南京碳化铌靶材

时间:2021年07月17日 来源:

钎焊:一般使用软钎料的情况下,要求溅射功率小于20W/cm2,钎料常用In、Sn、In-Sn;

导电胶:采用的导电胶要耐高温,厚度在0.02-0.05um。

二.绑定的适用范围:

建议绑定的靶材:

ITO、SiO2、陶瓷脆性靶材及烧结靶材;锡、铟等软金属靶;靶材太薄、靶材太贵的情况等。

但下列情况绑定有弊端:

1.熔点低的靶材,像铟、硒等,金属化的时候可能会变软变形;

2.贵金属靶材,一是实际重量易出现分歧,二是金属化以及解绑的时候都会有浪费料,建议垫一片铜片。

三.背靶的选择

对材质的要求:一般选用无氧铜和钼靶,厚度在3mm左右;

导电性好:常用无氧铜,无氧铜的导热性比紫铜好;

强度足够:太薄,易变形,不易真空密封;

结构要求:空心或者实心结构;

厚度适中:3mm左右,太厚,消耗部分磁强;太薄,容易变形。 靶面金属化合物的形成。南京碳化铌靶材

    靶材的比较大厚度为20-30mm;所述靶材组件还包括用于固定靶材的背板;所述靶材呈凹形结构;所述靶材包括用于溅射的溅射面;所述溅射面包括平面、第二平面和斜面;所述斜面与水平面的夹角≤10°;所述斜面位于所述***平面和第二平面之间;所述平面为圆形;所述第二平面为环形;所述靶材的材质包括铝、钽、钛或铜中的一种;所述背板的材质包括铜和/或铝。与现有技术方案相比,本发明具有以下有益效果:本发明中,通过调整靶材表面的高度差及硬度,利用二者之间的协同效果保证溅射强度,使得溅射过程中薄膜厚度均匀,使用寿命增加。下面对本发明进一步详细说明。但下述的实例**是本发明的简易例子,并不**或限制本发明的权利保护范围,本发明的保护范围以权利要求书为准。具体实施方式为更好地说明本发明,便于理解本发明的技术方案,本发明的典型但非限制性的实施例如下:实施例1本实施例提供一种长寿命靶材组件,所述靶材表面的比较高点和比较低点的垂直距离为;所述靶材表面的硬度为23hv 成都氧化锌镓靶材溅射过程不影响靶材合金、混合材质的比例和性质。

靶中毒现象:

正离子堆积:靶中毒时,靶面形成一层绝缘膜,正离子到达阴极靶面时由于绝缘层的阻挡,不能直接进入阴极靶面,而是堆积在靶面上,容易产生冷场致弧光放电---打弧,使阴极溅射无法进行下去。(2)阳极消失:靶中毒时,接地的真空室壁上也沉积了绝缘膜,到达阳极的电子无法进入阳极,形成阳极消失现象。

靶中毒的物理解释:

一般情况下,金属化合物的二次电子发射系数比金属的高,靶中毒后,靶材表面都是金属化合物,在受到离子轰击之后,释放的二次电子数量增加,提高了空间的导通能力,降低了等离子体阻抗,导致溅射电压降低。从而降低了溅射速率。一般情况下磁控溅射的溅射电压在400V-600V之间,当发生靶中毒时,溅射电压会明显降低。

金属靶材与化合物靶材本来溅射速率就不一样,一般情况下金属的溅射系数要比化合物的溅射系数高,所以靶中毒后溅射速率低。(3)反应溅射气体的溅射效率本来就比惰性气体的溅射效率低,所以反应气体比例增加后,综合溅射速率降低。

影响磁控靶溅射电压的主要因素有:靶面磁场、靶材材质、气体压强、阴-阳极间距等。本文详细分析这些因素距对靶溅射电压的影响。

一、 靶面磁场对靶溅射电压的影响 1. 磁控靶的阴极工作电压,随着靶面磁场的增加而降低,也随着靶面的溅射刻蚀槽加深而降低。溅射电流也随着靶面的溅射刻蚀槽加深而加大。这是因为靶的溅射刻蚀槽面会越来越接近靶材后面的磁钢的强磁场。因此,靶材的厚度是有限制的。较厚的非磁性靶材能够在较强的磁场中使用。 2. 铁磁性靶材会对磁控靶的溅射造成影响,由于大部分磁力线从铁磁性材料内部通过,使靶材表面磁场减少,需要很高电压才能让靶面点火起辉。除非磁场非常的强,否则磁性材靶材必须比非磁性材料要薄,才能起辉和正常运行(永磁结构的Ni靶的典型值<0.16cm,磁控靶非特殊设计最大值一般不宜超过3mm,Fe,co靶的最大值不超过2mm;电磁结构的靶可以溅射厚一些的靶材,甚至可达6mm厚)才能起辉和正常运行。正常工作时,磁控靶靶材表面的磁场强度为0.025T~0.05T左右;靶材溅射刻蚀即将穿孔时,其靶材表面的磁场强度大为提高,接近或大于0.1T左右。 所以如果是表面容易变质的靶材,如果不抛光去除表面变质部分,沉积到基材上的膜层性质就是表面变质的杂质。

顶板210与所述侧板220为一体成型。在其他实施例中,所述顶板与所述侧板还可以采用焊接、螺接或紧密配合方式固定连接。固定板200的材料为合金,具体的,所述固定板200的材料为不锈钢。在其他实施例中,所述固定板的材料还可以为金属。固定板200的厚度为10mm~15mm。若所述固定板200的厚度过大,使得所述固定板200的重量过大,不便于使用,影响操作的灵活性。若所述固定板200的厚度过小,导致所述固定板200的强度和韧性较差,影响所述靶材抛光装置100的使用寿命。

抛光片300表面与靶材侧壁表面及经圆角处理的侧棱相匹配。所述抛光片300表面具有磨砂颗粒,用于增加所述抛光片300与靶材表面间的摩擦力,以提高抛光效率。所述抛光片300为砂纸。 在直流脉冲、中频溅射过程中,离子撞击的能量不足以破坏氧化皮。常州YIG靶材价格

溅射靶材广泛应用于装饰、工模具、玻璃、电子器件、半导体、磁记录、平面显示、太阳能电池等众多领域。南京碳化铌靶材

靶材600呈长方体状,其顶部表面为靶材溅射面610,底部表面为靶材焊接面620,所述靶材焊接面620贴合于背板表面上,所述靶材600通过所述靶材焊接面620与背板焊接固定。所述靶材600具有四个侧壁表面630。

靶材600具有十二条侧棱601,各条侧棱601均经过圆角处理。在圆角处理前,所述靶材600的侧棱601位置较为锐利。如果使用侧棱未经圆角处理的靶材600进行溅射镀膜,在溅射镀膜工艺过程中,所述靶材600的侧棱601位置容易发生前列放电的现象,导致镀膜的均匀性差,影响镀膜质量。圆角处理使得靶材侧棱601钝化,有助于防止前列放电现象的发生。 南京碳化铌靶材

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