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可以确定在***多个vcsel结构和第二多个vcsel结构之间的孔径宽度的大小，使得从发射的辐射生成任意数目的不同横向激光模式和斑点模式。通过从具有不同孔径宽度的vcsel结构发射辐射，可以降低斑点噪声。在使用具有两个不同孔径宽度的两组vcsel结构的示例中，斑点噪声降低大约可以使用附加的vcsel结构阵列，其中每个阵列具有不同的孔径宽度，以将斑点噪声降低因数其中n是不同vcsel阵列的数目。接着，在操作1106，在由***和第二vscel结构发射的辐射被从物体反射出来之后，在检测器处接收该辐射。所接收的辐射可被用来定义物体的数字3d图像。当然，在一些实施例中，如先前结合系统所描述的，可以执行附加操作。具体地，辐射可以从与***和第二多个vcsel结构布置在相同衬底上的第三多个vcsel结构发射。第三多个vcsel结构中的每个vcsel结构包括不同于***和第二多个vcsel结构的孔径宽度的孔径宽度，使得从第三多个vcsel结构发射的辐射产生了不同于***和第二斑点图案的第三斑点图案。除非一其他方式明确声明，否则可以明白的是，诸如“处理”、“计算”、“运算”、“确定”之类的术语指的是计算机或计算系统或类似电子计算设备的动作和/或处理。菲涅尔透镜实验注意事项。代理菲涅尔透镜均价

菲涅尔透镜作用有两个：一是聚焦作用，即将热释红外信号折射（反射）在PIR上，第二个作用是将探测区域内分为若干个明区和暗区，使进入探测区域的移动物体能以温度变菲涅尔透镜化的形式在PIR上产生变化热释红外信号。菲涅尔透镜，简单的说就是在透镜的一侧有等距的齿纹，通过这些齿纹，可以达到对指定光谱范围的光带通(反射或者折射)的作用。传统的打磨光学器材的带通光学滤镜造价昂贵。菲涅尔透镜可以极大的降低成本。典型的例子就是PIR。PIR普遍的用在警报器上。如果你拿一个看看，你会发现在每个PIR上都有个塑料的小帽子。这就是菲涅尔透镜。小帽子的内部都刻上了齿纹。这种菲涅尔透镜可以将入射光的频率峰值限制到10微米左右（人体红外线辐射的峰值）。茂名菲涅尔透镜 聚焦柱状菲涅尔透镜24小时服务客服电话。

来自具有不同波长的两个波束的斑点图案变得不相关。这意味着应该设计各种vcsel的孔径宽度以使得vcsel之间的发射波长差由下式给出：δλ≥λ2/2z(1)其中，z是物体的照明表面的表面剖面高度变化。对于940nm的示例峰值发射波长和z＝，波长差应≥。图5是示出根据实施例的具有不同孔径宽度的两个不同vcsel阵列的激光光谱的图表。顶部的光谱是从***vcsel阵列测得的，其中每个vcsel结构具有4μm的孔径宽度。底部的光谱是从第二vcsel阵列测得的，其中每个vcsel结构具有2μm的孔径宽度。从光谱可以看出，具有较大孔径大小的***vcsel阵列包括两种横向激光模式和具有973nm左右的峰值波长的主导模式。与之对照，第二vcsel阵列*包括其峰值波长在972nm左右的单个激光模式。通过改变孔径大小，可以改变横向激光模式的数目和发射的峰值波长，从而产生不同的斑点图案。图6示出了根据实施例的具有衬底302的光源的另一示例，其中，该衬底包括具有不同孔径宽度的vcsel结构的各种区域。衬底302包括具有***孔径宽度(d1)的多个vcsel的***区域602、具有第二孔径宽度(d2)的多个vcsel的第二区域604、具有第三孔径宽度(d3)的多个vcsel的第三区域606、以及具有第四孔径宽度。

