质量真空镀膜机作用

霍尔离子源霍尔离子源是阳极在一个强轴向磁场的协作下将工艺气体等离子化。这个轴向磁场的强不平衡性将气体离子分离并形成离子束。由于轴向磁场的作用太强，霍尔离子源离子束需要补充电子以中和离子流。常见的中和源就是钨丝（阴极）。霍尔离子源的特点是：1简单耐用。2离子电流与气体流量几乎成比例，可获得较大离子电流。3钨丝一般横跨在出口，收离子束冲击很快会销蚀，尤其对反应气体，一般十几个小时就需更换。并且钨丝还会有一定的污染。为解决钨丝的缺点。有采用较长寿中和器的，如一个小的空心阴极源。霍尔离子源可以说是应用较广的离子源。如Veece的MarkI和MarkII离子源。适用的如国产的大部分离子源。如果镀耐磨装饰膜，膜厚大，需要与机体结合力强，而均匀性要求不高。可用霍尔离子源。其离子电流大，且离子能级也高。如果是镀光学膜，则主要要求离子电流能级集中，离子电流均匀性好。故建议用Kaufman或RF离子源，有条件的可采用ECR（电子回旋）或ICP(感应耦合)离子源。另外，也要考虑到耗材，如用钨丝的霍尔源在反应气体中十来个小时就烧断了。而离子源如ICP离子源可在反应气体中连续工作几百小时。上海真空镀膜机厂家找哪家？质量真空镀膜机作用

与金属镀层间的附着性差塑料与金属镀层间的附着性差首先是由于塑料的表面能一般都比较低，表面极性差;其次塑料易带静电，表面容易吸附灰尘，同时塑料零件又软，化学稳定性差，不易得到真正清洁的表面，而塑料表面的清洁度是影响塑料与金属镀层间附着力的重要因素。第三，即使保持了塑料表面的清洁，由于塑料与金属的膨胀系数相差一个数量级，在成膜过程中或成膜后，温度变化会产生热应力，应力过大将会使镀层开裂甚至脱落。此外，由于沉积过程中金属膜结构受到工艺等因素的影响致使其内部产生一定的内应力，当内应力很大时，膜料沉积到塑料表面后，内应力会转移到金属镀层上来，从而降低镀层的稳定性，甚至使镀层开裂、起皱。为解决金属镀层与塑料基体的结合问题，保证镀层与塑料表面具有良好结合力，真空镀膜时，采用在塑料表面涂上与镀膜金属有亲和力的底涂层，或者对塑料表面进行电晕放电活化处理。江西质量真空镀膜机上海真空镀膜机报价找哪家？

磁控溅射靶是磁控镀膜的源，必须满足两个条件：一是具有正交的电磁场；二是磁场方向应与阴极靶面平行，形成一个封闭的环形水平磁场。从阴极靶面发射的电子被加速以获得阴极暗区的能量。由于阴极靶表面存在水平磁场，它们不能直接飞到阳极上。相反，在环形水平磁场形成的等离子体环中，它们按照近似摆线运动轨迹向前运动，电子运动轨迹加长，从而增加了电子与气体分子碰撞的概率。电子的每一次碰撞都会损失一些能量，只有通过能量交换，电子才能脱离磁场的束缚。在能量交换之前，电子会飞约100米，碰撞频率为107次/s，这将提高气体的电离率和阴极靶所能达到的鸟电流密度，从而获得较高的溅射速率。

目前市场上的真空镀膜设备厂家是非常多的，所以竞争就非常激烈了，消费者在选择真空镀膜设备厂家的时候，是需要通过一些方面来鉴别真空镀膜设备厂家的实力。一、经验。真空镀膜设备维修和很多其他的技能是一样的，具有丰富的经验才能应对多种状况的出现，才能保障好结果。二、成功案例。真空镀膜设备维修案例是直接的实力见证之一，真空镀膜设备维修要的还是实际的操作，这不仅*包括了真空镀膜设备本身，还包括了像真空镀膜设备这样的专业配置，毕竟配置是真空镀膜设备维修的重要前提。三、售后服务。售后服务是真空镀膜设备维修后的一个重要保障之一，完善的售后服务是真空镀膜设备维修的一部分。四、维修配件必须要有保障。每一个公司很难在每个行业都具有很高的水平，这也是为什么现在社会的分工越来越细的原因。无锡光润主营真空镀膜机！

阳极层离子源若是镀工具耐磨层，一般厚度较大而对膜厚均匀性要求不高，可采用离子电流较大能级也较高的离子源，如霍尔离子源或阳极层离子源。阳极层离子源，与霍尔离子源原理近似。在一条环形（长方形或圆形）窄缝中施加强磁场，在阳极作用下使工作气体离子化并在射向工件。阳极层离子源可以做得很大很长，特别适合镀大工件，如建筑玻璃。阳极层离子源离子电流也较大。但其离子流较发散，且能级分布太宽。一般适用于大型工件，玻璃，磨损，装饰工件。但应用于光学镀膜并不太多。考夫曼离子源考夫曼离子源是应用较早的离子源。属于栅格式离子源。首先由阴极在离子源内腔产生等离子体，让后由两层或三层阳极栅格将离子从等离子腔体中抽取出来。这种离子源产生的离子方向性强，离子能量带宽集中，可较广应用于真空镀膜中。缺点是阴极（往往是钨丝）在反应气体中很快就烧掉了，另外就是离子流量有极限，对需要大离子流量的用户可能不适和。真空镀膜机厂家哪家好？制造真空镀膜机生产厂家

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蒸发式真空镀膜机的工作原理：通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法较早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之知一。蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子道以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发专源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的属距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。简言之，蒸发式真空镀膜机的工作原理就是真空室内利用电阻加热法，把紧紧贴在电阻丝上面的金属丝熔融汽化，汽化了的金属分子沉积于基片上，而获得光滑反射率的膜层，达到装饰美化物品表面的目的。质量真空镀膜机作用

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