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时间:2022年11月12日 来源:

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下压框架并施加真空。等待5-8秒,直到框架完全是空的。9.在连续运行真空的情况下,添加30mL洗涤缓冲液(MultiBlot为15毫升)。重复洗涤步骤3次以上(总共4次洗涤)。当框架完全为空时,将TURN真空关闭。10.在印迹架的表面上涂适量的二抗(对于多印迹,为2.5mL,5毫升用于迷你印迹,或10毫升用于Midi印迹)。在室温下孵育10分钟,然后关闭真空。同样,溶液将被吸收到印迹架中,并且表面可能看起来干燥。重要提示:孵育10分钟后,再抽真空。11.向下压框架并施加真空。浦东新区Merck蛋白印记加速器WB实验加速器规格买MerckWB实验加速器哪家专业?

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