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    对连续磁控溅射镀镍处理后的钕铁硼磁体进行电镀化学镍处理，通过化学镍沉积，在溅射镍层表面形成致密的电镀镍层，保证钕铁硼磁体具有较高的防腐性和耐磨性，磁控溅射处理过程与电镀化学镍处理过程中均无尖点效应，溅射镍层和电镀镍层形成的复合镀层均匀性好，产品尺寸易，而且采用连续磁控溅射镀镍，缩短电镀制程，废水将减少70％以上，经测试，采用本发明的方法处理的钕铁硼磁体相对于现有方法处理的钕铁硼磁体，其耐腐蚀性试验经受时间为120-160h，提高了，使用寿命长，运行可靠性高，应用领域广。具体实施方式以下结合实施例对本发明作进一步详细描述。实施例一：一种钕铁硼磁体复合镀镍方法，包括以下步骤：①对钕铁硼磁体进行预处理；②对预处理后的钕铁硼磁体进行连续磁控溅射镀镍处理；③对连续磁控溅射镀镍处理后的钕铁硼磁体进行电镀化学镍处理。本实施例中，对预处理后的钕铁硼磁体进行连续磁控溅射镀镍处理的具体过程为：②-1搭建对预处理后的钕铁硼磁体进行连续磁控溅射镀镍处理过程中所需的处理室，处理室包括从前往后依次设置的五个工作室，每相邻两个工作室之间设置封闭门，当相邻两个工作室之间设置的封闭门打开时，该相邻两个工作室连通。钕铁硼可以用于制造各种汽车零部件，如电动汽车马达、刹车系统等。国产钕铁硼推荐

    该连续磁控溅射镀镍处理采用连续式的生产流程，生产节拍可为40min/网板，较常规磁控溅射镀镍工序，工序流程较短，生产效率提高，可满足快速生产需求。所述的对连续磁控溅射镀镍处理后的钕铁硼磁体进行电镀化学镍处理的具体过程为：③-1将连续磁控溅射镀镍处理后的钕铁硼磁体装入滚筒内，采用硫酸溶液进行活化处理，硫酸溶液由硫酸和水均匀混合形成，硫酸溶液中硫酸的质量百分比为2-3％，活化处理过程中，滚筒转速为2-4r/min；③-2对活化处理后的钕铁硼磁体依次进行两次水洗，两次水洗均在滚筒内进行，滚筒转速为2-4r/min；③-3将两次水洗后的钕铁硼磁体采用ph值为，电镀溶液温度为88℃-93℃，电镀溶液由硫酸镍、次磷酸钠、醋酸钠、柠檬酸钠和水均匀混合形成，该电镀溶液中，硫酸镍的浓度为25-32g/l，次磷酸钠的浓度为20-30g/l，醋酸钠的浓度为10-20g/l，柠檬酸钠的浓度为8-12g/l，电镀完成后，溅射膜层表面形成厚度为4-8μm的化学镍层；③-4在滚筒内依次进行三次水洗，滚筒转速为2-4r/min；③-5采用草酸溶液对钕铁硼磁体进行清洗，草酸溶液由草酸和水均匀混合形成，草酸溶液中草酸的浓度为1-3g/l；③-6依次进行两次水洗，化学镍处理完成。国产钕铁硼推荐钕铁硼可以制成各种复杂尺寸的磁体，如微小的电子元件和大型的发电机。

    当相邻两个工作室之间设置的封闭门封闭时，该相邻两个工作室隔离；在初始状态，所有的封闭门均处于封闭状态；设置一自动传送设备贯穿五个工作室，将五个工作室从前往后依次称为进料室、预热室、磁控溅射室、冷却室和出料室，②-2将钕铁硼磁体间隔摆放至网板上，每相邻两块钕铁硼磁体之间的间隔距离大于钕铁硼磁体的厚度；②-3将摆放好钕铁硼磁体的网板采用自动传送设备送入进料室，然后将进料室密封后抽真空至×10-3pa；②-4将进料室和预热室之间的封闭门打开，自动传送设备将进料室中的钕铁硼磁体送入预热室中，将进料室和预热室之间的封闭门再次封闭，在预热室中采用预烘设备对钕铁硼磁体进行预烘，预烘温度为100℃，预烘时间为10分钟；②-5将预热室和磁控溅射室之间的封闭门打开，自动传送设备将预热后的钕铁硼磁体送入磁控溅射室中，然后将磁控溅射室和预热室之间的封闭门再次封闭，在磁控溅射室中采用磁控溅射设备对钕铁硼磁体进行磁控溅射处理，其中，磁控溅射处理靶材采用镍，靶功率为200w，气压为，在钕铁硼磁体表面形成的溅射膜层的厚度为3-8μm，处理时间为10分钟；②-6将磁控溅射室和冷却室之间的封闭门打开。

