀膜机压铸技术用于生产铝、镁、锌、铜基合金铸件，在机械制造行业应用已有多年的历史。东莞低压气相沉积真空镀膜技术

真空镀膜机多弧离子镀膜被加工材料的品种、软硬、脆韧，加工条件是干磨、湿磨，压力大小，真空镀膜设备多弧离子镀膜要求加工的表面状况，真空镀膜机多弧离子镀膜是要求加工锋利、或突出耐用等等的不同，多弧离子镀膜都会对我们选择磨料品种、品级、粒度，选择镀液的种类、配方、工艺，选择多弧离子镀膜参数等等产生不同的影响。尤其当研制新产品时，真空镀膜机多弧离子镀膜对每次试验的数据如磨削条件、结果等，要有周全、真实的记录，这些是我们再次对产品进行试验改进的重要依据。东莞低压气相沉积真空镀膜技术