图10示出了根据本公开的实施例的使用亚波长结构的元分子的示例。图11是示出根据本文公开的某些实施例的从用在光投影仪系统中的光源发射辐射的方法的流程图。尽管将参考说明性实施例继续下面的详细描述，但是根据本公开，很多替代、修改、和变形将是明显的。具体实施方式用在结构化光投影仪中的激光源包括衬底、衬底上的一个或多个***vcsel、以及衬底上的一个或多个第二vcsel。一个或多个***vcsel各自具有***孔径宽度并且各自单独地在衬底的表面上延伸。一个或多个第二vcsel各自具有不同于***孔径宽度的第二孔径宽度并且各自单独地在衬底的表面上延伸。根据一些实施例，可以使用光刻技术对***vcsel和第二vcsel进行图案化。使用具有不同孔径宽度的vcsel的阵列提供了具有不同波长的发射辐射，从而提供了不同的斑点图案。当在检测器上被接收时不同的斑点图案被平均，此时斑点噪声减小。vcsel还可以包括多个亚波长结构以操控光输出。这种亚波长结构还可以用在包括标准vcsel在内的其他vcsel的表面上。在任意这些情况中，激光源可以与图像传感器结合在一起，以提供光投影仪系统。总体概述如上所述，仍然有与结构化光照明(sli)相关联的很多未解决的问题。更具体地。菲涅尔透镜自制投影仪厂家直销。

将其波阵面形成为期望的形式。当诸如柱体或圆柱之类的中心对称亚波长特征被用作散射器时，sws设备可以利用非偏振光(像来自vcsel一样)进行操作。图7示出了具有衬底302的示例光源，其中，该衬底302具有多个vcsel结构702。根据实施例，多个sws704被图案化在一个或多个vcsel结构702的上表面上或其附近。提供sws704以改变从给定vcsel结构702的上表面发射的光的相位。可以横跨vcsel结构702的表面不同地改变相位，以使得一些区域创建发射光的相长干涉同时其他区域创建发射光的相消干涉。通过控制相长/相消干涉的区域所在的位置，还可以控制发射光的波束形状(例如，图案)。可以例外地使用高折射率材料(>)来形成sws704。例如，用于波束成形的sws已经被开发用于使用诸如硅之类的高折射率材料的近红外光。下面的表1提供了不同可见光波长(460nm-蓝、550nm-绿、以及650nm-红)下的各种材料的折射率。诸如硅之类的材料可以具有高折射率，但是这些材料还可以吸收可见范围(例如，红、绿、蓝)中的不期望的大百分比的入射光(例如，40％或更多)。一直认为可见波长透明材料(例如，折射率大约为(si3n4))不具有足够高的折射率来支持有效地操纵光学波振面所需要的光学谐振。诸如氧化钛。菲涅尔透镜作用发展现状。无忧菲涅尔透镜行业

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并且可以被用来重建物体104的3d表示。发射的辐射106和接收的辐射108可以是具有在大约400nm到大约700nm的范围中的波长的可见光。在另一示例中，发射的辐射106和接收的辐射108包括具有在大约700nm到大约1400nm的范围中的波长的近红外辐射。在一个示例中，发射的辐射106和接收的辐射108均包括在大约935nm到大约945nm范围中的波长。图2示出了根据实施例的光投影仪系统102的各种组件。光投影仪系统102包括光源202、透镜204、检测器206、深度确定电路208、源驱动器电路210、以及处理器212。光源202可以被设计为生成辐射106并向物体发射辐射106。光源202可以是用于生成辐射106的包括一个或多个激光二极管或激光腔的激光源。根据实施例，激光源202包括用于生成辐射106的多个vcsel。多个vcsel可以被布置在诸如硅或其他半导体衬底之类的衬底上，如将参考图3更详细地描述的。透镜204可以表示用于收集接收辐射108并且向检测器206引导接收的辐射的任意数目的透镜元件，如根据本公开将明白的。检测器206接收辐射108，并且将接收的辐射转换为发送给深度确定电路208的电信号。检测器206可以是电荷耦合装置(ccd)或者可以使用互补金属氧化物半导体(cmos)阵列来收集辐射。代理菲涅尔透镜均价

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