江苏碳化铌靶材

任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与修改，因此本发明的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。本发明涉及靶材领域，具体涉及一种长寿命靶材组件。背景技术：目前，现有的半导体溅射用ilc1013系列靶材的溅射寿命已经到了一个极限，为提高靶材的使用寿命，节省多次更换靶材的重复性。现有的技术都是通过磁场强度，把靶材表面设计成曲面来延长寿命，公开了一种靶材，包括靶材本体及基体，所述基体的至少一面设有所述靶材本体，所述靶材本体是由高纯度靶材合金粉末通过等离子弧喷涂机喷涂熔焊在所述基体上。所述基体与所述靶材本体的结合面为呈内凹的圆弧面。所述基体为矩形体或圆形。所述靶材的制造方法步骤如下：(1)准备合金粉体；(2)准备基体；(3)等离子转移弧喷涂成型；(4)、清理被喷涂层表面，按照步骤(3)的要求再次喷涂处理，直至获得要求厚度的靶材。本发明有益效果在于：一是生产的靶材无气孔残留；二是生产设备简单、投资小；三是靶材可以修复再利用。

对材质的要求：一般选用无氧铜和钼靶，厚度在3mm左右。江苏碳化铌靶材

其他服务:打穿的钯靶材、钯残料可提供回收再加工服务。回收流程如下:称重----清洗、提纯---熔炼加工---靶材等成品江阴典誉新材料科技有限公司，是专业从事镀膜材料、合金制备等相关材料研发、销售、服务为一体的全球化高科技综合性公司。以业内 企业为支撑，整合技术资源，拥有自主进出口经营权和成熟的运营管理团队，科学化管理运营，为公司向化、高新化发展奠定了基础。典誉新材料在光电器件、芯片半导体、太阳能电池、光学镀膜、航空航天、 、冶金、功能材料、新能源等行业产品开发、创新方面，有着得天独厚的优势。以客户需求为导向，以前沿技术为基础，开发了多个产品系列，涵盖溅射靶材、蒸镀膜料、高纯合金、金属粉末、耗材配件等千余种产品，质量稳定、工艺完善，得到广大客户好评。典誉新材料坚持“诚信为本、高质的经营理念，关注客户需求，追求客户满意，以服务求生存，以质量求发展，不断优化产品线，为广大用户提供一站式服务，力争做全球 的金属材料供应商。江苏碳化铌靶材熔融铸造法是制作溅射靶材的基本方法之一。

钯，是银白色过渡金属，较软，有良好的延展性和可塑性，能锻造、压延和拉丝。块状金属钯能吸收大量氢气，使体积胀大，变脆乃至破裂成碎片。 ;原子量:106.4 ;密度（20℃）/g•cm-3:12.02 ;熔点/℃:1552 ;蒸发温度/℃:1460 ;沸点/℃:3140 ;汽化温度/℃:1317 ;比热容（25℃）J•（g•K）-1:0.2443 ;电阻率（0℃）/uΩ•cm:10.6 ;熔化热/kJ•mol-1:16.7 ;汽化热/kJ•mol-1:361.7 ;热导率（0～100℃）/J•（cm•s•℃）-1:0.753 ;电阻温度系数（0～100℃）/℃-1:0.0038 ;外观:银白色 ;蒸发源（丝、片）:W（镀Al2O3） ;坩埚:Al2O3 ;性质:与难溶金属形成合金，闪烁蒸发，在EB***内激烈飞溅，钯是银白色过渡金属，较软，有良好的延展性和可塑性，能锻造、压延和拉丝。块状金属钯能吸收大量氢气，使体积***胀大，变脆乃至破裂成碎片。化学性质不活泼，常温下在空气和潮湿环境中稳定，加热至800℃，钯表面形成一氧化钯薄膜。

真空镀膜机在塑胶行业的应用  真空镀膜机应该普遍，在塑料行业的应该也很普遍。而塑胶在生活，工业，电器，航空等领域都有涉及。塑胶具有易成型，价格便宜，质量轻，防腐蚀等优点，但塑胶的缺点也比较突出，其缺点也制约了塑胶的应用范围，如不美观、易老化、机械性能差、易碎易变型、耐热差等。通过真空镀膜机的应用，使塑胶表面镀上特定膜层，东莞汇成真空自主研发生产的蒸发真空镀膜设备将镀膜机材料和塑胶产吕完美结合，提高了塑胶制品的物理、化学性能。 一、改善表面硬度，原塑胶表面比金属软而易受损害，通过真空镀膜，硬度及耐磨性增加； 二、使塑料表面有导电性； 三、容易清洗，不吸尘； 四、改善塑胶外观，表面光滑，金属感强，色泽光鲜，装饰性提高。

溅射靶材广泛应用于装饰、工模具、玻璃、电子器件、半导体、磁记录、平面显示、太阳能电池等众多领域。

背景技术：溅射镀膜属于物相沉积方法制备薄膜的工艺之一，具体是指利用高能粒子轰击靶材表面，使得靶材原子或分子获得足够的能量逸出，并沉积在基材或工件表面，从而形成薄膜。由于背板具有良好的导电导热性能，且还可以起到固定支撑作用，因此，靶材在镀膜前需与背板焊接在一起，然后共同装配至溅射基台。一般活性金属靶材，例如铝靶材，由于长期暴露在空气中，靶材表面材料容易氧化形成一层氧化皮。在直流脉冲、中频溅射过程中，离子撞击的能量不足以破坏该氧化皮，导致靶材原子或分子难以逸出，因此在将靶材安装至溅射基台之前，需要对靶材表面进行抛光。此外，对于活性金属靶材及非活性金属靶材，抛光操作有利于改善靶材的溅射速率的稳定性，有助于提高溅射镀膜质量。关掉机器，把设备的溅射靶卸下来，靶附近的零件仔细清洗一下。上海AlTiSi靶材费用

靶材太薄、靶材太贵的情况等。 但下列情况绑定有弊端。江苏碳化铌靶材

PVD技术常用的方法 PVD基本方法：真空蒸发、溅射 、离子镀（空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀），以下介绍几种常用的方法。 电子束蒸发 电子束蒸发是利用聚焦成束的电子束来加热蒸发源，使其蒸发并沉积在基片表面而形成薄膜。 溅射沉积 溅射是与气体辉光放电相联系的一种薄膜沉积技术。溅射的方法很多，有直流溅射、RF溅射和反应溅射等，而用得较多的是磁控溅射、中频溅射、直流溅射、RF溅射和离子束溅射。 RF(射频)溅射 RF溅射使用的频率约为13.56MHz，它不需要热阴极，能在较低的气压和较低的电压下进行溅射。RF溅射不可以沉积金属膜，而且可以沉积多种材料的绝缘介质膜，因而使用范围较广。 电弧离子镀      阴极弧技术是在真空条件下，通过低电压和高电流将靶材离化成离子状态，从而完成薄膜材料的沉积，该技术材料的离化率更高，薄膜性能更加优异。江苏碳化铌靶材

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