广州菲涅尔透镜 成像

适当的结构化光投影仪通常包括激光设备，该激光设备采用衍射图案实现期望的结构化光图案。一个示例激光设备是结合激光条纹使用的垂直腔面发射激光器(vcsel)。但是，存在与这种配置相关联的局限。例如，使用激光条纹获取精确的剖面信息的局限主要归因于与激光相关联的噪声和采样误差，因为激光条纹的中心可能不是在相机的像素中心成像并且可能不是检测到的强度峰值。当在图像上定位激光条纹的中心时出现采样误差。存在尝试从激光条纹提取相关信息的诸如，比较大强度、强度中心、高斯拟合、以及过零点之类的图像处理技术。与这些技术中的若干技术相关联的问题在于，其给出了比较高峰值的位置，但是该位置不是条纹的真实中心。与激光相关联的噪声主要采取激光斑点的形式，该激光斑点当从该部分的表面被反射出来时是激光的强度剖面的振荡并且是由激光的相干导致的。可以使用对接收的图像的数字后处理来补偿激光斑点。但是，这会是计算密集的并且导致相对较高的功率消耗，并且进一步导致3d图像的创建的延迟。因此，根据本公开的实施例，结构化光投影仪采用新型激光源设计，该激光源设计在相对于标准技术不增加计算负担的条件下减少或基本消除了激光斑点。另外。菲涅尔透镜的焦距答疑解惑；广州菲涅尔透镜 成像

因此使用词语“顶”并不将该层限制到任何具体的空间或几何关系。本文描述的任意vcsel结构可以包括用于操控光输出的一个或多个元原子800。应该理解的是，为了清楚起见*示出了单个元原子，但是任意数目的元原子可以被图案化在顶层802上。尽管在本实施例中示出了圆柱形状，但是任意形状可以用于元原子800。元原子800可以具有基于来自vcsel的发射光的峰值波长的直径。例如，元原子800可以具有范围在λ/10到λ/5之间的总直径。类似地，元原子800的总厚度取决于来自vcsel的发射光的峰值波长。例如，元原子800可以具有大约λ/2的厚度。芯材804可以是具有相对较低的折射率但是高沉积速率的材料，因此提高了制造元原子800时的吞吐量。例如，芯材804可以是氮化硅(si3n4)，并且可以使用化学气相沉积(cvd)或物***相沉积(pvd)技术沉积。随后可以使用标准等离子体蚀刻工艺对所沉积的氮化硅层进行蚀刻，以形成每个元原子800的芯材804。壳材806可以是具有相对较高的折射率(或者至少比芯材804的折射率高)的材料。例如，诸如氧化钛(tio2)或硅之类的材料可被用于壳材806，并且可以通过使用原子层沉积(ald)技术来非常薄地沉积。ald允许壳材806以非常薄的厚度共形地覆盖芯材804的外表面上。例如。应用菲涅尔透镜大概费用菲涅尔透镜型号价格咨询。

一个或多个***vcsel和一个或多个第二vcsel被配置为发射红外辐射。示例14包括示例10至13中任一项的主题，其中，一个或多个***vcsel中的每个***vcsel被配置为发射具有两个或更多个横向模式的辐射。示例15包括示例14的主题，其中，一个或多个第二vcsel中的每个第二vcsel被配置为发射具有单个横向模式的辐射。示例16包括示例10至15中任一项的主题，其中，激光源还包括在衬底的表面上的一个或多个第三垂直腔面发射激光器(vcsel)结构，每个第三vcsel结构具有不同于***孔径宽度和第二孔径宽度的第三孔径宽度并且单独地在衬底的表面上方延伸。示例17包括一种降低来自激光源的斑点噪声的方法。该方法包括：从布置在衬底上的一个或多个***vcsel结构发射具有***波长的辐射；以及从布置在衬底上的一个或多个第二vcsel结构发射具有第二波长的辐射，其中，第二波长不同于***波长。具有***波长的辐射包括***数目的横向模式，具有第二波长的辐射包括第二数目的横向模式，第二数目的横向模式不同于***数目的横向模式。示例18包括示例17的主题，其中，发射具有***波长的辐射包括发射红外辐射，并且其中，发射具有第二波长的辐射包括发射红外辐射。示例19包括示例17或18的主题，其中。

图3示出了根据实施例的光源202或者光源202的至少一部分的自顶向下的视图。光源202包括衬底302，该衬底具有布置在衬底302的表面上的多个vcsel结构304。在一些实施例中，衬底302可以是：包括第iv族半导体材料(例如，si、ge、sige)、第iii-v族半导体材料(例如，gaas、gaassb、gaasin)、和/或根据本公开将明白的任何一种或多种其他适当材料的大块衬底；绝缘体上的x(xoi)结构，其中，x是前述材料(例如，第iv和/或iii-v族半导体材料)之一，绝缘体材料是氧化物材料或介电材料或者一些其他电绝缘材料，从而xoi结构包括两个半导体层之间的电绝缘材料层；或者一些其他适当的多层结构，其中，顶层包括前述半导体材料(例如，第iv和/或iii-v族半导体材料)之一。这里使用的“第iv族半导体材料”(或“第iv族材料”或统称“iv”)在包括至少一种第iv族元素(例如，硅、锗、碳、锡)，例如，硅(si)、锗(ge)、硅锗(sige)等。这里使用的“第iii-v族半导体材料”(或“第iii-v族材料”或统称“ii-v”)包括至少一种第iii族元素(例如，铝、镓、铟)和至少一种第v族元素(例如，氮、磷、砷、锑、铋)，例如，砷化镓(gaas)、砷化镓铟(ingaas)、砷化铝铟(inalas)、磷化镓(gap)、锑化镓(gasb)、磷化铟。菲涅尔透镜结构怎么样？

菲涅尔透镜使用普通的凸透镜，会出现边角变暗、模糊的现象，这是因为光的折射只发生在介质的交界面，凸透镜片较厚，光在玻璃中直线传播的部分会使得光线衰减。如果可以去掉直线传播的部分，只保留发生折射的曲面，便能省下大量材料同时达到相同的聚光效果。菲涅尔透镜就是采用这种原理的。菲涅尔透镜看上去像一片有无数多个同心圆纹路（即菲涅尔带)的玻璃，却能达到凸透镜的效果，如果投射光源是平行光，汇聚投射后能够保持图像各处亮度的一致。菲涅尔透镜购买批量定制。广州菲涅尔透镜 红外

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菲涅尔透镜作用有两个：一是聚焦作用，即将热释红外信号折射（反射）在PIR上，第二个作用是将探测区域内分为若干个明区和暗区，使进入探测区域的移动物体能以温度变菲涅尔透镜化的形式在PIR上产生变化热释红外信号。菲涅尔透镜，简单的说就是在透镜的一侧有等距的齿纹，通过这些齿纹，可以达到对指定光谱范围的光带通(反射或者折射)的作用。传统的打磨光学器材的带通光学滤镜造价昂贵。菲涅尔透镜可以极大的降低成本。典型的例子就是PIR。PIR普遍的用在警报器上。如果你拿一个看看，你会发现在每个PIR上都有个塑料的小帽子。这就是菲涅尔透镜。小帽子的内部都刻上了齿纹。这种菲涅尔透镜可以将入射光的频率峰值限制到10微米左右（人体红外线辐射的峰值）。广州菲涅尔透镜 成像

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