南京全自动场效应管原理
用测电阻法判别场效应管的好坏:测电阻法是用万用表测量场效应管的源极与漏极、栅极与源极、栅极与漏极、栅极G1与栅极G2之间的电阻值同场效应管手册标明的电阻值是否相符去判别管的好坏。具体方法:首先将万用表置于R×10或R×100档,测量源极S与漏极D之间的电阻,通常在几十欧到几千欧范围(在手册中可知,各种不同型号的管,其电阻值是各不相同的),如果测得阻值大于正常值,可能是由于内部接触不良;如果测得阻值是无穷大,可能是内部断极。然后把万用表置于R×10k档,再测栅极G1与G2之间、栅极与源极、栅极与漏极之间的电阻值,当测得其各项电阻值均为无穷大,则说明管是正常的;若测得上述各阻值太小或为通路,则说明管是坏的。要注意,若两个栅极在管内断极,可用元件代换法进行检测。 场效应管可以用作可变电阻。南京全自动场效应管原理
场效应管 按材质分可分成结型管和绝缘栅型管,绝缘栅型又分成耗尽型和增强型,一般主板上大都是绝缘栅型管简称MOS管,并且大都使用增强型的N沟道,其次是增强型的P沟道,结型管和耗尽型管几乎不须。主板上用的场效应管的属性:1、工作条件:D极要有供电,G极要有控制电压2、主板上的场管N沟道多,G极电压越高,S极输出电压越高3、主板上的场管G极电压达到12V时,DS全然导通,个别主板上5V导通4、场管的DS机能可对调N沟道场管的导通截止电压:导通条件:VG>VS,VGS=V时,处于导通状况,且VGS越大,ID越大截止条件:VGS,ID并未电流或有很小的电流1、测量极性及管型判断红笔接S、黑笔接D值为(300-800)为N沟道红笔接D、黑笔接S值为(300-800)为p沟道如果先没G、D再没S、D会长响,表笔放在G和短脚相接放电,如果再长响为击穿贴片场管与三极管难以区别,先按三极管没,如果不是按场管测场管测量时,取下去测,在主板上测量会不准2、好坏判断测D、S两脚值为(300-800)为正常,如果显示“0”且长响,场管击穿;如果显示“1”,场管为开路软击穿(测量是好的,换到主板上是坏的),场管输出不受G极控制。 珠海isc场效应管分类由于场效应管的放大器输入阻抗很高,因此可以使用容量较小的耦合电容器,不必使用电解电容器。
场效应管使用时应注意:(1)器件出厂时通常装在黑色的导电泡沫塑料袋中,切勿自行随便拿个塑料袋装。也可用细铜线把各个引脚连接在一起,或用锡纸包装。(2)取出的器件不能在塑料板上滑动,应用金属盘来盛放待用器件。(3)焊接用的电烙铁必须良好接地。(4)在焊接前应把电路板的电源线与地线短接,再MOS器件焊接完成后在分开。(5)器件各引脚的焊接顺序是漏极、源极、栅极。拆机时顺序相反。(6)电路板在装机之前,要用接地的线夹子去碰一下机器的各接线端子,再把电路板接上去。(7)场效应晶体管的栅极在允许条件下,比较好接入保护二极管。在检修电路时应注意查证原有的保护二极管是否损坏。
根据材料的不同,场效应管可以分为MOSFET(金属氧化物半导体场效应管)和JFET(结型场效应管)两种。MOSFET是目前应用*****的场效应管,它由金属栅极、绝缘层和半导体构成。JFET则是由PN结构构成,栅极与半导体之间没有绝缘层。MOSFET具有输入电容小、开关速度快等优点,适用于高频放大和开关电路;而JFET具有输入电容大、噪声低等特点,适用于低频放大和调节电路。场效应管具有许多独特的特点,使其在电子器件中得到广泛应用。首先,场效应管的输入阻抗高,可以减小输入信号源的负载效应,提高电路的灵敏度。其次,场效应管的输出阻抗低,可以提供较大的输出电流,适用于驱动负载电路。此外,场效应管的噪声低,可以提高电路的信噪比。此外,场效应管还具有体积小、功耗低、可靠性高等优点,适用于集成电路和便携式设备。场效应管有三种类型:增强型、耗尽型和开关型。
场效应管判断跨导的大小:测反向电阻值的变化判断跨导的大小.对VMOSV沟道增强型场效应管测量跨导性能时,可用红表笔接源极S、黑表笔接漏极D,这就相当于在源、漏极之间加了一个反向电压。此时栅极是开路的,管的反向电阻值是很不稳定的。将万用表的欧姆档选在R×10kΩ的高阻档,此时表内电压较高。当用手接触栅极G时,会发现管的反向电阻值有明显地变化,其变化越大,说明管的跨导值越高;如果被测管的跨导很小,用此法测时,反向阻值变化不大。 场效应管的制造工艺复杂,费用较高。广州氮化镓场效应管厂家
场效应管是一种常用的电子器件。南京全自动场效应管原理
P沟道结型场效应管除偏置电压的极性和载流子的类型与N沟道结型场效应管不同外,其工作原理完全相同。绝缘栅型场效应管(MOS管)中,目前常用的是以二氧化硅SiO2作为金属铝栅极和半导体之间的绝缘层,简称MOS管。
它有N沟道和P沟道两类,而每一类又分增强型和耗尽型两种。所谓增强型就是UGS=0时,漏源之间没有导电沟道,即使在漏源之间加上一定范围内的电压,也没有漏极电流;
反之,在UGS=0时,漏源之间存在有导电沟道的称为耗尽型。N沟道增强型MOS管是一块杂质浓度较低的P型硅片作为衬底B,在其中扩散两个N+区作为电极,分别称为源极S和漏极D。
半导体表面覆盖一层很薄的二氧化硅(SiO2)绝缘层,在漏源极间的绝缘层上再制造一层金属铝,称为栅极G。这就构成了一个N沟道增强型MOS管。显然它的栅极与其它电极间是绝缘的。沟道增强型MOS管结构图MOS管的源极和衬底通常是接在一起的(大多数管子在出厂前已连接好),N沟道增强型MOS管在UGS<UT(开启电压)时,导电沟道不能形成,ID=0,这时管子处于截止状态。
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