杭州钕铁硼厂家报价

    当相邻两个工作室之间设置的封闭门封闭时，该相邻两个工作室隔离；在初始状态，所有的封闭门均处于封闭状态；设置一自动传送设备贯穿五个工作室，将五个工作室从前往后依次称为进料室、预热室、磁控溅射室、冷却室和出料室，②-2将钕铁硼磁体间隔摆放至网板上，每相邻两块钕铁硼磁体之间的间隔距离大于钕铁硼磁体的厚度；②-3将摆放好钕铁硼磁体的网板采用自动传送设备送入进料室，然后将进料室密封后抽真空至×10-3pa；②-4将进料室和预热室之间的封闭门打开，自动传送设备将进料室中的钕铁硼磁体送入预热室中，将进料室和预热室之间的封闭门再次封闭，在预热室中采用预烘设备对钕铁硼磁体进行预烘，预烘温度为100℃，预烘时间为10分钟；②-5将预热室和磁控溅射室之间的封闭门打开，自动传送设备将预热后的钕铁硼磁体送入磁控溅射室中，然后将磁控溅射室和预热室之间的封闭门再次封闭，在磁控溅射室中采用磁控溅射设备对钕铁硼磁体进行磁控溅射处理，其中，磁控溅射处理靶材采用镍，靶功率为200w，气压为，在钕铁硼磁体表面形成的溅射膜层的厚度为3-8μm，处理时间为10分钟；②-6将磁控溅射室和冷却室之间的封闭门打开。钕铁硼磁体的磁性能随温度变化小，适用于高温环境。杭州钕铁硼厂家报价

    该电镀化学镍处理工序作为连续磁控溅射镀镍处理工序的辅助工序，在溅射膜层表面再次形成镀层，增强产品防腐性、耐磨性以及镀层均匀性。所述的预处理的具体过程为：①-1在温度为50-70℃条件下对钕铁硼磁体进行碱性脱脂处理；①-2对碱性脱脂处理后的钕铁硼磁体依次进行两次水洗；①-3采用硝酸酸洗液在室温条件下对钕铁硼磁体进行酸洗，硝酸酸洗液由硝酸和水均匀混合形成，硝酸酸洗液中硝酸的质量百分比为5-7％；①-4对酸洗后的钕铁硼磁体依次进行两次水洗；①-5将钕铁硼磁体放入超声波除油液中采用超声波设备进行超声波除油处理，超声波除油液由焦磷酸钾、碳酸钠、op乳化剂和水均匀混合形成，超声波除油液中，焦磷酸钾的浓度为40-60g/l，碳酸钠的浓度为5-15g/l，op乳化剂的浓度为；①-6对钕铁硼磁体依次进行两次水洗；①-7对钕铁硼磁体进行超声波水洗；①-8采用酒精对钕铁硼磁体进行清洗，然后吹干，预处理完成。该预处理方案可以有效钕铁硼磁体基体与磁控溅射镀镍膜层之间结合力的要求。与现有技术相比，本发明的优点在于先对钕铁硼磁体进行预处理，然后对预处理后的钕铁硼磁体进行连续磁控溅射镀镍处理在钕铁硼磁体本身表面形成致密的溅射镍层。湖州铝铁铜钕铁硼钕铁硼可以用于制造各种磁性玩具，如磁性拼图、磁性飞碟等。

    本发明解决上述技术问题所采用的技术方案为：一种钕铁硼磁体复合镀镍方法，包括以下步骤：①对钕铁硼磁体进行预处理；②对预处理后的钕铁硼磁体进行连续磁控溅射镀镍处理；③对连续磁控溅射镀镍处理后的钕铁硼磁体进行电镀化学镍处理。所述的对预处理后的钕铁硼磁体进行连续磁控溅射镀镍处理的具体过程为：②-1搭建对预处理后的钕铁硼磁体进行连续磁控溅射镀镍处理过程中所需的处理室，所述的处理室包括从前往后依次设置的五个工作室，每相邻两个工作室之间设置封闭门，当相邻两个工作室之间设置的封闭门打开时，该相邻两个工作室连通，当相邻两个工作室之间设置的封闭门封闭时，该相邻两个工作室隔离；在初始状态，所有的封闭门均处于封闭状态；设置一自动传送设备贯穿五个工作室，将五个工作室从前往后依次称为进料室、预热室、磁控溅射室、冷却室和出料室，②-2将钕铁硼磁体间隔摆放至网板上，每相邻两块钕铁硼磁体之间的间隔距离大于钕铁硼磁体的厚度；②-3将摆放好钕铁硼磁体的网板采用自动传送设备送入进料室，然后将进料室密封后抽真空至≤×10-3pa；②-4将进料室和预热室之间的封闭门打开，自动传送设备将进料室中的钕铁硼磁体送入预热室中。

    钕铁硼磁铁毛坯生产工具和性能检测工具：有熔炼炉、甩带炉、鄂破机、气流磨、压制成型机、真空封装机、等静压机、烧结炉、热处理真空炉、磁性能测试仪、高斯计。钕铁硼磁铁机加工工具：无心磨，滚圆机，双端磨，平磨，切片机，双面磨，线切割，台钻，异形磨等。[1]钕铁硼发展历史编辑钕铁硼，也称为钕铁硼磁铁（NdFeBmagnet），是由钕、铁、硼（Nd2Fe14B）形成的四方晶系晶体。于1982年由日本住友特殊金属的佐川真人（MasatoSagawa）发现钕磁铁。这磁铁的磁能积（BHmax）于钐钴磁铁，是全世界那时磁能积的物质。后来，住友特殊金属发展成功粉末冶金法（powdermetallurgyprocess）。通用汽车公司发展成功旋喷熔炼法（melt-spinningprocess），能够制备钕铁硼磁铁。这磁铁是现今磁性强的永久磁铁，也是常使用的稀土磁铁。钕铁硼可以用于制造各种磁性辅助设备，如磁性灯、磁性钟表等。

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钕铁硼的磁性能力比铁氧体和钴磁体更强。杭州钕铁硼厂家报价

    预烘温度为120℃，预烘时间为20分钟；②-5将预热室和磁控溅射室之间的封闭门打开，自动传送设备将预热后的钕铁硼磁体送入磁控溅射室中，然后将磁控溅射室和预热室之间的封闭门再次封闭，在磁控溅射室中采用磁控溅射设备对钕铁硼磁体进行磁控溅射处理，其中，磁控溅射处理靶材采用镍，靶功率为400w，气压为，在钕铁硼磁体表面形成的溅射膜层的厚度为3-8μm，处理时间为20分钟；②-6将磁控溅射室和冷却室之间的封闭门打开，自动传送设备将磁控溅射处理后的钕铁硼磁体送入冷却室中，磁控溅射室和冷却室之间的封闭门封闭，在冷却室中采用冷却设备将钕铁硼磁体冷却至80℃以下；②-7将冷却室和出料室之间的封闭门打开，自动传送设备将冷却后的钕铁硼磁体送入出料室中，将冷却室和出料室之间的封闭门封闭，从出料室内取出网板；②-8将网板上的钕铁硼磁体翻面后间隔摆放至网板上，每相邻两块钕铁硼磁体之间的间隔距离大于钕铁硼磁体的厚度；②-9按照步骤②-3～②-7的方法对钕铁硼磁体进行再次处理，得到连续磁控溅射镀镍处理后的钕铁硼磁体。本实施例中。杭州钕铁硼厂家报价