湖北GZO靶材

时间:2022年03月19日 来源:

真空镀膜中靶材中毒会出现哪些想象,如何解决?靶面金属化合物的形成。由金属靶面通过反应溅射工艺形成化合物的过程中,化合物是在哪里形成的呢?由于活性反应气体粒子与靶面原子相碰撞产生化学反应生成化合物原子,通常是放热反应,反应生成热必须有传导出去的途径,否则,该化学反应无法继续进行。在真空条件下气体之间不可能进行热传导,所以,化学反应必须在一个固体表面进行。反应溅射生成物在靶表面、基片表面、和其他结构表面进行。靶中毒的影响因素:影响靶中毒的因素主要是反应气体和溅射气体的比例,反应气体过量就会导致靶中毒。反应溅射工艺进行过程中靶表面溅射沟道区域内出现被反应生成物覆盖或反应生成物被剥离而重新暴露金属表面此消彼长的过程。如果化合物的生成速率大于化合物被剥离的速率,化合物覆盖面积增加。在一定功率的情况下,参与化合物生成的反应气体量增加,化合物生成率增加。如果反应气体量增加过度,化合物覆盖面积增加,如果不能及时调整反应气体流量,化合物覆盖面积增加的速率得不到控制,溅射沟道将进一步被化合物覆盖,当溅射靶被化合物全部覆盖的时候,靶完全中毒,在靶面上沉积一层化合金属膜。使其很难被再次反应。金属靶材,一是实际重量易出现分歧,二是金属化以及解绑的时候都会有浪费料,建议垫一片铜片。湖北GZO靶材

在其他实施例中,所述固定板200内侧面弯折处呈弧状,所述防护层400弯折处呈弧状,位于所述固定板200弯折处的所述抛光片300的厚度均匀。此外,与前一实施例不同的是,所述抛光片部分310、抛光片第二部分320及抛光片第三部分330为一体成型。且所述抛光片部分310、抛光片第二部分320及抛光片第三部分330厚度相等。所述靶材600呈长方体状,其顶部表面为靶材溅射面610,底部表面为靶材焊接面620,所述靶材焊接面620贴合于背板表面上,所述靶材600通过所述靶材焊接面620与背板焊接固定。所述靶材600具有四个侧壁表面630。湖北GZO靶材阳极消失:靶中毒时,接地的真空室壁上也沉积了绝缘膜,到达阳极的电子无法进入阳极,形成阳极消失现象。

铝钪合金靶材(AlSc),尺寸按需求定制,比列按需求定制,含钪比较高能做到AlSc45wt%,质量优异,杂质含量低,欢迎新老客户来电咨询洽谈。江阴典誉新材料科技有限公司生产的金属钪,品质优异,**全球。铝钪合金生产历史悠久,拥有丰富的经验,目前推出的铝钪合金靶材已被微电子行业大型厂商采用。相关靶材清单如下:稀土合金靶材:铝钪AlSc;铈钆CeGd;铈镁CeMg;铈钐CeSm;镝钴DyCo;镝铁DyFe;钆铜GdCu;钆铁GdFe;钬铜HoCu;镧铝LaAl;镧镍LaNi;铝钕AlNd;钕铁NdFe;钕铁硼NdFe;镍镁铈NiMgCe;镍镁铁铈NiMgFeCe;铽镝铁TbDyFe;铽铁TbFe;钇铝YAl;钇铜YCu;钇铁YFe;钇镁YMg;钇镍YNi;钇锆ZrY

晶粒尺寸及晶粒尺寸分布。通常靶材为多晶结构,晶粒大小可由微米到毫米量级。对于同一种靶材,晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快;而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均匀。九.什么是靶材绑定主要从靶材绑定的定义,适用范围和背靶的选择三个方面来为大家介绍一下靶材绑定。一.靶材绑定的定义靶材绑定是指用焊料将靶材与背靶焊接起来。主要由三种方式:压接、钎焊和导电胶。1.压接:采用压条,一般为了提高接触的良好性,会增加石墨纸、Pb或In皮;


一般情况下磁控溅射的溅射电压在400V-600V之间,当发生靶中毒时,溅射电压会降低。

作为本发明 的技术方案,所述靶材组件还包括用于固定靶材的背板。作为本发明 的技术方案,所述靶材呈凹形结构。作为本发明 的技术方案,所述靶材包括用于溅射的溅射面。 地,所述溅射面包括***平、第二平面和斜面。作为本发明 的技术方案,所述斜面与水平面的夹角≤10°,例如可以是10°、9°、8°、7°、6°、5°、4°、3°、2°或1°等,但不限于所列举的数值,该范围内其他未列举的数值同样适用。作为本发明 的技术方案,所述斜面位于所述***平面和第二平面之间。 地,所述***平面为圆形。 地,所述第二平面为环形。作为本发明 的技术方案,所述靶材的材质包括铝、钽、钛或铜中的一种。作为本发明 的技术方案,所述背板的材质包括铜和/或铝。作为本发明 的技术方案,所述靶材表面的比较高点和比较低点的垂直距离为;所述靶材表面的硬度为20-30hv。靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。湖北GZO靶材

厚度适中:3mm左右,太厚,消耗部分磁强;太薄,容易变形。湖北GZO靶材

所述靶材600具有十二条侧棱601,各条侧棱601均经过圆角处理。在圆角处理前,所述靶材600的侧棱601位置较为锐利。如果使用侧棱未经圆角处理的靶材600进行溅射镀膜,在溅射镀膜工艺过程中,所述靶材600的侧棱601位置容易发生前列放电的现象,导致镀膜的均匀性差,影响镀膜质量。圆角处理使得靶材侧棱601钝化,有助于防止前列放电现象的发生。利用所述靶材抛光装置100对所述靶材600进行抛光时,将所述靶材抛光装置100放置于所述靶材600上,使所述抛光片第二部分320表面与所述靶材600的侧棱601表面相贴合,并使所述抛光片部分310表面与所述靶材溅射面610相贴合,且所述抛光片第三部分330表面与所述靶材600的侧壁表面630相贴合。操作人员利用所述把手推动所述靶材抛光装置100,所述靶材抛光装置100相对所述靶材600移动,移动方向平行与被抛光的所述侧棱601延伸方向。所述抛光片300表面的磨砂颗粒与靶材600表面相摩擦,以获得光亮、平整的靶材600表面。


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