奉化区定制钕铁硼

时间:2024年02月19日 来源:

    宁波杰旺磁材有限公司凭借磁性材料生产和磁应用行业的地位与多年研发制造经验,公司一直致力于各种磁性夹具、起重设备及电控永磁吸盘等磁性产品的研发、设计和制造,坚持不懈地向客户提供日臻完美的换膜解决方案,目前换膜系统产品已成功运用到美的、长虹、TCL、海天等产品的部件加工上。磁电目前广泛应用于市场的产品有:永磁起重器、电控永磁吸盘、永磁吸盘、充磁机、退磁机、磁性器件、磁力架、磁性材料等。依托在磁应用领域的丰富经验,运用CAD/CAM设计的产品更贴近用户的实际工况,现代化的制造系统、高性能的磁钢、的检测系统和完善的售前售后服务体系,是我们为用户提供的技术支持和周到的服务、限度地满足用户需求这一使命的坚实保障。无论是在国内还是海外公司的产品都已获得普遍的良好生誉。钕铁硼磁体的磁性能优异,能够满足高速旋转机械的需求。奉化区定制钕铁硼

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    将进料室和预热室之间的封闭门再次封闭,在预热室中采用预烘设备对钕铁硼磁体进行预烘,预烘温度为100-120℃,预烘时间为10-20分钟;②-5将预热室和磁控溅射室之间的封闭门打开,自动传送设备将预热后的钕铁硼磁体送入磁控溅射室中,然后将磁控溅射室和预热室之间的封闭门再次封闭,在磁控溅射室中采用磁控溅射设备对钕铁硼磁体进行磁控溅射处理,其中,磁控溅射处理靶材采用镍,靶功率为200-400w,气压为,在钕铁硼磁体表面形成的溅射膜层的厚度为3-8μm,处理时间为10-20分钟;②-6将磁控溅射室和冷却室之间的封闭门打开,自动传送设备将磁控溅射处理后的钕铁硼磁体送入冷却室中,磁控溅射室和冷却室之间的封闭门封闭,在冷却室中采用冷却设备将钕铁硼磁体冷却至80℃以下;②-7将冷却室和出料室之间的封闭门打开,自动传送设备将冷却后的钕铁硼磁体送入出料室中,将冷却室和出料室之间的封闭门封闭,从出料室内取出网板;②-8将网板上的钕铁硼磁体翻面后间隔摆放至网板上,每相邻两块钕铁硼磁体之间的间隔距离大于钕铁硼磁体的厚度;②-9按照步骤②-3~②-7的方法对钕铁硼磁体进行再次处理,得到连续磁控溅射镀镍处理后的钕铁硼磁体。余杭区钕铁硼厂家钕铁硼可以用于制造各种家电产品,如电视、音响、电冰箱等。

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    包括以下步骤:①对钕铁硼磁体进行预处理;②对预处理后的钕铁硼磁体进行连续磁控溅射镀镍处理;③对连续磁控溅射镀镍处理后的钕铁硼磁体进行电镀化学镍处理。本实施例中,对预处理后的钕铁硼磁体进行连续磁控溅射镀镍处理的具体过程为:②-1搭建对预处理后的钕铁硼磁体进行连续磁控溅射镀镍处理过程中所需的处理室,处理室包括从前往后依次设置的五个工作室,每相邻两个工作室之间设置封闭门,当相邻两个工作室之间设置的封闭门打开时,该相邻两个工作室连通,当相邻两个工作室之间设置的封闭门封闭时,该相邻两个工作室隔离;在初始状态,所有的封闭门均处于封闭状态;设置一自动传送设备贯穿五个工作室,将五个工作室从前往后依次称为进料室、预热室、磁控溅射室、冷却室和出料室,②-2将钕铁硼磁体间隔摆放至网板上,每相邻两块钕铁硼磁体之间的间隔距离大于钕铁硼磁体的厚度;②-3将摆放好钕铁硼磁体的网板采用自动传送设备送入进料室,然后将进料室密封后抽真空至×10-3pa;②-4将进料室和预热室之间的封闭门打开,自动传送设备将进料室中的钕铁硼磁体送入预热室中,将进料室和预热室之间的封闭门再次封闭,在预热室中采用预烘设备对钕铁硼磁体进行预烘。

    ⑦烘干:将吹干或甩干的粘结钕铁硼磁体平放在铺设有脱脂纱布的网板上放入烘干机中,在温度为100℃‑130℃条件下烘烤30‑60分钟;⑧将烘干的粘结钕铁硼磁体进行再次前处理;⑨将再次前处理后的粘结钕铁硼磁体进行电泳处理或涂漆处理,粘结钕铁硼磁体表面形成防护层,防护层的厚度为10‑35um;⑩将电泳处理或涂漆处理后的粘结钕铁硼磁体先在温度为70℃‑90℃条件平10‑30分钟,再在温度为100‑200℃条件下烘烤10‑40分钟。【技术特征摘要】1.一种提高粘结钕铁硼磁体性能的方法,其特征在于包括以下步骤:①将待处理的粘结钕铁硼磁体进行前处理;②对前处理后的粘结钕铁硼磁体进行浸渗处理;③甩胶:将浸渗处理后的粘结钕铁硼磁体平铺在甩胶机底部,启动甩胶机进行甩胶处理,时间为1-5分钟;④清洗:将甩胶处理后的粘结钕铁硼磁体进行至少两次清洗;⑤将清洗后的粘结钕铁硼磁体放入温度为50-80℃的水中浸泡1-5分钟;⑥将浸泡后的粘结钕铁硼磁体吹干或甩干;⑦烘干:将吹干或甩干的粘结钕铁硼磁体平放在铺设有脱脂纱布的网板上放入烘干机中,在温度为100℃-130℃条件下烘烤30-60分钟;⑧将烘干的粘结钕铁硼磁体进行再次前处理。钕铁硼磁体的磁性能优异,能够满足磁力传感器的需求。

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    预烘温度为120℃,预烘时间为20分钟;②-5将预热室和磁控溅射室之间的封闭门打开,自动传送设备将预热后的钕铁硼磁体送入磁控溅射室中,然后将磁控溅射室和预热室之间的封闭门再次封闭,在磁控溅射室中采用磁控溅射设备对钕铁硼磁体进行磁控溅射处理,其中,磁控溅射处理靶材采用镍,靶功率为400w,气压为,在钕铁硼磁体表面形成的溅射膜层的厚度为3-8μm,处理时间为20分钟;②-6将磁控溅射室和冷却室之间的封闭门打开,自动传送设备将磁控溅射处理后的钕铁硼磁体送入冷却室中,磁控溅射室和冷却室之间的封闭门封闭,在冷却室中采用冷却设备将钕铁硼磁体冷却至80℃以下;②-7将冷却室和出料室之间的封闭门打开,自动传送设备将冷却后的钕铁硼磁体送入出料室中,将冷却室和出料室之间的封闭门封闭,从出料室内取出网板;②-8将网板上的钕铁硼磁体翻面后间隔摆放至网板上,每相邻两块钕铁硼磁体之间的间隔距离大于钕铁硼磁体的厚度;②-9按照步骤②-3~②-7的方法对钕铁硼磁体进行再次处理,得到连续磁控溅射镀镍处理后的钕铁硼磁体。本实施例中。钕铁硼是一种非常强大的磁性材料。杭州钕铁硼磁强

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