无锡四元合金靶材工厂
有一部分靶材在安装之前需要抛光,比如铝靶材等活性金属靶材,长期暴露在大气中,表面容易形成一层氧化皮,在直流脉冲、中频溅射过程中,离子撞击的能量不足以破坏氧化皮,所以一般在溅射的时候进行物理抛光。
一般靶材抛光后,溅射速率、电压等工艺参数比较稳定,容易控制。
所以结论就是,活性金属靶材要求表面抛光,不活泼金属靶材不一定非要求表面抛光。其他非金属的靶材不需要抛光。
靶材安装及注意事项有哪些?
溅射靶材安装过程中重要的注意事项是一定要确保在靶材和溅射头冷却壁之间建立很好的导热连接。如果用冷却壁的翘曲程度严重或背板翘曲严重会造成靶材安装时发生开裂或弯曲,背靶到靶材的导热性能就会受到很大的影响,导致在溅射过程中热量无法散发终会造成靶材开裂或脱靶。 由金属靶面通过反应溅射工艺形成化合物的过程中,化合物是在哪里形成的呢?无锡四元合金靶材工厂
靶材抛光装置100还包括:把手,所述把手设置于所述固定板200的外表面上。
为便于操作人员双手抓握,所述把手的数量为两个,其中一个所述把手设置于所述固定板200的顶部,另一个所述把手设置于所述固定板200的侧壁上,该设置方式有利于提高操作人员手持所述靶材抛光装置100进行抛光作业的便捷性。
本实施例中,两个所述把手分别为把手510和第二把手520,所述把手510设置于所述顶板210上,所述第二把手520设置于所述侧板220上。
本实施例中,所述把手510包括杆状部511和第二杆状部512,所述杆状部511的一端连接所述顶板210,另一端连接所述第二杆状部512。所述杆状部511延伸方向与所述顶板210表面相垂直,所述第二杆状部512延伸方向与所述顶板210表面相平行。所述把手510的结构有利于操作人员牢固的抓握所述把手510,防止从所述把手510上滑脱。 苏州镧钙锰氧靶材磁控溅射一定要求靶材表面要抛光吗?
PVD技术常用的方法 PVD基本方法:真空蒸发、溅射 、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀),以下介绍几种常用的方法。 电子束蒸发 电子束蒸发是利用聚焦成束的电子束来加热蒸发源,使其蒸发并沉积在基片表面而形成薄膜。 溅射沉积 溅射是与气体辉光放电相联系的一种薄膜沉积技术。溅射的方法很多,有直流溅射、RF溅射和反应溅射等,而用得较多的是磁控溅射、中频溅射、直流溅射、RF溅射和离子束溅射。 RF(射频)溅射 RF溅射使用的频率约为13.56MHz,它不需要热阴极,能在较低的气压和较低的电压下进行溅射。RF溅射不可以沉积金属膜,而且可以沉积多种材料的绝缘介质膜,因而使用范围较广。 电弧离子镀 阴极弧技术是在真空条件下,通过低电压和高电流将靶材离化成离子状态,从而完成薄膜材料的沉积,该技术材料的离化率更高,薄膜性能更加优异。
防护层为弹性材料,所述防护层的质地软,能够在所述固定板及靶材间提供缓冲,避免所述固定板触撞靶材导致靶材受损。
具体实施方式:
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂,下面结合附图对本发明的具体实施例做详细的说明。
一种靶材抛光装置100,包括:固定板200,所述固定板200包括顶板210和位于所述顶板210一侧的侧板220;抛光片300,位于所述固定板200内侧面上,其中位于固定板200弯折处的抛光片300呈弧状。固定板200能够起到支架的作用,以固定支撑所述抛光片300,便于操作人员使用所述靶材抛光装置100。顶板210呈矩形状,所述侧板220也呈矩形状。固定板200内侧面弯折处形成夹角。具体的,所述侧板220表面垂直于所述顶板210表面,即所述夹角为90°。在其他实施例中,所述夹角还可以大于90°且小于180°。 导电胶:采用的导电胶要耐高温,厚度在0.02-0.05um。
