镇江碳化铌靶材贴合

背景技术：

溅射镀膜属于物相沉积方法制备薄膜的工艺之一，具体是指利用高能粒子轰击靶材表面，使得靶材原子或分子获得足够的能量逸出，并沉积在基材或工件表面，从而形成薄膜。由于背板具有良好的导电导热性能，且还可以起到固定支撑作用，因此，靶材在镀膜前需与背板焊接在一起，然后共同装配至溅射基台。一般活性金属靶材，例如铝靶材，由于长期暴露在空气中，靶材表面材料容易氧化形成一层氧化皮。在直流脉冲、中频溅射过程中，离子撞击的能量不足以破坏该氧化皮，导致靶材原子或分子难以逸出，因此在将靶材安装至溅射基台之前，需要对靶材表面进行抛光。此外，对于活性金属靶材及非活性金属靶材，抛光操作有利于改善靶材的溅射速率的稳定性，有助于提高溅射镀膜质量。 正离子到达阴极靶面时由于绝缘层的阻挡，堆积在靶面上，容易产生冷场致弧光放电，使阴极溅射无法进行下去。镇江碳化铌靶材贴合

靶材材质对靶溅射电压的影响 ：

1. 在真空条件不变的条件下,不同材质与种类靶材对磁控靶的正常溅射电压会产生一定的影响。

2. 常用的靶材(如铜Cu、铝Al、钛Ti„)的正常溅射电压一般在400~600V的范围内。

3. 有的难溅射的靶材(如锰Mn、铬Cr等) 的溅射电压比较高, 一般需>700V以上才能完成正常磁控溅射过程;而有的靶材(如氧化铟锡ITO) 的溅射电压比较低，可以在200多伏电压时实现正常的磁控溅射沉积镀膜。

4. 实际镀膜过程中，由于工作气体压力变化，或阴极与阳极间距偏小(使真空腔体内阻抗特性发生变化)，或真空腔体与磁控靶的机械尺寸不匹配，同时选用了输出特性较软的靶电源等原因，导致磁控靶的溅射电压(即靶电源输出电压)远低于正常溅射示值，则可能会出现靶前存虽然呈现出很亮的光圈，就是不能见到靶材离子相应颜色的泛光，以至不能溅射成膜的状况。 常州五氧化二钽靶材图片靶材安装及注意事项有哪些？

本实施例提供一种长寿命靶材组件，所述靶材表面的比较高点和比较低点的垂直距离为5.95mm；所述靶材表面的硬度为23hv；

其中，所述靶材的比较大厚度为27mm；所述靶材组件还包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形结构；所述靶材包括用于溅射的溅射面；所述溅射面包括平面、第二平面和斜面；所述斜面与水平面的夹角为3°；所述斜面位于所述平面和第二平面之间；所述平面为圆形；所述第二平面为环形；所述靶材的材质包括钽；所述背板的材质包括铝。

所得靶材组件溅射强度好，使得溅射过程中薄膜厚度均匀，使用寿命增加。

实施例7

本实施例提供一种长寿命靶材组件，所述靶材表面的比较高点和比较低点的垂直距离为5.75mm；所述靶材表面的硬度为22hv；

其中，所述靶材的比较大厚度为20mm；所述靶材组件还包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形结构；所述靶材包括用于溅射的溅射面；所述溅射面包括***平面、第二平面和斜面；所述斜面与水平面的夹角为9°；所述斜面位于所述***平面和第二平面之间；所述平面为圆形；所述第二平面为环形；所述靶材的材质包括钛；所述背板的材质包括铜。

