常州铬镍铜靶厂家
什么是靶材绑定
主要从靶材绑定的定义,适用范围和背靶的选择三个方面来为大家介绍一下靶材绑定。
一.靶材绑定的定义
靶材绑定是指用焊料将靶材与背靶焊接起来。主要由三种方式:压接、钎焊和导电胶。
1.压接:采用压条,一般为了提高接触的良好性,会增加石墨纸、Pb或In皮;
2.钎焊:一般使用软钎料的情况下,要求溅射功率小于20W/cm2,钎料常用In、Sn、In-Sn;
3.导电胶:采用的导电胶要耐高温,厚度在0.02-0.05um。
二.绑定的适用范围
建议绑定的靶材:
ITO、SiO2、陶瓷脆性靶材及烧结靶材;锡、铟等软金属靶;靶材太薄、靶材太贵的情况等。 不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。常州铬镍铜靶厂家
阳光控制镀膜玻璃的优点 阳光控制镀膜玻璃主要就是为了遮光隔热,根据它的物理特性也叫做热反射镀膜玻璃,在普通的透明玻璃上通过磁控溅射真空镀膜机镀上一层或多层薄膜,在这里我们简称反射玻璃。 反射玻璃相对于普通透明玻璃而言,在太阳能的反射性能上,反射玻璃一次的反射比普通玻璃高出4.3倍,第二次的反射高出3.1倍,总的反射就高出3.6倍了;在遮蔽系数上,反射玻璃比普通玻璃减少0.18,系数越少,遮光效果就会越好的,减少太阳辐射和热能的透射;在可见光的反射和透射上,反射玻璃比普通玻璃反射增加了20%~38%,透射减少了55%~70%,具有良好的遮光性能;在传热系数上,反射玻璃比普通玻璃降低了0.4W(m2.K),具有良好的隔热性能。 利用其良好的遮光和隔热性能,可以大降低在室内制冷和保暖的花费,是一种非常好的节能产品,而且可以通过不同的金属或金属化合物为靶材,镀制出不同颜色的反射膜,常见的颜色有茶色、灰色、金黄色、古铜色、褐色、珊瑚黄色,通过不同的配搭,达到装饰的效果,即美观又节能。南通氧化钇靶功能由于所使用冷却水的洁净程度和设备运行过程中可能会产生的污垢会沉积在阴极冷却水槽内。
靶中毒的影响因素
影响靶中毒的因素主要是反应气体和溅射气体的比例,反应气体过量就会导致靶中毒。反应溅射工艺进行过程中靶表面溅射沟道区域内出现被反应生成物覆盖或反应生成物被剥离而重新暴露金属表面此消彼长的过程。如果化合物的生成速率大于化合物被剥离的速率,化合物覆盖面积增加。在一定功率的情况下,参与化合物生成的反应气体量增加,化合物生成率增加。如果反应气体量增加过度,化合物覆盖面积增加,如果不能及时调整反应气体流量,化合物覆盖面积增加的速率得不到***,溅射沟道将进一步被化合物覆盖,当溅射靶被化合物全部覆盖的时候,靶完全中毒,在靶面上沉积一层化合金属膜。使其很难被再次反应。
一.靶材磁控溅射的原理是什么?磁控溅射原理:在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场,溅射靶材在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气),永久磁铁在靶材料表面形成250~350高斯的磁场,同高压电场组成正交电磁场。
在电场的作用下,Ar气电离成正离子和电子,靶上加有一定的负高压,从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率增大,在阴极附近形成高密度的等离子体,Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面,以很高的速度轰击靶面,使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。 磁控溅射一般分为二种:直流溅射和射频溅射,其中直流溅射设备原理简单,在溅射金属时,其速率也快。 溅射靶材安装过程中**重要的注意事项是一定要确保在靶材和溅射冷却壁之间建立很好的导热连接。
气体压强对靶溅射电压的影响 在磁控溅射或反应磁控溅射镀膜的工艺过程中,工作气体或反应气体压强对磁控靶溅射电压能够造成一定的影响。 1.工作气体压强对靶溅射电压的影响 一般的规律是:在真空设备环境条件确定和靶电源的控制面板设置参数不变时,随着工作气体(如氩气)压强(0.1~10Pa)的逐步增加,气体放电等离子体的密度也会同步增加,致使等离子体等效阻抗减小,磁控靶的溅射电流会逐步上升,溅射工作电压亦会同步下降。 2. 反应气体压强对靶溅射电压的影响 在反应磁控溅射镀膜的工艺过程中,在真空设备环境条件确定和靶电源的控制面板设置参数不变时,随着反应气体(如氮气、氧气)压强(或流量)的逐步增加(一般应注意不要超过工艺设定值的上限值),随着磁控靶面和基片(工件)表面逐步被绝缘膜层覆盖,阴-阳极间放电的等效阻抗也会同步增高,磁控靶的溅射电流会逐步下降(直至“阴极中毒”和“阳极消失”为止),溅射工作电压亦会同步上升。果用冷却壁的翘曲程度严重或背板翘曲严重会造成靶材安装时发生开裂或弯曲。常州铬镍铜靶厂家
如果化合物的生成速率大于化合物被剥离的速率,化合物覆盖面积增加。常州铬镍铜靶厂家
磁控溅射镀膜中出现膜层不良的表现有哪些,如何改善? 1.脱膜主要表现:点状/片状膜层脱落 原因分析:杂质附着,清洗残留,真空室脏,脏污、油斑、灰点、口水点, 膜层局部附着不良等。 改善:加强清洗,加强烘烤,环境管控(清洁干燥),对于多层膜系,底层须与基材匹配(吸附力、硬度、热膨胀)。 2.裂纹/暴膜主要表现: 网状裂痕/龟裂/起泡脱膜,出炉外观OK,放置一段时间后爆裂/起泡脱膜。 原因分析:镀膜过程基材加热不充分,成膜后及出炉后降温过快,膜层应力累积, 膜层与基材不匹配,多层膜之间参数不匹配。 改善: 基材充分预热加热;增加离子辅助,减小应力;镀膜缓慢降温;底层须与基材匹配;多层膜之间参数不突变。 3,色差主要表现:同炉产品颜色不一致 原因分析及改善:靶材分布;布气;磁场;遮挡。常州铬镍铜靶厂家
江阴典誉新材料科技有限公司地处江苏省江阴市,是一家专业生产溅射靶材和蒸发材料的公司,溅射靶材充分借鉴国外的先进技术,并通过与国内外**研发机构合作,整合各行业资源优势,生产出多系列***溅射靶材产品。 公司目前主要生产金属,合金,陶瓷三大类靶材产品。经过几年的发展和技术积累,已经拥有:真空热压,冷压烧结,真空熔炼,热等静压,等离子喷涂等技术。另外也可根据客户要求研发新型靶材并提供靶材金属化、绑定和背板服务。 江阴典誉新材料科技有限公司已为以下行业提供***的靶材:平面显示、装饰与工具、太阳能光伏和光热、电子和半导体、建筑与汽车玻璃大面积镀膜等工业领域。同时也为国内外各大院校和研究所提供了很多常规和新型的试验用靶材。 江阴典誉目前拥有真空热压炉两台,冷压烧结炉一台,真空熔炼设备两台,等静压设备一台,等离子喷涂两套,绑定平台两套,各类机加工设备七台,检验设备若干,确保出厂的每件产品都能达到甚至超过客户的预期。 江阴典誉秉承:“一切以客户的需求为导向,客户的所有需求一次做好。”的发展理念。
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