    术语“连接”应做广义理解，例如，“连接”可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。另外，在本实用新型中如涉及“”、“第二”等的描述用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本实用新型要求的保护范围之内。如图1至图4所示，一种钕铁硼永磁乒乓球单向排气阀，包括安装于机台上的连接管1；其中：所述连接管1上端通过法兰2连接有密封排气装置3；所述密封排气装置3设有透明观察窗31；所述密封排气装置3的底部设置有若干进气口32；所述进气口32连接有乒乓球柱33。钕铁硼磁体的磁性能优异，能够满足高速旋转机械的需求。

    本发明解决上述技术问题所采用的技术方案为：一种钕铁硼磁体复合镀镍方法，包括以下步骤：①对钕铁硼磁体进行预处理；②对预处理后的钕铁硼磁体进行连续磁控溅射镀镍处理；③对连续磁控溅射镀镍处理后的钕铁硼磁体进行电镀化学镍处理。所述的对预处理后的钕铁硼磁体进行连续磁控溅射镀镍处理的具体过程为：②-1搭建对预处理后的钕铁硼磁体进行连续磁控溅射镀镍处理过程中所需的处理室，所述的处理室包括从前往后依次设置的五个工作室，每相邻两个工作室之间设置封闭门，当相邻两个工作室之间设置的封闭门打开时，该相邻两个工作室连通，当相邻两个工作室之间设置的封闭门封闭时，该相邻两个工作室隔离；在初始状态，所有的封闭门均处于封闭状态；设置一自动传送设备贯穿五个工作室，将五个工作室从前往后依次称为进料室、预热室、磁控溅射室、冷却室和出料室，②-2将钕铁硼磁体间隔摆放至网板上，每相邻两块钕铁硼磁体之间的间隔距离大于钕铁硼磁体的厚度；②-3将摆放好钕铁硼磁体的网板采用自动传送设备送入进料室，然后将进料室密封后抽真空至≤×10-3pa；②-4将进料室和预热室之间的封闭门打开，自动传送设备将进料室中的钕铁硼磁体送入预热室中。钕铁硼可以用于制造各种磁性教学设备，如磁性演示板、磁性实验器材等。鄞州区什么是钕铁硼

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    经过该工艺原材料经过热熔、冷却加工成合金片，进而进行下一道工艺。铸锭不仅对制粉、取向、烧结工艺，而且对粉末性质和终烧结磁性能均有重要影响。没有的铸锭，就不可能造出高性能的烧结永磁体，铸锭是制约磁体性能的关键技术之一。简单理解：原材料通过工程师不同的配比组合，放入铸片炉，设置参数进行熔解，冷却后成为下图。甩带片03甩带氢破公司原材料生产设备——氢碎炉氢破的过程就是甩带片变成粗粉的过程氢破碎HD（HydrogenDecrepitation）工艺是利用稀土合金和氢气的相互作用达到破碎铸锭合金的目的，其工艺过程是将具有新鲜表面的熔炼甩带片装入密闭容器，抽真空后充入高纯氢气，使氢气压为两个大气压左右，数分钟后就会听到合金锭的爆裂声并伴随着温度的升高。这个过程就成为“氢爆”(HD)，此过程是Nd-Fe-B合金发生氢化的结果。04气流磨公司原材料生产设备——气流磨制粉机气流磨的过程就是粗粉变成细粉的过程为了获取良好取向的磁体，要求粉末颗粒尺寸小（3-4μm）且尺寸分布集中，粉末颗粒呈球状或近似球状。气流磨是利用气流将搅拌后的粗粉吹起，气流膨胀后带动碰撞后的物料上升进入分级区，在分级区中由涡轮式分组轮分选出达到粒度的粉料。国产钕铁硼推荐