杭州钕铁硼永磁体

时间:2024年01月16日 来源:

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    该连续磁控溅射镀镍处理采用连续式的生产流程,生产节拍可为40min/网板,较常规磁控溅射镀镍工序,工序流程较短,生产效率提高,可满足快速生产需求。所述的对连续磁控溅射镀镍处理后的钕铁硼磁体进行电镀化学镍处理的具体过程为:③-1将连续磁控溅射镀镍处理后的钕铁硼磁体装入滚筒内,采用硫酸溶液进行活化处理,硫酸溶液由硫酸和水均匀混合形成,硫酸溶液中硫酸的质量百分比为2-3%,活化处理过程中,滚筒转速为2-4r/min;③-2对活化处理后的钕铁硼磁体依次进行两次水洗,两次水洗均在滚筒内进行,滚筒转速为2-4r/min;③-3将两次水洗后的钕铁硼磁体采用ph值为,电镀溶液温度为88℃-93℃,电镀溶液由硫酸镍、次磷酸钠、醋酸钠、柠檬酸钠和水均匀混合形成,该电镀溶液中,硫酸镍的浓度为25-32g/l,次磷酸钠的浓度为20-30g/l,醋酸钠的浓度为10-20g/l,柠檬酸钠的浓度为8-12g/l,电镀完成后,溅射膜层表面形成厚度为4-8μm的化学镍层;③-4在滚筒内依次进行三次水洗,滚筒转速为2-4r/min;③-5采用草酸溶液对钕铁硼磁体进行清洗,草酸溶液由草酸和水均匀混合形成,草酸溶液中草酸的浓度为1-3g/l;③-6依次进行两次水洗,化学镍处理完成。

    在所述密封排气装置内进行上下跳动运动实现气体排放。通过密封排气装置设置的透明观察窗,作业员可以肉眼可以直观判定机台气体流动和气流量的排放大小,本实用新型结构简单,提高了钕铁硼永磁体生产过程中的安全性。附图说明图1为本实用新型实施例乒乓球单向排气阀的立体结构示意图;图2为本实用新型实施例乒乓球单向排气阀的正面示意图;图3为图2的a-a剖视图;图4为本实用新型实施例乓球单向排气阀的底面结构示意图。其中:标号名称标号名称1连接管6固定支柱2法兰31透明观察窗3密封排气装置32进气口4第二法兰33乒乓球柱5排气管34乒乓球具体实施方式下面将结合附图以及具体实施例来详细说明本实用新型,在此以本实用新型的示意下面将结合附图以及具体实施例来详细说明本实用新型,在此以本实用新型的示意性实施例及说明用来解释本实用新型,但并不作为对本实用新型的限定。需要说明,本实用新型实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后、顶端、末端、顶部、底部……)用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等,如果该特定姿态发生改变时,则该方向性指示也相应地随之改变。在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定。钕铁硼磁体的磁性能优异,能够满足电力设备的需求。

    3010)螯合薄膜无镀层处理,该技术是原创性技术工艺,纳米膜层含有的活性基团具有很强的耐湿气,氧气,氯离子(Cl),二氧化碳(co2)等.耐腐蚀和有机树脂的黏合能力性能幅提高.其优异的表面物理化学性能对应用领域将产生重影响.2013年12月,该处理工艺经川,中科院系统检测.其耐腐蚀性能满足在海洋气候条件使用20-30年,可用于海基风力发电.表面黏结力20Mpa以上,可用于永磁高速电机,特种电机,电动汽车电机,特,直流供电系统,充电系统,航空航天等领域。常见表面处理方法:1,纳米(Royce3010)螯合薄膜无镀层处理;(3010是指膜层含3个以上三个以上活性螯合基团,膜层厚度10纳米);2,磷化;3,电镀;4,电泳;5,真空气相沉积;6,化学镀;7,有机喷塑;[1]钕铁硼应用编辑烧结钕铁硼永磁材料3010断面扫描电镜具有优异的磁性能,应用于电子、电力机械、医疗器械、玩具、包装、五金机械、航天航空等领域,较常见的有永磁电机、扬声器、磁选机、计算机磁盘驱动器、磁共振成像设备仪表等。纳米(Royce3010)螯合薄膜无镀层处理可以满足在海洋气候条件使用20-30年,可用于海基风力发电.表面黏结力20Mpa以上,可用于永磁高速电机,特种电机,电动汽车电机,特,直流供电系统,充电系统,航空航天等领域。钕铁硼磁体的磁性能优异,能够满足风力发电机的需求。上城区比较好的钕铁硼

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    预烘温度为120℃,预烘时间为20分钟;②-5将预热室和磁控溅射室之间的封闭门打开,自动传送设备将预热后的钕铁硼磁体送入磁控溅射室中,然后将磁控溅射室和预热室之间的封闭门再次封闭,在磁控溅射室中采用磁控溅射设备对钕铁硼磁体进行磁控溅射处理,其中,磁控溅射处理靶材采用镍,靶功率为400w,气压为,在钕铁硼磁体表面形成的溅射膜层的厚度为3-8μm,处理时间为20分钟;②-6将磁控溅射室和冷却室之间的封闭门打开,自动传送设备将磁控溅射处理后的钕铁硼磁体送入冷却室中,磁控溅射室和冷却室之间的封闭门封闭,在冷却室中采用冷却设备将钕铁硼磁体冷却至80℃以下;②-7将冷却室和出料室之间的封闭门打开,自动传送设备将冷却后的钕铁硼磁体送入出料室中,将冷却室和出料室之间的封闭门封闭,从出料室内取出网板;②-8将网板上的钕铁硼磁体翻面后间隔摆放至网板上,每相邻两块钕铁硼磁体之间的间隔距离大于钕铁硼磁体的厚度;②-9按照步骤②-3~②-7的方法对钕铁硼磁体进行再次处理,得到连续磁控溅射镀镍处理后的钕铁硼磁体。本实施例中。杭州钕铁硼永磁体

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