广东氧化铪作用用途

时间:2021年12月16日 来源:

CAS号:12055-23-1英文名称:HAFNIUMOXIDE英文同义词:HfO2;Hafnia;dioxohafniuM;Hafnia,felt;HAFNIUMOXIDE;Hafniaparalvei;HAFNIUM(+4)OXIDE;Hafniabulkfiber;HAFNIUMChemicalbook(IV)OXIDE;hafniumoxide(hfo2)中文名称:氧化铪中文同义词:氧化铪;氧化铪粉;氧化铪毡;纳米氧化铪;纳米二氧化铪;氧化铪25G;氧化铪布,缎纹;氧化铪纤维散棉;氧化铪(IV);氧化铪(III)CBNumber:CB5737990分子式:HfO2分子量:210.49氧化铪化学性质熔点:2810°C密度:9.68g/mLat25°C(lit.)折射率:2.13(1700nm)形态:powder颜色:Off-white氧化铪的MSDS。。。。广东氧化铪作用用途

中文名二氧化铪外文名Hafnium(IV)oxide别名氧化铪(IV)化学式HfO2分子量210.49CAS登录号12055-23-1EINECS登录号235-013-2熔点2758℃沸点5400℃水溶性难溶于水密度9.68g/cm³外观白色固体应用远红外波段材料

性质白色粉末,有单斜、四方和立方三种晶体结构。密度分别为10.3,10.1和10.43g/cm3。熔点2780~2920K。沸点5400K。热膨胀系数5.8×10-6/℃。不溶于水、盐酸和硝酸,可溶于浓硫酸和氟氢酸。由硫酸铪、氯氧化铪等化合物热分解或水解制取。为生产金属铪和铪合金的原料。用作耐火材料、抗放射性涂料和催化剂。 江西分析纯氧化铪氧化铪的安全性描述?

氧化铪用途与合成方法物理性质氧化铪(HfO2)是白色晶体粉末。纯氧化铪以三种形式存在,一种是无定型状态,另外两种为晶体。在<400℃煅烧氢氧化铪、氧氯化铪等不稳定的化合物时,可以得到无定型氧化铪。将其氧化铪继续加热至450~480℃,开始转化为单斜晶体,继续加热至1000~1650℃发生晶格常数逐步增加的趋势,并转化为4个氧化铪分子的单体。当1700~Chemicalbook1865℃时开始转化为四方晶系。向氧化铪中添加少量氧化镁、氧化钙、氧化锰等氧化铪,在1500℃以上可以形成面心立方晶格的固溶体。如向氧化铪中加8%~20%氧化钙,则晶格常数α相应从0.5082nm增加至0.5098nm。若添加的量达到形成CaHfO3时,则晶体结构转化为菱形晶系。单斜晶体氧化铪的密度为9.68g/cm3,熔点3031K,沸点5673K。

氧化铪性质熔点2810°C密度9.68g/mLat25°C(lit.)折射率2.13(1700nm)形态powder颜色Off-white比重9.68水溶解性Insolubleinwater.Merck14,4588InChemicalbookChIKeyCJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-NCAS数据库12055-23-1(CASDataBaseReference)EPA化学物质信息Hafniumoxide(HfO2)(12055-23-1)氧化铪(HfO2)是白色晶体粉末。纯氧化铪以三种形式存在,一种是无定型状态,另外两种为晶体。在<400℃煅烧氢氧化铪、氧氯化铪等不稳定的化合物时,可以得到无定型氧化铪。将其氧化铪Chemicalbook继续加热至450~480℃,开始转化为单斜晶体,继续加热至1000~1650℃发生晶格常数逐步增加的趋势,并转化为4个氧化铪分子的单体。当1700~1865℃时开始转化为四方晶系。氧化铪的灭火方法及灭火剂?

中文名称:氧化铪分子式:HfO₂英文名称:Hafnium(IV)oxide英文别名:Hafniumoxideoffwhitepowder;Hafniumdioxide;Hafniumoxidesinteredlumps;Hafnium(IV)鎜xide(99.998%-Hf)PURATREM;Hafniumoxide;hafnium(+4)cation;oxygen(-2)anion;dioxohafniumEINECS:235-013-2分子量:210.4888应用领域氧化铪(HfO2)为锆铪分离的产物,目前只有美、法等国家在生产核级锆时产生有氧化铪。中国早期就已经具备生产核级Zr,并生产少量氧化铪的能力。但是产品数量稀少,价格昂贵。作为铪的主要化学产品,通常用作光学镀膜材料,很少量开始试用于高效集成电路,氧化铪在**领域的应用尚待开发。氧化铪在光学镀膜领域的应用HfO2的熔点比较高、同时铪原子的吸收截面较大Chemicalbook,捕获中子的能力强,化学性质特别稳定,因此在原子能工业中具有非常大应用的价值。自上世纪以来,光学镀膜得到了很快的发展,HfO2在光学方面的特性已经越来越适应光学镀膜技术的要求,所以HfO2在镀膜领域的应用也越来越***,特别是它对光有比较宽的透明波段,在光透过氧化铪薄膜时,对光的吸收少,大部分通过折射透过薄膜,因此HfO2在光学镀膜领域的应用越来越被重视。氧化铪的用途与合成方法?陕西氧化铪供应商

氧化铪的生产方法有那些?广东氧化铪作用用途

基本信息IUPAC名称:dioxohafnium元素含量比重:O(oxygen)15.2%、Hf(hafnium)84.8%密度:9.68g/cm3熔点:2758℃摩尔质量:210.49g/molCAS号:12055-23-1蒸发压力:在2678℃时1Pa;在2875℃时10Pa线膨胀系数:5.6×10-6/K溶解度:不溶解于水纯度:99.99薄膜特性:透光范围~220~12000nm;折射率(250nm)~2.15(500nm)~2蒸发条件:用电子***,氧分压~1~2×10-2Pa。蒸发温度~2600~2800℃,基片温度~250℃,蒸发速率2nm/s应用领域:UV增透膜,干涉膜广东氧化铪作用用途

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