青海氧化铪厂家

时间:2022年02月28日 来源:

基本信息中文名称:氧化铪分子式:HfO₂英文名称:Hafnium(IV)oxide英文别名:Hafniumoxideoffwhitepowder;Hafniumdioxide;Hafniumoxidesinteredlumps;Hafnium(IV)鎜xide(99.998%-Hf)PURATREM;Hafniumoxide;hafnium(+4)cation;oxygen(-2)anion;dioxohafniumEINECS:235-013-2分子量:210.4888毒理学数据主要的刺激性影响在皮肤上面:刺激皮肤和粘膜在眼睛上面:刺激的影响致敏作用:没有已知的敏化现象。性质与稳定性常温常压下稳定避免的物料酸。氧化铪的重原子数量?青海氧化铪厂家

用途为生产金属铪和铪合金的原料。用作耐火材料、抗放射性涂料和催化剂。生产方法当加热到高温时铪与氧直接化合生成氧化铪。也可通Chemicalbook过其硫酸盐或草酸盐经灼烧而得。安全信息安全说明22-24/25WGKGermany3TSCAYes海关编码28259085毒理学数据主要的刺激性影响在皮肤上面:刺激皮肤和粘膜在眼睛上面:刺激的影响致敏作用:没有已知的敏化现象。存储方法常温密闭,阴凉通风干燥,合成方法当加热到高温时铪与氧直接化合生成氧化铪。也可通过其硫酸盐或草酸盐经灼烧而得。青海氧化铪厂家氧化铪的 共价键单元数量?

氧化铪在光学镀膜领域的应用HfO2的熔点比较高、同时铪原子的吸收截面较大,捕获中子的能力强,化学性质特别稳定,因此在原子能工业中具有非常大应用的价值。自上世纪以来,光学镀膜得到了很快的发展,HfO2在光学方面的特性Chemicalbook已经越来越适应光学镀膜技术的要求,所以HfO2在镀膜领域的应用也越来越***,特别是它对光有比较宽的透明波段,在光透过氧化铪薄膜时,对光的吸收少,大部分通过折射透过薄膜,因此HfO2在光学镀膜领域的应用越来越被重视。

氧化铪物理化学性质密度9.68熔点2812ºC分子式HfO2分子量210.48900精确质量211.93600PSA34.14000外观性状粉末折射率2.13(1700nm)储存条件常温密闭,阴凉通风干燥稳定性常温常压下稳定避免的物料酸计算化学1、氢键供体数量:12、氢键受体数量:23、可旋转化学键数量:04、拓扑分子极性表面积(TPSA):34.15、重原子数量:36、表面电荷:07、复杂度:18.38、同位素原子数量:09、确定原子立构中心数量:010、不确定原子立构中心数量:011、确定化学键立构中心数量:012、不确定化学键立构中心数量:013、共价键单元数量:1。氧化铪的危险性概述?

性质氧化铪为白色立方晶体,比重9.68。熔点2,758±25℃。沸点约5,400℃。单斜晶系的二氧化铪在1,475~1,600℃足量氧气氛中转化为四方晶系。不溶于水和一般无机酸,但在氢氟酸中缓慢溶解。化学反应与热的浓硫酸或酸式硫酸盐作用形成硫酸铪[ChemicalbookHf(SO4)2],与碳混合后加热通氯生成四氯化铪(HfCl4),与氟硅酸钾作用生成氟铪酸钾(K2HfF6),与碳在1,500℃以上作用形成碳化铪HfC。制备氧化铪可由铪的碳化物、四氯化物、硫化物、硼化物、氮化物或水合氧化物直接高温灼烧制取。应用领域氧化铪的生产工厂有哪些?山西氧化铪英文名称

氧化铪的稳定性和反应活性?青海氧化铪厂家

物性数据1.性状:白色粉末。2.密度(g/mL,25℃):9.683.相对蒸汽密度(g/mL,空气=1):未确定4.熔点(ºC):21825.沸点(ºC,常压):未确定6.沸点(ºC,1mmHg):未确定7.折射率:未确定8.闪点(ºC):未确定9.比旋光度(º):未确定10.自燃点或引燃温度(ºC):未确定11.蒸气压(20ºC):未确定12.饱和蒸气压(kPa,60ºC):未确定13.燃烧热(KJ/mol):未确定14.临界温度(ºC):未确定15.临界压力(KPa):未确定16.油水(辛醇/水)分配系数的对数值:未确定17.上限(%,V/V):未确定18.下限(%,V/V):未确定19.溶解性:未确定青海氧化铪厂家

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