南通微型真空泵价目

正确地选择真空泵的工作压力。每种泵都有一定的工作压强范围 , 当泵需要的气体压力不高或所需的真空度不高的时候，可优先在单级泵中进行选择，度过排气压力或真空度的要求比较高，单级泵往往不可以满足要求，可以选择使用两级泵或者多级泵。 如:扩散泵为10-3~10-7mmHg ,在这样宽压强范围内,泵的抽速随压强而变化,其稳定的工作压强范围为5*10-4~5x10-6mmHg。因而,泵的工作点应该选在这个范围之内,而不能让它在10-8mmHg下长期工作。又如钛升华泵可以在10-2mmHg下工作,但其工作压强应小于1x10-5mmHg为好。 检查真空泵各操作控制开关是否在"关"位置。南通微型真空泵价目

了解被抽气体成分,气体中含不含可凝蒸气,有无颗粒灰尘,有无腐蚀性等。选择真空泵时,需要知道气体成分,针对被抽气体选择相应的泵。如果气体中含有蒸气、颗粒、及腐蚀性气体,应该考虑在泵的进气口管路上安装辅助设备,如冷凝器、除尘器等。真空泵排出来的油蒸气对环境的影响如何。如果环境不允许有污染,可以选无油真空泵,或者把油蒸气排到室外。真空泵工作时产生的振动对工艺过程及环境有无影响。若工艺过程不允许,应选择无振动的泵或者采取防振动措施。真空泵的价格、运转及维修费用也是我们考虑的重点之一。滨湖区购买真空泵解决方案真空泵操作程序具体操作时请参照该设备说明书。

真空泵主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空电阻加热蒸发，电子加热蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积，离子束溅射等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且之后沉积在基片表面，经历成膜过程，之后形成薄膜。

真空泵主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。常用于对半导体、光伏、电子、精密光学等行业的纳米级表面处理。一般通过电子发射高压电子轰击坩埚中的待镀靶材，使其在高真空下蒸发并沉积在被镀基片上以获得镀膜。 系统配置： *自动化控制器: e-Control PLC，是控制系统的重要硬件平台。 *人机界面硬件: TPC1503工业级15寸触摸式平板电脑，稳定可靠。 *人机界面软件: NETSCADA组态软件开发平台，提供真空泵的控制和监视。把PVDF薄膜和铝盖板固定在转动圆盘上。

薄膜均匀性概念: 1.厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看（也就是1/10波长作为单位，约为100A），真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。 2.化学组分上的均匀性： 就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。 真空泵厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度。苏州正规真空泵拆装

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真空泵使用步骤: 电控柜操作: 1. 开水泵、气源。 2. 开总电源。 3. 开维持泵、真空计电源，真空计档位置V1位置，等待其值小于10后，再进入下一步操作。约需5分钟。 4. 开机械泵、预抽，开涡轮分子泵电源、并启动，真空计开关换到V2位置，抽到小于2为止，约需20分钟。 5. 观察涡轮分子泵读数到达250以后，关预抽，开前级泵和高真空阀继续抽真空，抽真空到达一定程度后才能开右边的高真空表头，观察真空度。真空到达2×10-3以后才能打开电子电源。 DEF-6B操作: 1. 总电源。 2. 同时开电子控制Ⅰ和电子控制Ⅱ电源：按电子控制Ⅰ电源、延时开关，延时、电源及保护灯亮，三分钟后延时及保护灯灭，若后门未关好或水流继电器有故障，保护灯会常亮。 3. 开高压，高压会达到10KV以上，调节束流可到200mA左右，帘栅为20V/100mA，灯丝电流1.2A，偏转电流在1~1.7之间摆动。南通微型真空泵价目

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