所得靶材组件溅射强度好，使得溅射过程中薄膜厚度均匀，使用寿命增加。

与现有技术相比，本发明的技术方案具有以下优点：

本发明提供的靶材抛光装置的技术方案中，所述靶材抛光装置包括：固定板，所述固定板包括顶板和位于所述顶板一侧的侧板；抛光片，位于所述固定板内侧面上，其中位于固定板弯折处的抛光片呈弧状。位于固定板弯折处的抛光片表面适于对靶材经圆角处理的侧棱进行抛光，位于侧板上的所述抛光片表面适于对靶材侧壁表面进行抛光。所述靶材抛光装置能够对靶材侧壁表面及经圆角处理的侧棱同时进行抛光，因此所述靶材抛光装置有助于提高对靶材表面进行抛光的作业效率。

可选方案中，所述防护层为弹性材料，所述防护层的质地软，能够在所述固定板及靶材间提供缓冲，避免所述固定板触撞靶材导致靶材受损。 正离子堆积：靶中毒时，靶面形成一层绝缘膜。

PECVD 制备氢化非晶硅薄膜   本实验采用单晶硅片为衬底，按石英玻璃基片的清洗步骤清洗后烘干，然后置于PECVD系统中。样品制备条件为衬底温度250℃，工作气压120 Pa， 射频功率100 W， 气体流量SiH4/H2=15/5 sccm， 沉积时间30min， 制备得到a- Si：H 薄膜样品。   (1) 非晶硅薄膜的表面粗糙度会随着溅射功率的增大而增大，膜的均匀性将会变差;   (2) 非晶硅薄膜的表面粗糙度随着衬底加热温度的增大而减小，非晶硅薄膜均匀性变好;   (3) 在0.5 Pa 至2.0 Pa范围内，随着氩气气压的增加非晶硅薄膜的表面粗糙度稍微变大;   (4) 随着溅射时间的增加, 膜的厚度成非线性增加，沉积速率开始较快，之后逐渐减慢，膜的表面粗糙度逐渐变大;   (5)随着溅射气压的增大，沉积速率有所降低。晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快。镇江碳化铌靶材贴合

不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。镇江碳化铌靶材贴合

防护层为弹性材料，所述防护层的质地软，能够在所述固定板及靶材间提供缓冲，避免所述固定板触撞靶材导致靶材受损。

具体实施方式：

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施例做详细的说明。

一种靶材抛光装置100，包括：固定板200，所述固定板200包括顶板210和位于所述顶板210一侧的侧板220；抛光片300，位于所述固定板200内侧面上，其中位于固定板200弯折处的抛光片300呈弧状。固定板200能够起到支架的作用，以固定支撑所述抛光片300，便于操作人员使用所述靶材抛光装置100。顶板210呈矩形状，所述侧板220也呈矩形状。固定板200内侧面弯折处形成夹角。具体的，所述侧板220表面垂直于所述顶板210表面，即所述夹角为90°。在其他实施例中，所述夹角还可以大于90°且小于180°。 镇江碳化铌靶材贴合

江阴典誉新材料科技有限公司地处江苏省江阴市，是一家专业生产溅射靶材和蒸发材料的公司，溅射靶材充分借鉴国外的先进技术，并通过与国内外**研发机构合作，整合各行业资源优势，生产出多系列***溅射靶材产品。 公司目前主要生产金属，合金，陶瓷三大类靶材产品。经过几年的发展和技术积累，已经拥有：真空热压，冷压烧结，真空熔炼，热等静压，等离子喷涂等技术。另外也可根据客户要求研发新型靶材并提供靶材金属化、绑定和背板服务。 江阴典誉新材料科技有限公司已为以下行业提供***的靶材：平面显示、装饰与工具、太阳能光伏和光热、电子和半导体、建筑与汽车玻璃大面积镀膜等工业领域。同时也为国内外各大院校和研究所提供了很多常规和新型的试验用靶材。 江阴典誉目前拥有真空热压炉两台，冷压烧结炉一台，真空熔炼设备两台，等静压设备一台，等离子喷涂两套，绑定平台两套，各类机加工设备七台，检验设备若干，确保出厂的每件产品都能达到甚至超过客户的预期。 江阴典誉秉承：“一切以客户的需求为导向，客户的所有需求一次做好。”的发展理念。