抛光片部分310的厚度均匀。所述抛光片第三部分330的厚度均匀。位于所述固定板200弯折处的所述抛光片300的厚度不均,即所述抛光片第二部分320的厚度不均。
抛光片部分310的厚度与所述抛光片第三部分330的厚度相等,均为2mm~3mm。
抛光片部分310、抛光片第二部分320及抛光片第三部分330为分体的。在其他实施例中,所述抛光片部分、抛光片第二部分及抛光片第三部分还可以为一体成型。
靶材抛光装置100还包括:防护层400,所述防护层400位于所述固定板200与所述抛光片300之间。
所述防护层400为弹性材料,能够在所述固定板200及靶材间提供缓冲,避免所述固定板200触撞靶材导致靶材受损。
本实施例中,所述防护层400的厚度为30mm~35mm。若所述防护层400的厚度过小,所述防护层400起到的缓冲效果差,难以有效的保护靶材。若所述防护层400的厚度过大,使得所述防护层400的体积过大,进而造成所述靶材抛光装置100的体积过大,对操作者使用所述靶材抛光装置100带来不必要的困难。 靶材密度越高,薄膜的性能越好。苏州镧钙锰氧靶材
一般靶材抛光后,溅射速率、电压等工艺参数比较稳定,容易控制。无锡四元合金靶材工厂
3D玻璃渐变色的应用 3D玻璃渐变色主要应用于3C产品,特别是手机领域。随着双玻璃加金属边框的盛行,3D后盖装饰工艺需要不断革新。现有的装饰工艺主要是在装饰防爆膜上进行镀膜丝印,再与3D玻璃贴合实现装饰效果,外观装饰主要还是防爆膜纹理和镀膜颜色搭配实现。渐变色效果可以通过多种途径实现,包括:印刷、转印、真空镀膜、喷涂等。由于技术的瓶颈问题,现在量产的3D玻璃渐变主要有印刷和真空镀膜两种途径。 渐变效果可大致分为同色渐变、邻近色渐变、对比色渐变。渐变颜色的选择对于印刷工艺的限制会小一些,选择范围更加宽。印刷工艺可以选择对应颜色及对应颜色带范围进行印刷,能够实现较为多元化的色彩冲撞效果,满足设计者的不同变色需求;作为手机多会选择的真空镀膜装饰工艺,对于渐变色的装饰效果也可以达到梦幻流畅的效果,但色彩变化会有一定限制。 真空镀膜渐变只能遵循颜色光谱变化规律:红橙黄绿蓝靛紫顺序渐变,难以实现颜色的跨越,当然,有的设计者也会通过其他工艺的叠加实现更多元化的渐变效果。无锡四元合金靶材工厂
江阴典誉新材料科技有限公司地处江苏省江阴市,是一家专业生产溅射靶材和蒸发材料的公司,溅射靶材充分借鉴国外的先进技术,并通过与国内外**研发机构合作,整合各行业资源优势,生产出多系列***溅射靶材产品。 公司目前主要生产金属,合金,陶瓷三大类靶材产品。经过几年的发展和技术积累,已经拥有:真空热压,冷压烧结,真空熔炼,热等静压,等离子喷涂等技术。另外也可根据客户要求研发新型靶材并提供靶材金属化、绑定和背板服务。 江阴典誉新材料科技有限公司已为以下行业提供***的靶材:平面显示、装饰与工具、太阳能光伏和光热、电子和半导体、建筑与汽车玻璃大面积镀膜等工业领域。同时也为国内外各大院校和研究所提供了很多常规和新型的试验用靶材。 江阴典誉目前拥有真空热压炉两台,冷压烧结炉一台,真空熔炼设备两台,等静压设备一台,等离子喷涂两套,绑定平台两套,各类机加工设备七台,检验设备若干,确保出厂的每件产品都能达到甚至超过客户的预期。 江阴典誉秉承:“一切以客户的需求为导向,客户的所有需求一次做好。”的发展理念。
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