常州氮化钒靶选型
真空离子镀在航空航天方面的应用: 在现代飞机、航空发动机或航空仪表中,特别是在航宇器,如宇宙飞船、人造卫星中,有不少旋转零件都要求有良好的润滑,但往往由于封存过久、环境温度过高或太空挥发等原因,普通油脂润滑剂已不再适用,从而提出以固体润滑剂代替。试验表明,用离子镀来制作固体润滑膜,比现有其他方法为优。不但附着力强,镀层又薄又匀,不影响零件的尺寸精度和公差配合。经济性也好,少许润滑材料即可镀很大面积。润滑膜的质量也较好,摩擦系数小,使用寿命也长。例如有一个人造卫星上的精密轴承,未镀前工作寿命为几分钟,根本无法使用;但是经离子镀固体润滑膜后,则可在飞行中可靠地工作数千小时之久。离子镀不能够镀许多种常温固体润滑材料,而且还能镀复各种高温固体润滑材料,有的甚至可以在摄氏八百度以上的高温下发挥良好的润滑作用。可镀的固体润滑材料有银、金、铜、铅、铅锡合金、氟化物等。靶中毒的解决办法:控制镀膜模式的变换:在镀膜前,采集靶中毒的迟滞效应曲线。常州氮化钒靶选型
ITO薄膜制作过程中的影响因素 ITO薄膜在溅镀过程中会产生不同的特性,有时候表面光洁度比较低,出现“麻点”的现象,有时候会出现高蚀间隔带,在蚀刻时还会出现直线放射型缺划或电阻偏高带,有时候会出现微晶沟缝。 常用的ITO靶材是通过烧结法生产的,就是由氧化铟(In2O3)和氧化锡(SnO2)粉末按照一定的比例进行混合,通常质量比是90%In2O3和10% SnO2,形成的黑灰色陶瓷半导体(氧化铟锡,ITO)。一般通过外观就可以了解ITO靶材的质量,深灰色是好的,相反越黑质量越差,我国生产的ITO靶材质量还可以的是黑灰色的。 研究显示,在真空镀膜机ITO薄膜溅镀过程中,使用磁控溅射的方式,基底温度控制在200℃左右可以保证薄膜85%以上高可见光透过率下,电阻率达到低,而薄膜的结晶度也随着基底温度的提高而提高,晶粒尺寸也逐渐增大,超过200℃后透射率趋于减弱;使用电子束蒸镀的方式,随着退火温度升高,晶粒尺寸变大,表面形貌均一稳定,超过600℃后颗粒变得大小不一,形状各异,小颗粒团聚现象严重,薄膜表面形貌破坏。
常州氮化钒靶选型请注意一定要仔细检查和明确所使用溅射冷却壁的平整度,同时确保O型密封圈始终在位置上。
真空离子镀厚功能镀膜代替现行电镀 真空离子镀厚特性: (1)不用酸碱盐、不用物、不产生六价鉻,没有三廢排放,对环境没有污染,对人体旡害。 (2)镀膜附着性好不易脱落,有过渡层。 (3)可镀制厚功能鍍膜有耐磨、耐蚀、耐热及特殊性能等镀膜。 (4)镀膜硬度可达Hv2000左右, 可据要求而定。 (5)镀膜厚度可达40微米以上,可据要求而定。 (6)工件基材钢铁为主,有色金属及其合金也可据要求采用。 应用领域:活塞环、轴承轴瓦、叶片、搬手、筛具、压铸模具、 量具、绞刀、丝锥、 板牙、五金工具、机床顶針、一般耐磨件、钳子口、零件修复等等。
中频双靶反应磁控溅射与直流反应磁控溅射相比具有以下几个显巨优点: (1)消除了靶面打弧放电现象,中频反应磁控溅射镀制的绝缘薄膜与直流反应磁控溅射镀制的同种膜相比,膜面缺 陷要少几个数量级; (2)可以得到比直流反应磁控溅射高出数倍的溅射沉积速率; (3)中频双靶反应磁控溅射的整个溅射沉积过程,可以始终稳定在所设定的工作点上,为大规模工业化稳定生产提供了条件。 选用非对称双极脉冲靶电源与选用“双靶-中频靶电源”不同,使用单个磁控靶进行反应磁控溅射,调节相应的镀膜工艺参数,可以消除磁控靶面打弧放电现象和实现长时间稳定的薄膜沉积,可以达到上述“中频-双靶反应磁控溅射”的同样效果。
