珠海中规模集成电路

    在互连层a的上表面上方形成多个底电极通孔。多个底电极通孔由介电层围绕。在一些实施例中，介电层可以沉积在互连层a上方，并且然后选择性地被图案化以限定底电极通孔开口。然后通过在底电极通孔开口内的沉积工艺形成多个底电极通孔。在各个实施例中，介电层可以包括碳化硅、富硅氧化物、teos(正硅酸乙酯)等的一种或多种。在各个实施例中，多个底电极通孔可以包括导电材料，诸如钛、氮化钛、钽等。在多个底电极通孔上方形成多个mtj器件、和。多个mtj器件、和分别包括mtj，mtj具有通过介电遂穿阻挡层与自由层分隔开的固定层。在一些实施例中，固定层可以形成为接触底电极通孔。在其它实施例中。自由层可以形成为接触底电极通孔。多个mtj器件、和中的一个包括被配置为存储数据状态的工作mtj器件。多个mtj器件、和中的一个或多个包括设置在调节访问装置内的调节mtj器件和，调节访问装置被配置为控制(即，调节)提供给相关的工作mtj器件的电流。在一些实施例中，可以同时形成多个mtj器件、和。例如，在一些实施例中，可以通过在介电层和多个底电极通孔上方沉积磁固定膜。在磁固定膜上方形成介电阻挡膜，并且在介电阻挡膜上方形成磁自由膜来形成多个mtj器件、和。靠谱集成电路供应商，美信美科技就是牛。珠海中规模集成电路

    下基板2的上层金属层9、下层金属层10通孔沉金19、20，用于中间填充层的21，上基板1中间层22、下基板2中间层23。图2示出依据本申请一实施例的双芯片集成电路封装结构201，包括上基板1、元件3、元件4及下基板2，上基板1上的上层金属层5、下层金属层6以及下层金属层6上的联结pad7、8、9、10，下基板2上的上层金属层11、下层金属层12以及上层金属层11上的pad13、14、15、16，下层金属层12上的联结pad17、18、19、20、21、联结pad22。上基板1与下基板2联结用的沉金23、24，下基板2的上层金属层11、下层金属层12通孔沉金25、26、27、28，用于中间填充层的29，上基板1中间层30、下基板2中间层31。以上所述实施例用以说明本申请的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本申请进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的精神和范围，均应包含在本申请的保护范围之内。成都集成电路芯片集成电路产业还甚至延伸至设备、材料市场。

    在一些实施例中，集成芯片还包括布置在位于工作mtj器件正上方的存储单元内的工作mtj器件，工作mtj器件被配置为存储数据状态。在一些实施例中，工作mtj器件通过不延伸穿过衬底的连续导电路径连接在位线和字线之间。在其它实施例中，涉及集成电路。集成电路包括布置在衬底上方的介电结构内的互连层，互连层通过介电结构与衬底分隔开；以及调节mtj器件，布置在互连层正上方并且被配置为存储数据状态，工作mtj器件通过包括多个互连层并且不延伸穿过衬底的连续导电路径电连接在位线和字线之间。在一些实施例中，集成电路还包括调节访问装置，其具有连接在字线和工作mtj器件之间的调节mtj器件，调节mtj器件具有通过介电阻挡层与自由层分隔开的固定层。在一些实施例中，互连层从工作mtj器件正下方连续延伸至调节mtj器件正下方。在一些实施例中，集成电路还包括连接在字线和工作mtj器件之间的调节mtj器件，字线和字线连接至字线解码器。在一些实施例中，调节mtj器件与调节mtj器件具有不同的尺寸。在一些实施例中。集成电路还包括连接在位线和工作mtj器件之间的调节mtj器件，字线连接至字线解码器并且位线连接至位线解码器。在一些实施例中。

