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顶板210与所述侧板220为一体成型。在其他实施例中,所述顶板与所述侧板还可以采用焊接、螺接或紧密配合方式固定连接。固定板200的材料为合金,具体的,所述固定板200的材料为不锈钢。在其他实施例中,所述固定板的材料还可以为金属。固定板200的厚度为10mm~15mm。若所述固定板200的厚度过大,使得所述固定板200的重量过大,不便于使用,影响操作的灵活性。若所述固定板200的厚度过小,导致所述固定板200的强度和韧性较差,影响所述靶材抛光装置100的使用寿命。
抛光片300表面与靶材侧壁表面及经圆角处理的侧棱相匹配。所述抛光片300表面具有磨砂颗粒,用于增加所述抛光片300与靶材表面间的摩擦力,以提高抛光效率。所述抛光片300为砂纸。 晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快。武汉Ti靶材费用
陶瓷靶材:
ITO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、溅射靶材氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶,、二氧化铪靶,二硼化钛靶,二硼化锆靶,三氧化钨靶,三氧化二铝靶五氧化二钽,五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶,氮化硅靶,氮化硼靶,氮化钛靶,碳化硅靶,铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶、溅射靶材等。 武汉Ti靶材费用压靶盖旋的过紧,没有和靶材之间留下适当的距离,调整距离即可。
真空镀膜机分类真空镀膜机在近二十年内发展迅速,其涉足的行业包括:塑料、五金、建筑、模具、装饰、陶瓷、汽车等行业,而真空镀膜设备根据各大个行业的功能需求,发展为蒸发真空镀膜机、多弧离子真空镀膜机、磁控溅射真空镀膜机。其中蒸发机主要应用于塑料、五金等行业。表面进行蒸发镀铝、鉻、一氧化硅的设备,所镀膜层特点:牢固且细密,是工业化生产的理想设备,其大的优点是它的环保性,真空镀膜设备属于无三废、无污染的清洁生产设备,无须环保部门审批。多弧离子真空镀膜机主要应用于表面涂装PVD膜层,是目前世界上先进涂装PVD膜层设备,真空所自主研发生产的多弧离子真空镀膜设备运用PLC及触摸屏实现自动化逻辑程序控制操作,设备结构合理、外观优雅、性能稳定、操作达到人机对话,简便。
防护层为弹性材料,所述防护层的质地软,能够在所述固定板及靶材间提供缓冲,避免所述固定板触撞靶材导致靶材受损。
具体实施方式:
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂,下面结合附图对本发明的具体实施例做详细的说明。
一种靶材抛光装置100,包括:固定板200,所述固定板200包括顶板210和位于所述顶板210一侧的侧板220;抛光片300,位于所述固定板200内侧面上,其中位于固定板200弯折处的抛光片300呈弧状。固定板200能够起到支架的作用,以固定支撑所述抛光片300,便于操作人员使用所述靶材抛光装置100。顶板210呈矩形状,所述侧板220也呈矩形状。固定板200内侧面弯折处形成夹角。具体的,所述侧板220表面垂直于所述顶板210表面,即所述夹角为90°。在其他实施例中,所述夹角还可以大于90°且小于180°。 在受到离子轰击之后,释放的二次电子数量增加,提高空间的导通能力,降低等离子体阻抗,导致溅射电压降低。
在上述具体实施方式中所描述的各个具体技术特征,在不矛盾的情况下,可以通过任何合适的方式进行组合,为了避免不必要的重复,本发明对各种可能的组合方式不再另行说明。
此外,本发明的各种不同的实施方式之间也可以进行任意组合,只要其不违背本发明的思想,其同样应当视为本发明所公开的内容。
本发明涉及靶材领域,具体涉及一种长寿命靶材组件。
目前,现有的半导体溅射用ilc1013系列靶材的溅射寿命已经到了一个极限,为提高靶材的使用寿命,节省多次更换靶材的重复性。现有的技术都是通过磁场强度,把靶材表面设计成曲面来延长寿命,包括靶材本体及基体,所述基体的至少一面设有所述靶材本体,所述靶材本体是由高纯度靶材合金粉末通过等离子弧喷涂机喷涂熔焊在所述基体上。所述基体与所述靶材本体的结合面为呈内凹的圆弧面。所述基体为矩形体或圆形。所述靶材的制造方法步骤如下:(1)准备合金粉体;(2)准备基体;(3)等离子转移弧喷涂成型;(4)、清理被喷涂层表面,按照步骤(3)的要求再次喷涂处理,直至获得要求厚度的靶材。本发明有益效果在于:一是生产的靶材无气孔残留;二是生产设备简单、投资小;三是靶材可以修复再利用。 如果化合物的生成速率大于化合物被剥离的速率,化合物覆盖面积增加。武汉Ti靶材费用
在真空条件下气体之间不可能进行热传导,所以,化学反应必须在一个固体表面进行。武汉Ti靶材费用
电致变色的工作原理: 电致变色材料在外加电场作用下发生电化学氧化还原反应,得失电子,使材料的颜色发生变化电致变色器件的典型结构器件结构从上到下分别为:玻璃或透明基底材料、透明导电层(如:ITO)、电致变色层、电解质层、离子存储层、透明导电层(如:ITO)、玻璃或透明基底材料。器件工作时,在两个透明导电层之间加上一定的电压,电致变色层材料在电压作用下发生氧化还原反应,颜色发生变化;而电解质层则由特殊的导电材料组成,如包含有高氯酸锂、高氯酸纳等的溶液或固体电解质材料;离子存储层在电致变色材料发生氧化还原反应时起到储存相应的反离子,保持整个体系电荷平衡的作用,离子存储层也可以为一种与前面一层电致变色材料变色性能相反的电致变色材料,这样可以起到颜色叠加或互补的作用。如:电致变色层材料采用的是阳极氧化变色材料,则离子存储层可采用阴极还原变色材料。武汉Ti靶材费用
江阴典誉新材料科技有限公司地处江苏省江阴市,是一家专业生产溅射靶材和蒸发材料的公司,溅射靶材充分借鉴国外的先进技术,并通过与国内外**研发机构合作,整合各行业资源优势,生产出多系列***溅射靶材产品。 公司目前主要生产金属,合金,陶瓷三大类靶材产品。经过几年的发展和技术积累,已经拥有:真空热压,冷压烧结,真空熔炼,热等静压,等离子喷涂等技术。另外也可根据客户要求研发新型靶材并提供靶材金属化、绑定和背板服务。 江阴典誉新材料科技有限公司已为以下行业提供***的靶材:平面显示、装饰与工具、太阳能光伏和光热、电子和半导体、建筑与汽车玻璃大面积镀膜等工业领域。同时也为国内外各大院校和研究所提供了很多常规和新型的试验用靶材。 江阴典誉目前拥有真空热压炉两台,冷压烧结炉一台,真空熔炼设备两台,等静压设备一台,等离子喷涂两套,绑定平台两套,各类机加工设备七台,检验设备若干,确保出厂的每件产品都能达到甚至超过客户的预期。 江阴典誉秉承:“一切以客户的需求为导向,客户的所有需求一次做好。”的发展理念。
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