重庆气浮隔振光学平台位移

时间:2021年04月21日 来源:

光学平台的硬重比对于其共振频率有着重要的影响。较高的硬重比可以提高平台的共振频率,从而降低其在外界影响下的振动。而且在外力作用下,具有较高硬重比的平台可以在小的重量下产生小的变形,增加系统内部的刚性。内部采用蜂窝状支撑结构的光学平台可以充分的提高硬重比,达到提高系统性能的目的。将系统组装成动态的刚性结构可以保证系统内部的相对稳定性,且可以降低在外界的影响下产生共振的几率,提高系统的稳定性。对于化学实验室来说,物理实验室实验台面对于耐腐蚀性几乎没有要求,光学实验室要求实验台水平度高、抗震性良好,机械实验室要求实验台面抗打击、耐磨、承重系数高,还有一些物理实验要求实验台防静电。无论何种激光应用,为维持光路稳定,振动隔离和桌面阻尼的重要性都是再强调也不为过。重庆气浮隔振光学平台位移

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不要过于看重产品某一两项参数,应该对产品的整体进行了解,并进行一定检验。例如光学平台中的重要参数如平面度、平台不平度、固有频率、振幅、工作压力和大负载等参数都要有详细的了解并对其进行检测。这样才可以根据产品的一些重要参数来选择自己想要购买的光学平台。平台所有外露表面平整光滑,底面喷防锈油漆,漆面光亮平整,无凹陷;锐边倒角;整个外部整洁美观大方。另外,平台在做实验使用过程中,表面勿遗洒落水渍等有腐蚀性的液体,如有要及时用干净纸巾和布擦拭干净,空气压缩机要定期给予检查加油,平台水平在放置每6个月后都应当重新调整。福建自平衡光学平台价格为了改善性能,每种尺寸的平台和面包板的阻尼效果都需要进行优化。

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光学平台的平面度,通常是指单位面积内,被测实际表面相对其理想平面的变动量。通常国外光学平台的平面度指标为:±0.1mm/600mm×600mm,的光学平台,通过精密磨削工艺,将平面度指标提高到0.02~0.05mm/600mm×600mm。但严格意义上来说,光学平台平面度,对于隔振性能,没有任何影响,甚至若为了追求高平面度,往往会去世掉光学平台的隔振性能,原因如下:我们知道,光学平台台面,若为达到高平面度,通常需要反复磨削,在加工过程中,多次磨削容易使材料产生形变,为了减少形变,通常要加厚台面,但我们通过振动恢复时间的说明已经知道,台面加厚质量增加,平台的振动恢复时间往往成倍(甚至几倍)增加,在很多精密光学实验中,这是不可接受的。

光学平台平面度(≤0.05㎜/㎡):该指标越小即表明台面越平整,调整光路就越容易。一般出厂要求平面度小于0.05㎜/㎡,检测方法一般有:光电自准直仪法、光学平面度检查仪检测法、水平仪检测法、激光平面度检测仪等等。对安装在实验室的光学平台平面度一般采用光电直准仪和光学平直度检查仪检测,经计算后得出。这些仪器也是生产厂商应必须配置的。光学平台表面密迪纹理及粗糙度(Ra≤0.8μm):该指标的意义在于保证光学平台有一个光滑但无反射的工作表面。良好的表面粗糙度有利对实验仪器的保护,产品出厂要求一般在Ra≤0.8μm以下,粗糙度完成可采用对比样板目测和粗糙度仪检测,如果是现场检测可采用粗糙度仪完成。光学元件的形变是系统不稳定的第二大来源。

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对于平台上的光学元件来说,平面度引起的高度差,通常可以忽略不计,若确有必要考虑高度差,则完全可以通过卓立精密调整的位移台来实现。综上所述,光学平台的平面度,同光学平台的隔振性能不相关,只能做为光学平台的一个辅助指标,供参考。振动物体离开平衡位置的大距离叫振动的振幅。振幅在数值上等于大位移的大小。对于光学平台系统,台面受外力作用时,离开平衡位置的大距离,同光学平台系统的结构、受力大小、受力的位置、瞬时加速度、速度、持续时间、台面的刚性、隔振系统的阻尼比等诸多因素有着非常复杂的非线性函数关系,如果标称振幅的具体指标,需要注明上述特定的实验条件,否则振幅的指标,变得没有意义。对于阻尼隔振的光学平台,振幅通常在微米量级,而气浮式隔振平台,振幅通常为毫米量级甚至是厘米量级。及国外厂商的光学平台并未标称光学平台振幅的指标。在设备与桌面间放置柔性垫、为排气管增加挡板或使用隔声罩。贵州Newport光学平台位移

需要注意的是,光学平台尽管提供了相对稳定的环境,但不能完全阻止来自桌面本身的振动。重庆气浮隔振光学平台位移

光学平台终稳定后的高度差。这个指标同负载的大小、加载的位置、加载时的速度、加速度、卸载时的速度、加速度等等指标有很大的关系,对于充气式平台,还有一个重要前提,就是加载前后,气囊中空气的压力、温度和质量不发生变化。不要过于看重产品某一两项参数,应该对产品的整体进行了解,并进行一定检验.例如光学平台中的重要参数如平面度、平台不平度、固有频率、振幅、工作压力和大负载等参数都要有详细的了解并对其进行检测.这样才可以根据产品的一些重要参数来选择自己想要购买的光学平台。重庆气浮隔振光学平台位移

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