    铜通孔)连接至上面的互连层。在一些实施例中，底电极通孔和顶电极通孔可以包括金属，诸如氮化钛(tin)、氮化钽(tan)、钛(ti)、钽(ta)等。在一些实施例中，互连层b从调节mtj器件正上方连续延伸至调节mtj器件正上方。调节mtj器件、调节mtj器件和工作mtj器件分别包括由介电遂穿阻挡层分隔开的自由层和固定层。自由层具有被配置为响应于电信号(例如，电流)而改变的磁矩。固定层具有固定的磁取向，该磁取向被配置为用作参考磁方向和/或减少对自由层的磁冲击。在一些实施例中，mtj中的一个或多个可以包括附加层。例如，在一些实施例中。mtj中的一个或多个可以包括位于底电极通孔和固定层之间的反铁磁层。在其它实施例中，mtj中的一个或多个可以包括以各种方式布置的附加固定层(例如，附加固定层、附加固定层等)和/或附加自由层(例如，附加自由层、附加自由层等)以改进mtj的性能。图b示出了对应于图的存储器阵列的集成芯片的一些可选实施例的截面图。集成芯片包括布置在衬底上方的介电结构。介电结构围绕存储单元a,。存储单元a,包括工作mtj器件和具有调节mtj器件和调节mtj器件的调节访问装置。介电结构还围绕多个导电互连层a至f。多个导电互连层a至f包括互连层a。好的的集成电路供应，信任深圳市美信美科技有限公司。

    的实施例总体涉及半导体领域，更具体地，涉及集成电路及其形成方法。背景技术：许多现代电子器件包含配置为存储数据的电子存储器。电子存储器可以是易失性存储器或非易失性存储器。易失性存储器在上电时存储数据，而非易失性存储器能够在断开电源时存储数据。磁阻式随机存取存储器(mram)是用于下一代非易失性存储器技术的一种有前景的候选。技术实现要素：根据的一个方面，提供了一种集成芯片，包括：工作磁隧道结(mtj)器件，连接至位线，其中，所述工作磁隧道结器件被配置为存储数据状态；以及调节访问装置，连接在所述工作磁隧道结器件和字线之间，其中，所述调节访问装置包括被配置为控制提供给所述工作磁隧道结器件的电流的一个或多个调节磁隧道结器件。根据的另一个方面，提供了一种集成电路，包括：互连层，布置在衬底上方的介电结构内，其中，所述互连层通过所述介电结构与所述衬底分隔开；以及工作mtj器件，布置在所述互连层正上方并且被配置为存储数据状态，其中，所述工作mtj器件通过包括多个互连层且不延伸穿过所述衬底的连续导电路径电连接在位线和字线之间。根据的又一个方面，提供了一种形成集成电路的方法。包括：在衬底上方形成互连层。集成电路实力供应商有哪些？深圳美信美科技。广东双极型集成电路哪家好

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    图a至图b示出了具有调节访问装置的存储器电路的一些额外实施例，该调节访问装置被配置为选择性地对工作mtj器件提供访问。图a至图b示出了具有调节访问装置的存储器电路的一些额外实施例，该调节访问装置被配置为选择性地对工作mtj器件提供访问。图a至图b示出了具有调节访问装置的存储器电路的一些额外实施例，该调节访问装置被配置为选择性地对工作mtj器件提供访问。图至出了形成具有存储器电路的集成芯片的方法的一些实施例，该存储器电路包括存储单元，该存储单元包括被配置为选择性地对工作mtj器件提供访问的调节访问装置。出了形成具有存储器电路的集成芯片的方法的一些实施例的流程图，该存储器电路包括存储单元，该存储单元包括被配置为选择性地对工作mtj器件提供访问的调节访问装置。具体实施方式以下公开内容提供了许多用于实现所提供主题的不同特征的不同实施例或实例。下面描述了组件和布置的具体实例以简化。当然，这些是实例，而不旨在限制。例如，以下描述中，在部件上方或者上形成部件可以包括部件和部件直接接触形成的实施例。并且也可以包括在部件和部件之间可以形成额外的部件，从而使得部件和部件可以不直接接触的实施例。此外。珠海中规模集成电路