杭州Sn靶材型号
磁控溅射一定要求靶材表面要抛光吗?磁控溅射过程中,等离子体的离子撞击靶材,溅射出靶材的原子、原子团、离子、电子、光子等,原子、离子、原子团沉积到基材上形成薄膜。
溅射发生在靶材表面,靶材表面物理状态不均匀也没有关系,溅射的时候会先溅射凸起,溅射时间长了,靶材自己就平了。所以物理不均匀的状态不需要抛光。
溅射过程不影响靶材合金、混合材质的比例和性质,所以如果是表面容易变质的靶材,如果不抛光去除表面变质部分,沉积到基材上的膜层性质就是表面变质的杂质。 此外,提高靶材的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。杭州Sn靶材型号
背景技术:
溅射镀膜属于物相沉积方法制备薄膜的工艺之一,具体是指利用高能粒子轰击靶材表面,使得靶材原子或分子获得足够的能量逸出,并沉积在基材或工件表面,从而形成薄膜。由于背板具有良好的导电导热性能,且还可以起到固定支撑作用,因此,靶材在镀膜前需与背板焊接在一起,然后共同装配至溅射基台。一般活性金属靶材,例如铝靶材,由于长期暴露在空气中,靶材表面材料容易氧化形成一层氧化皮。在直流脉冲、中频溅射过程中,离子撞击的能量不足以破坏该氧化皮,导致靶材原子或分子难以逸出,因此在将靶材安装至溅射基台之前,需要对靶材表面进行抛光。此外,对于活性金属靶材及非活性金属靶材,抛光操作有利于改善靶材的溅射速率的稳定性,有助于提高溅射镀膜质量。 杭州Sn靶材型号一般情况下磁控溅射的溅射电压在400V-600V之间,当发生靶中毒时,溅射电压会降低。
与实施例1的区别*在于所述靶材表面的硬度为10hv;所得靶材组件溅射强度差,使得溅射过程中薄膜厚度不均匀,使用寿命减少。
对比例4
与实施例1的区别*在于所述靶材表面的硬度为35hv;所得靶材组件溅射强度差,使得溅射过程中薄膜厚度不均匀,使用寿命减少。
通过上述实施例和对比例的结果可知,本发明中,通过调整靶材表面的高度差及硬度,保证溅射强度,使得溅射过程中薄膜厚度均匀,使用寿命增加。
申请人声明,本发明通过上述实施例来说明本发明的详细结构特征,但本发明并不局限于上述详细结构特征,即不意味着本发明必须依赖上述详细结构特征才能实施。所属技术领域的技术人员应该明了,对本发明的任何改进,对本发明所选用部件的等效替换以及辅助部件的增加、具体方式的选择等,均落在本发明的保护范围和公开范围之内。
以上详细描述了本发明的推荐实施方式,但是,本发明并不限于上述实施方式中的具体细节,在本发明的技术构思范围内,可以对本发明的技术方案进行多种简单变型,这些简单变型均属于本发明的保护范围。
溅射靶材的制备方法有哪些?溅射靶材是指通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜设备在适当工艺条件下溅射沉积在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。溅射靶材普遍应用于装饰、工模具、玻璃、电子器件、半导体、磁记录、平面显示、太阳能电池等众多领域,不同领域需要的靶材各不相同。
溅射靶材的制备:
溅射靶材的制备按工艺可分为熔融铸造和粉末冶金两大类,除严格控制材料纯度、致密度、晶粒度以及结晶取向之外,对热处理条件、后续加工方法等亦需加以严格控制。
粉末冶金法:
粉末冶金法制备靶材时,其关键在于:(1)选择高纯、超细粉末作为原料;(2)选择能实现快速致密化的成形烧结技术,以保证靶材的低孔隙率,并控制晶粒度;(3)制备过程严格控制杂质元素的引入。 溅射的时候会先溅射凸起,溅射时间长了,靶材自己就平了。所以物理不均匀的状态不需要抛光。
为确保足够的导热性,可以在阴极冷却壁与靶材之间加垫一层石墨纸。请注意一定要仔细检查和明确所使用溅射头冷却壁的平整度,同时确保O型密封圈始终在位置上。
由于所使用冷却水的洁净程度和设备运行过程中可能会产生的污垢会沉积在阴极冷却水槽内,所以在安装靶材时需要对阴极冷却水槽进行检查和清理,确保冷却水循环的顺畅和进出水口不会被堵塞。
有些阴极设计是与阳极的空隙较小,所以在安装靶材时需要确保阴极与阳极之间没有接触也不能存在导体,否则会产生短路。
请参考设备商操作手册中关于如何正确安装靶材的相关信息。在收紧靶材夹具时,请先用手转紧一颗镙栓,再用手转紧对角线上的另外一颗镙栓,如此重复直到安装上所有镙栓后,再用工具收紧。 在直流脉冲、中频溅射过程中,离子撞击的能量不足以破坏氧化皮。杭州Sn靶材型号
靶材密度越高,薄膜的性能越好。杭州Sn靶材型号
玫瑰金靶材有哪些? PVD玫瑰金是靠溅射玫瑰金靶形成的,不同的玫瑰金靶配方颜色上有一些区别,大概分为以下几种: 1、皇冠金(crown gold),黄金含量在22K(91.667%),由英国亨利八世(1526年)将此比例的黄金用于金币的铸造 2、常见的也是典型的18K玫瑰金,黄金含量也在18K(75%),但其它另含有约4%的银和21%的铜,呈现美丽的淡粉玫瑰色 3、14K红金,黄金含量在14K(58.33%),其它添加金属为铜(41.67%)。 有的PVD镀膜厂玫瑰金靶也有添加一些其它的稀有元素,用来达到不同的色调或用来改变镀层的性能,这也是市面上每一家PVD厂镀出的色调都有一些差异的原因之一。杭州Sn靶材型号
江阴典誉新材料科技有限公司地处江苏省江阴市,是一家专业生产溅射靶材和蒸发材料的公司,溅射靶材充分借鉴国外的先进技术,并通过与国内外**研发机构合作,整合各行业资源优势,生产出多系列***溅射靶材产品。 公司目前主要生产金属,合金,陶瓷三大类靶材产品。经过几年的发展和技术积累,已经拥有:真空热压,冷压烧结,真空熔炼,热等静压,等离子喷涂等技术。另外也可根据客户要求研发新型靶材并提供靶材金属化、绑定和背板服务。 江阴典誉新材料科技有限公司已为以下行业提供***的靶材:平面显示、装饰与工具、太阳能光伏和光热、电子和半导体、建筑与汽车玻璃大面积镀膜等工业领域。同时也为国内外各大院校和研究所提供了很多常规和新型的试验用靶材。 江阴典誉目前拥有真空热压炉两台,冷压烧结炉一台,真空熔炼设备两台,等静压设备一台,等离子喷涂两套,绑定平台两套,各类机加工设备七台,检验设备若干,确保出厂的每件产品都能达到甚至超过客户的预期。 江阴典誉秉承:“一切以客户的需求为导向,客户的所有需求一次做好。”的发展理念。
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