武汉铜铬镍靶调试

时间:2021年08月08日 来源:

玫瑰金靶材有哪些? PVD玫瑰金是靠溅射玫瑰金靶形成的,不同的玫瑰金靶配方颜色上有一些区别,大概分为以下几种: 1、皇冠金(crown gold),黄金含量在22K(91.667%),由英国亨利八世(1526年)将此比例的黄金用于金币的铸造 2、常见的也是典型的18K玫瑰金,黄金含量也在18K(75%),但其它另含有约4%的银和21%的铜,呈现美丽的淡粉玫瑰色 3、14K红金,黄金含量在14K(58.33%),其它添加金属为铜(41.67%)。 有的PVD镀膜厂玫瑰金靶也有添加一些其它的稀有元素,用来达到不同的色调或用来改变镀层的性能,这也是市面上每一家PVD厂镀出的色调都有一些差异的原因之一。溅射靶材的制备按工艺可分为熔融铸造和粉末冶金两大类。武汉铜铬镍靶调试

靶中毒的影响因素

影响靶中毒的因素主要是反应气体和溅射气体的比例,反应气体过量就会导致靶中毒。反应溅射工艺进行过程中靶表面溅射沟道区域内出现被反应生成物覆盖或反应生成物被剥离而重新暴露金属表面此消彼长的过程。如果化合物的生成速率大于化合物被剥离的速率,化合物覆盖面积增加。在一定功率的情况下,参与化合物生成的反应气体量增加,化合物生成率增加。如果反应气体量增加过度,化合物覆盖面积增加,如果不能及时调整反应气体流量,化合物覆盖面积增加的速率得不到***,溅射沟道将进一步被化合物覆盖,当溅射靶被化合物全部覆盖的时候,靶完全中毒,在靶面上沉积一层化合金属膜。使其很难被再次反应。 武汉铜铬镍靶调试一般情况下磁控溅射的溅射电压在400V-600V之间,当发生靶中毒时,溅射电压会***降低。

真空离子镀厚功能镀膜代替现行电镀 真空离子镀厚特性: (1)不用酸碱盐、不用物、不产生六价鉻,没有三廢排放,对环境没有污染,对人体旡害。 (2)镀膜附着性好不易脱落,有过渡层。 (3)可镀制厚功能鍍膜有耐磨、耐蚀、耐热及特殊性能等镀膜。 (4)镀膜硬度可达Hv2000左右, 可据要求而定。 (5)镀膜厚度可达40微米以上,可据要求而定。 (6)工件基材钢铁为主,有色金属及其合金也可据要求采用。 应用领域:活塞环、轴承轴瓦、叶片、搬手、筛具、压铸模具、 量具、绞刀、丝锥、 板牙、五金工具、机床顶針、一般耐磨件、钳子口、零件修复等等。

什么是电致变色,它有哪些分类:电致变色是指材料的光学属性(反射率、透过率、吸收率等)在外加电场的作用下发生稳定、可逆的颜色变化的现象,在外观上表现为颜色和透明度的可逆变化。具有电致变色性能的材料称为电致变色材料,用电致变色材料做成的器件称为电致变色器件。电致变色材料分类:一、无机电致变色材料无机电致变色材料的典型是三氧化钨,目前,以WO3为功能材料的电致变色器件已经产业化。二、有机电致变色材料有机电致变色材料主要有聚噻吩类及其衍生物、紫罗精类、四硫富瓦烯、金属酞菁类化合物等。以紫罗精类为功能材料的电致变色材料已经得到实际应用。反应溅射气体的溅射效率本来就比惰性气体的溅射效率低,所以反应气体比例增加后,综合溅射速率降低。

PVD技术常用的方法PVD基本方法:真空蒸发、溅射、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀),以下介绍几种常用的方法。电子束蒸发电子束蒸发是利用聚焦成束的电子束来加热蒸发源,使其蒸发并沉积在基片表面而形成薄膜。溅射沉积溅射是与气体辉光放电相联系的一种薄膜沉积技术。溅射的方法很多,有直流溅射、RF溅射和反应溅射等,而用得较多的是磁控溅射、中频溅射、直流溅射、RF溅射和离子束溅射。RF(射频)溅射RF溅射使用的频率约为13.56MHz,它不需要热阴极,能在较低的气压和较低的电压下进行溅射。RF溅射不可以沉积金属膜,而且可以沉积多种材料的绝缘介质膜,因而使用范围较广。电弧离子镀阴极弧技术是在真空条件下,通过低电压和高电流将靶材离化成离子状态,从而完成薄膜材料的沉积,该技术材料的离化率更高,薄膜性能更加优异。在收紧靶材夹具时,请先用手转紧一颗镙栓。武汉铜铬镍靶调试

磁控溅射金属靶时,无法起辉的原因有很多,常见主要原因。武汉铜铬镍靶调试

6. 起辉溅射真空度与前次的差别?

---------更换不同的靶材,起辉压强不尽相同。

换靶材后需要重新调功率匹配器的,只有功率匹配调好了才能正常起辉。 五.磁控溅射一定要求靶材表面要抛光吗?磁控溅射过程中,等离子体的离子撞击靶材,溅射出靶材的原子、原子团、离子、电子、光子等,原子、离子、原子团沉积到基材上形成薄膜。

溅射发生在靶材表面,靶材表面物理状态不均匀也没有关系,溅射的时候会先溅射凸起,溅射时间长了,靶材自己就平了。所以物理不均匀的状态不需要抛光。 武汉铜铬镍靶调试

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