扬州ZrTi靶材

时间:2021年08月02日 来源:

什么是3D玻璃? 现在数码产品使用的玻璃盖板分为:2D玻璃,2.5D玻璃,还有3D玻璃。2D玻璃就是普通的纯平面玻璃,没有任何弧形设计;2.5D玻璃则为中间是平面的,但边缘是弧形设计;而3D屏幕,无论是中间还是边缘都采用弧形设计。 3D曲面玻璃的特色符合 3C 产品设计需求。3C 产品设计如智能手机、智能手表、平板计算机、可穿戴式智能产品、仪表板等陆续出现 3D 产品,已经明确引导3D曲面玻璃发展方向。3D曲面玻璃轻薄、透明洁净、抗指纹、防眩光、坚硬、耐刮伤、耐候性佳等优点,可型塑做出3D多形状外观具有产品特殊设计新颖性与质感佳,又可增加弧形边缘触控功能带来出色的触控手感、无线充电机能,并能解决天线布置空间不足及增强收讯功能,使产品更美观出色,产品设计差异化使消费者更能青睐。适用范围和背靶的选择三个方面来为大家介绍一下靶材绑定。扬州ZrTi靶材

任何本领域技术人员,在不脱离本发明的精神和范围内,均可作各种更动与修改,因此本发明的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。本发明涉及靶材领域,具体涉及一种长寿命靶材组件。

背景技术:

目前,现有的半导体溅射用ilc1013系列靶材的溅射寿命已经到了一个极限,为提高靶材的使用寿命,节省多次更换靶材的重复性。现有的技术都是通过磁场强度,把靶材表面设计成曲面来延长寿命,公开了一种靶材,包括靶材本体及基体,所述基体的至少一面设有所述靶材本体,所述靶材本体是由高纯度靶材合金粉末通过等离子弧喷涂机喷涂熔焊在所述基体上。所述基体与所述靶材本体的结合面为呈内凹的圆弧面。所述基体为矩形体或圆形。所述靶材的制造方法步骤如下:(1)准备合金粉体;(2)准备基体;(3)等离子转移弧喷涂成型;(4)、清理被喷涂层表面,按照步骤(3)的要求再次喷涂处理,直至获得要求厚度的靶材。本发明有益效果在于:一是生产的靶材无气孔残留;二是生产设备简单、投资小;三是靶材可以修复再利用。 扬州ZrTi靶材如果反应气体量增加过度,化合物覆盖面积增加。

电致变色的工作原理:   电致变色材料在外加电场作用下发生电化学氧化还原反应,得失电子,使材料的颜色发生变化电致变色器件的典型结构器件结构从上到下分别为:玻璃或透明基底材料、透明导电层(如:ITO)、电致变色层、电解质层、离子存储层、透明导电层(如:ITO)、玻璃或透明基底材料。器件工作时,在两个透明导电层之间加上一定的电压,电致变色层材料在电压作用下发生氧化还原反应,颜色发生变化;而电解质层则由特殊的导电材料组成,如包含有高氯酸锂、高氯酸纳等的溶液或固体电解质材料;离子存储层在电致变色材料发生氧化还原反应时起到储存相应的反离子,保持整个体系电荷平衡的作用,离子存储层也可以为一种与前面一层电致变色材料变色性能相反的电致变色材料,这样可以起到颜色叠加或互补的作用。如:电致变色层材料采用的是阳极氧化变色材料,则离子存储层可采用阴极还原变色材料。

靶材抛光装置100还包括:把手,所述把手设置于所述固定板200的外表面上。

为便于操作人员双手抓握,所述把手的数量为两个,其中一个所述把手设置于所述固定板200的顶部,另一个所述把手设置于所述固定板200的侧壁上,该设置方式有利于提高操作人员手持所述靶材抛光装置100进行抛光作业的便捷性。

本实施例中,两个所述把手分别为把手510和第二把手520,所述把手510设置于所述顶板210上,所述第二把手520设置于所述侧板220上。

本实施例中,所述把手510包括杆状部511和第二杆状部512,所述杆状部511的一端连接所述顶板210,另一端连接所述第二杆状部512。所述杆状部511延伸方向与所述顶板210表面相垂直,所述第二杆状部512延伸方向与所述顶板210表面相平行。所述把手510的结构有利于操作人员牢固的抓握所述把手510,防止从所述把手510上滑脱。 需要后续热加工和热处理工艺降低其孔隙率。

ITO薄膜制作过程中的影响因素    ITO薄膜在溅镀过程中会产生不同的特性,有时候表面光洁度比较低,出现“麻点”的现象,有时候会出现高蚀间隔带,在蚀刻时还会出现直线放射型缺划或电阻偏高带,有时候会出现微晶沟缝。         常用的ITO靶材是通过烧结法生产的,就是由氧化铟(In2O3)和氧化锡(SnO2)粉末按照一定的比例进行混合,通常质量比是90%In2O3和10% SnO2,形成的黑灰色陶瓷半导体(氧化铟锡,ITO)。一般通过外观就可以了解ITO靶材的质量,深灰色是好的,相反越黑质量越差,我国生产的ITO靶材质量还可以的是黑灰色的。         研究显示,在真空镀膜机ITO薄膜溅镀过程中,使用磁控溅射的方式,基底温度控制在200℃左右可以保证薄膜85%以上高可见光透过率下,电阻率达到低,而薄膜的结晶度也随着基底温度的提高而提高,晶粒尺寸也逐渐增大,超过200℃后透射率趋于减弱;使用电子束蒸镀的方式,随着退火温度升高,晶粒尺寸变大,表面形貌均一稳定,超过600℃后颗粒变得大小不一,形状各异,小颗粒团聚现象严重,薄膜表面形貌破坏。在一定功率的情况下,参与化合物生成的反应气体量增加,化合物生成率增加。镇江合金靶材贴合

阳极消失:靶中毒时,接地的真空室壁上也沉积了绝缘膜,到达阳极的电子无法进入阳极,形成阳极消失现象。扬州ZrTi靶材

背景技术:

溅射镀膜属于物相沉积方法制备薄膜的工艺之一,具体是指利用高能粒子轰击靶材表面,使得靶材原子或分子获得足够的能量逸出,并沉积在基材或工件表面,从而形成薄膜。由于背板具有良好的导电导热性能,且还可以起到固定支撑作用,因此,靶材在镀膜前需与背板焊接在一起,然后共同装配至溅射基台。一般活性金属靶材,例如铝靶材,由于长期暴露在空气中,靶材表面材料容易氧化形成一层氧化皮。在直流脉冲、中频溅射过程中,离子撞击的能量不足以破坏该氧化皮,导致靶材原子或分子难以逸出,因此在将靶材安装至溅射基台之前,需要对靶材表面进行抛光。此外,对于活性金属靶材及非活性金属靶材,抛光操作有利于改善靶材的溅射速率的稳定性,有助于提高溅射镀膜质量。 扬州ZrTi靶材

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