一般情况下磁控溅射的溅射电压在400V-600V之间,当发生靶中毒时,溅射电压会***降低。
气体压强对靶溅射电压的影响 在磁控溅射或反应磁控溅射镀膜的工艺过程中,工作气体或反应气体压强对磁控靶溅射电压能够造成一定的影响。 1.工作气体压强对靶溅射电压的影响 一般的规律是:在真空设备环境条件确定和靶电源的控制面板设置参数不变时,随着工作气体(如氩气)压强(0.1~10Pa)的逐步增加,气体放电等离子体的密度也会同步增加,致使等离子体等效阻抗减小,磁控靶的溅射电流会逐步上升,溅射工作电压亦会同步下降。 2. 反应气体压强对靶溅射电压的影响 在反应磁控溅射镀膜的工艺过程中,在真空设备环境条件确定和靶电源的控制面板设置参数不变时,随着反应气体(如氮气、氧气)压强(或流量)的逐步增加(一般应注意不要超过工艺设定值的上限值),随着磁控靶面和基片(工件)表面逐步被绝缘膜层覆盖,阴-阳极间放电的等效阻抗也会同步增高,磁控靶的溅射电流会逐步下降(直至“阴极中毒”和“阳极消失”为止),溅射工作电压亦会同步上升。压靶盖旋的过紧,没有和靶材之间留下适当的距离,调整距离即可。常州氮化钒靶选型
所以在安装靶材时需要对阴极冷却水槽进行检查和清理,确保冷却水循环的顺畅和进出水口不会被堵塞。常州氮化钒靶选型
国统局数据显示,2019年上半年仪器仪表大行业规模以上企业4927个,营收规模4002亿元,营收同比增长7.57%;收入总额为361亿元,同比增长2.87%,比主营收入低4.70个百分点;随着互联网的逐步发展,为磁控溅射靶材,蒸发材料,背板,靶材绑定等产品的传播提供了一个飞速的平台。让仪器仪表行业从传统的销售模式到以互联网电子商务为主的营销方式的转变,促进了仪器仪表行业与互联网的结合,推动产业创新发展。中国仪器仪表行业目前正处于高速发展阶段,需要与之相适应的金属靶材,合金靶材,陶瓷靶材,镀膜材料的研发销售(以上项目均不含危险品);镀膜技术的研究,开发;镀膜生产**设备,其他机械设备,电子产品,五金产品的销售;自营和代理各类商品以及技术的进出口业务,但国家限定企业经营或禁止进出口的商品和技术除外。产品营销模式相互配合。仪器仪表在工业发展中具有重要作用,这也使得仪器仪表得到快读发展。各行各业对仪器仪表的市场需求也在不断提升,销售企业正在发展中寻求技术创新和质量提升。仪器仪表的质量、性能关系到工业安全,必须重视。常州氮化钒靶选型
江阴典誉新材料科技有限公司地处江苏省江阴市,是一家专业生产溅射靶材和蒸发材料的公司,溅射靶材充分借鉴国外的先进技术,并通过与国内外**研发机构合作,整合各行业资源优势,生产出多系列***溅射靶材产品。 公司目前主要生产金属,合金,陶瓷三大类靶材产品。经过几年的发展和技术积累,已经拥有:真空热压,冷压烧结,真空熔炼,热等静压,等离子喷涂等技术。另外也可根据客户要求研发新型靶材并提供靶材金属化、绑定和背板服务。 江阴典誉新材料科技有限公司已为以下行业提供***的靶材:平面显示、装饰与工具、太阳能光伏和光热、电子和半导体、建筑与汽车玻璃大面积镀膜等工业领域。同时也为国内外各大院校和研究所提供了很多常规和新型的试验用靶材。 江阴典誉目前拥有真空热压炉两台,冷压烧结炉一台,真空熔炼设备两台,等静压设备一台,等离子喷涂两套,绑定平台两套,各类机加工设备七台,检验设备若干,确保出厂的每件产品都能达到甚至超过客户的预期。 江阴典誉秉承:“一切以客户的需求为导向,客户的所有需求一次做好。”的发展理念。