新疆捕集装置厂家供应

时间:2022年04月28日 来源:

Lumin吹扫捕集装置美国的TeledyneTekmar公司自从20世纪70年代**早开发出吹扫捕集PTC技术并推出商用产品后便一直是这项技术的***,Lumin吹扫捕集装置(PTC)是Tekmar***一代的产品。其***研制的捕集阱(StratTrap)可以提供***的捕集性能,先进的质量流量控制器(MFC)可以保证传输气体的精确性,新一代惰性样品传输管路(Siltek硅钢)可很大程度地减少残留现象,该款仪器不仅提升了仪器的精密度和可靠性,而且还**提高了实验室的分析效率。捕集装置,就选上海禹重实业有限公司,有需求可以来电咨询!新疆捕集装置厂家供应

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吹扫捕集法的改进技术内标法校正结果由于基体干扰、吹扫效率、起泡效率、吸附剂的选择、解吸温度和吹扫装置设计等因素的影响,吹扫捕集法往往存在回收率波动大的缺点。为准确定量待测物,用内标法对测定结果进行修正是一种有效的方法。常用的内标法包括:标准加入法、替代内标法和稳定同位素标记内标法,其中稳定同位素标记内标法是目前吹扫捕集法定量研究中**精确的辅助方法。省却冷却系统的吹扫捕集法运用两级捕集管重富集产生窄带分析物是吹扫捕集法与毛细管色谱联用的必要步骤。由于重富集的实现需要特制冷却系统(冷捕集法),因此对实验室提出了较高的要求。Zygmunt自制配置两级捕集管的吹扫捕集装置,能够较好地与毛细管色谱联结,更重要的是此装置无需冷却系统,降低了实验要求。在对三卤代甲烷和其他卤代有机物的分析检测中,方法的检出限低于1ng/kg。安徽专业捕集装置哪家好捕集装置,就选上海禹重实业有限公司,用户的信赖之选,欢迎您的来电哦!

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吹扫捕集法应用中存在的问题吹扫气流速和吹扫时间的选择吹扫气流速取决于待分析物挥发性的大小。流速偏低时,不利于对含量低的样品进行定量分析;而太高的流速又会增加水蒸气对检测的干扰。吹扫时间是影响方法回收率和灵敏度的一个重要因素。吹扫时间偏短时,溶液中的分析物挥发不充分,吹扫时间太长又会吹脱吸附剂表面的分析物。交叉污染样品在捕集管的冷点浓缩或解吸不充分导致少部分样品残留而引起交叉污染,这种情况常源于系统超载运行。通过延长捕集管的烘烤时间可以达到彻底清洁的目的。交叉污染发生时,常有无关背景峰出现,且峰形与前次样品化合物指纹吻合。当然载气不纯,实验室空气中的VOCs超标等客观因素也会引起额外峰,所以安装捕集管时必须使用尺寸适宜的金属箍,避免漏气对实验结果的影响。

使用吹扫捕集温度选择的注意事项:  样品的吹扫温度。水溶液大多在室温下吹扫,只要吹扫时间足够长,就能满足分析要求。有时为缩短吹扫时间,也可对样品加热,但升高温度的副作用增加了水的挥发。对于非水溶液,如某些肉类食品,则采用高一些的吹扫温度。  捕集器温度。这里又有吸附温度和解吸温度之别。吸附温度常为室温,但对不易吸附的气体也可采用低温冷漠捕食技术。即用冷气、液态二氧化碳或液氮控制捕集管的温度。至于解吸温度,是吹扫--捕集技术的重要参数,应依据待测组分的性质和吸附的性质来优化确定。商品化自动吹扫--捕集进样器的解吸温度比较高可达450℃,但在部分环境分析的标准方法(如美国EPA方法)均采用200℃左右的吹扫温度。  连接管路的温度,它应足够设防止样品冷凝.环境分析常用的连接管温度为80-150℃。捕集装置,就选上海禹重实业有限公司,让您满意,欢迎新老客户来电!

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吹扫捕集法的改进技术新型接口技术吹扫捕集器与气相色谱的联结有两种方法可行。第一种方法是把色谱柱直接连接到吹扫捕集器的接口模块上,解吸出来的VOCs全部导人GC。这种方法灵敏度高,但色谱分离效率较低且需要大型质谱仪;第二种方法用小内径的毛细管柱把GC-MS进样口和吹扫捕集器的接口模块联结起来,因解吸气流量相对于毛细管而言偏大,气相色谱采用分流进样,所以*有一部分解吸物进入色谱柱,这种方法有较好的分离效率,但灵敏度不高。捕集装置,就选上海禹重实业有限公司,用户的信赖之选,欢迎新老客户来电!山东捕集装置厂家报价

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吹扫捕集法在应用中存在的问题样品起泡当样品中含有表面活性剂或清洁剂时,吹扫捕集法常发生起泡现象。样品起泡不仅容易损坏捕集管,致使传输线不可逆污染,极端情况下还会影响色谱柱及检测器的分离分析效率。当前,消除泡沫干扰的办法通常是在吹扫瓶的颈部装上泡沫捕集器,消泡原理是把泡沫拉长直至破裂,但这种方法*对少量气泡起作用。经验丰富的分析人员常会在样品置于吹扫瓶之前充分振荡,检查是否有大量气泡出现,如若泡沫丰富则作稀释处理或添加防沫剂。硅粉和硅树脂型防沫剂是控制聚乙二醇二甲醚及碱性清洁剂型泡沫的**常用试剂。以上方法从一定程度上缓解了问题,但往往不能彻底去除气泡。Tekmar公司研发了一种配置有光敏二极管泡沫传感器的内置型Guardian仪,它是一种高效除泡设备,能够解决样品大量起泡的问题。新疆捕集装置厂家供应

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