油烟净化工程公司
若加湿器设在空调器的风机段内,还应采取措施避免凝结水滴到电机上,造成电机短路断电。 光学微电子净化工程-洁净车间技术解决方案 光学微电子净化工程之定义为将一定空间范围内之空气中的微尘粒子、有害空气、细菌等之污染物排除,并将室内之温湿度、洁净度、室内压力、气流速度与气流分布、噪音震动及照明、静电控制在某一需求范围内,而所给于特别设计之密闭空间。 光学微电子净化工程亦名无尘室或清净室,已是半导体、精密制造、液晶制造、光学制造、线路板制造和生物化学、医药、食品制造等行业不可或缺的重要设施。温湿度控制是净化工程中不可忽视的环节。油烟净化工程公司
净化工程是指控制产品 (如硅芯片等) 所接触大气的洁净度及温湿度,使产品能在一个良好的环境空间中生产、制造。此环境空间的设计施工过程即可称为净化工程。 中文名 净化工程 外文名 Purification engineering 工程性质 环境保护 应 用 制造业 原 理 乱流洁净室,单向流洁净室 作 用 控制产品 (如硅芯片等) 所接触之大气的洁净度及温湿度 目录 1 原理 ▪ 乱流洁净室 ▪ 单向流洁净室 2 控制 3 作用 4 分类 5 等级标准 6 行业应用 7 解决方案 净化工程原理 编辑 净化工程乱流洁净室 乱流 洁净室的主要特点是从来流到出流(从送风口到回风口)之间气流的流通截面是变化的, 洁净室截面比送风口截面大得多,因而不能在全室截面或者在全室工作区截面形成匀速气流。南通手术室净化工程净化工程的设计应充分考虑生产过程中的物料流转。
净化工程作用 编辑 控制产品 (如硅芯片等) 所接触之大气的洁净度及温湿度,使产品能在一个良好之环境空间中生产、制造。此空间的设计施工过程即可称为净化工程。 净化工程分类 编辑 乱流式 (Turbulent Flow) 空气由空调箱经风管与洁净室内之空气 过滤器(HEPA) 进入 洁净室,并由洁净室两侧隔间墙板或高架地板 乱流式 回风。气流非直线型运动而呈不规则之乱流或涡流状态。此型式适用于洁净室等级1,000-100,000级。 优点:构造简单、系统建造成本低,洁净室的扩充比较容易,在某些特殊用途场所,可并用无尘工作台,提高洁净室等级。 缺点:乱流造成的微尘粒子于室内空间飘浮不易排出,易污染制程产品。
在我国,《空气洁净技术措施》和(洁净厂房设计规范)都是这样规定的 垂直平行流(层流)洁净室≥0.25m/s 水平平行流(层流)洁净室≥0.35 m/s 噪声控制 洁净室噪声标准一般均严于保护健康的标准,目的在于保障操作正常进行,满足必要的谈话联系及安全舒适的工作环境。因此衡量洁净室的噪声主要指标是: 1.烦恼的效应 由于噪声,使人感到不安宁而产生烦恼情绪,一般分为极安静、很安静、较安静、稍嫌吵闹,比较吵闹和极吵闹7个烦恼等级。凡反应水平属于很吵闹和极吵闹者,即为高烦恼,高烦恼人数在总人数中的百分比即为高烦恼率。 2.对工作效率的影响 这主要看三方面的反应水平,这三个方面是:集中精神,动作准确性,工作速度; 3.对综合通讯的干扰 这主要分为:清楚或满意,稍困难,困难,不可能 对以上三方面指标都用A声级来评价。净化工程的设计应考虑到设备的能耗和运行成本。
往往须耗时相当长一段时间。层流式(Laminar)等级名称等级限值μmμmμmμm5μm容积单位容积单位容积单位容积单位容积单位国际单位英制单位mFtmFtmFtmFtmFt35010////00//10////100//0////283//1000//////77//////1810000//////247070//////000////////////0层流式空气气流运动成一均匀之直线型,空气由覆盖率100%之过滤器进入室内,并由高架地板或两侧隔墙板回风。此型式适用于洁净室等级需定较高的环境使用,一般其洁净室等级为Class1~100。其型式可分为二种:(1)水平层流式:水平式空气自过滤器单方向吹出,由对边墙壁之回风系统回风,尘埃随风向排出室外,一般在侧污染较严重。优点:构造简单,运转后短时间内即可变成稳定。缺点:建造费用比乱流式高,室内空间不易扩充。(2)垂直层流式:房间天花板完全以ULPA过滤器覆盖,空气由上往下吹,可得较高之洁净度,在制程中或工作人员所产生的尘埃可快速排出室外而不会影响其它工作区域。优点:管理容易,运转开始短时间内即可达稳定状态,不易为作业状态或作业人员所影响。乱流式缺点:构造费用较高,弹性运用空间困难,天花板之吊架相当占空间,维修更换过滤器较麻烦。复合式。净化工程的实施应考虑到操作人员的舒适度。衢州净化工程报价
净化工程中,定期的设备校准是保证精度的关键。油烟净化工程公司
随着空气洁净度要求的提高,出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举,但作为总的原则看,由于加工精度越来越精细,所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中,作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100um的硅片,温度上升1度,就引起了,所以必须有±,同时要求湿度值一般较低,因为人出汗以后,对产品将有污染,特别是怕钠的半导体车间,这种车间温度不宜超过25度,湿度过高产生的问题更多。油烟净化工程公司
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