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溅射过程不影响靶材合金、混合材质的比例和性质,所以如果是表面容易变质的靶材,如果不抛光去除表面变质部分,沉积到基材上的膜层性质就是表面变质的杂质。有一部分靶材在安装之前需要抛光,比如铝靶材等活性金属靶材,长期暴露在大气中,表面容易形成一层氧化皮,在直流脉冲、中频溅射过程中,离子撞击的能量不足以破坏氧化皮,所以一般在溅射的时候进行物理抛光。一般靶材抛光后,溅射速率、电压等工艺参数比较稳定,容易控制。所以结论就是,活性金属靶材要求表面抛光,不活泼金属靶材不一定非要求表面抛光。其他非金属的靶材不需要抛光。一般靶材抛光后,溅射速率、电压等工艺参数比较稳定,容易控制。合肥氟化钾靶价钱
PVD技术简介PVD技术是在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术,在基材上形成薄膜的一种表面处理过程。与传统化学镀膜方法相比,PVD有很多优点:如对环境无污染,是绿色环保工艺;对操作者无伤害;膜层牢固、致密性好、抗腐蚀性强,膜厚均匀。PVD技术中经常使用的方法主要有:蒸发镀膜(包括电弧蒸发、电子蒸发、电阻丝蒸发等技术)、溅射镀膜(包括直流磁控溅射、中频磁控溅射、射频溅射等技术),这些方法统称物相沉积(PhysicalVaporDeposition),简称为PVD。行业内通常所说的“IP”(ionplating)离子镀膜,是因为在PVD技术中各种气体离子和金属离子参与成膜过程并起到重要作用,为了强调离子的作用,而统称为离子镀膜。常州碳化镍靶作用所以结论就活性金属靶材要求表面抛光,不活泼金属靶材不一定非要求表面抛光。其他非金属的靶材不需要抛光。
直流磁控溅射制备锌-锑热电薄膜的技术探讨 热电材料是一种能够实现热能和电能直接相互转换的绿色环保型功能材料。近年来研究发现,热电薄膜化有助于热电材料减低热导率,从而能够有效的提高材料的热电转换效率,因此具有十分重要的科学研究价值。Zn-Sb合金是采用的P 型热电半导体材料之一,但由于其较低的热电优值,所以没有得到普遍的应用。 但近几年研究发现,在263 K~767K 温度区间稳定存在的β-Zn4Sb3 具有非常优异的热电性能,材料少含稀土材料以及可适用于中温,被国内外认为是具有前景的中温热电材料之一。因此,本文选取纯度为99.99%的Zn 和Sb 金属靶作为靶材,采用直流磁控共溅射技术,制备Zn-Sb 合金热电薄膜,研究不同热处理条件下合成的Zn-Sb 化合物热电薄膜的结构与热电特性变化规律。 结果表明,选取适当的溅射Zn和Sb的功率条件,溅射完成合金薄膜后在Ar 气氛下进行623 K 退火热处理,可形成具有单一β-Zn4Sb3相结构的Zn-Sb 热电薄膜,且薄膜颗粒大,较致密,所制备的热电薄膜具有优良的热电性能。
为什么需在真空中镀膜? 在常压下蒸镀膜料无法形成理想的薄膜,事实上,如在压力不够低 ( 或者说真空度不够高 ) 的情况下同样得不到好的结果, 比如在10 2托数量级下蒸镀铝,得到的膜层不但不光亮,甚至发灰、发黑,而且机械强度极差,用松鼠毛刷轻轻一刷即可将铝层破坏。 蒸镀必须在一定的真空条件下进行,这是因为: (1)较高的真空度可以保证汽化分子的平均自由程大于蒸发源到基底的距离。 由于气体分子的热运动,分子之间的碰撞也是极其频繁的,所以尽管气体分子运动的速度相当的高 ( 可达每秒几百米 ) 。 (2)在较高的真空度下可以减少残余气体的污染在真空度不太高的情况下, 真空室内含有众多的残余气体分子( 氧、氮、水及碳氢化合物等 ) ,它们能给薄膜的镀制带来极大的危害。它们与汽化的膜料分子碰撞使平均自由程变短;它们与正在成膜的表面碰撞并与之反应; 它们隐藏在已形成的薄膜中逐渐侵蚀薄膜;它们与蒸发源高温化合减少其使用寿命;它们在已蒸发的膜料表面上形成氧化层使蒸镀过程不能顺利进行……。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。
钯,是银白色过渡金属,较软,有良好的延展性和可塑性,能锻造、压延和拉丝。块状金属钯能吸收大量氢气,使体积***胀大,变脆乃至破裂成碎片。 原 子 量:106.4 密 度(20℃)/g•cm-3:12.02 熔 点/℃:1552 蒸发温度/℃:1460 沸 点/℃:3140 汽化温度/℃:1317 比 热 容(25℃)J•(g•K)-1:0.2443 电 阻 率(0℃)/uΩ•cm:10.6 熔 化 热/kJ•mol-1:16.7 汽 化 热/ kJ•mol-1:361.7 热 导 率(0~100℃)/J•(cm•s•℃)-1:0.753 电阻温度系数(0~100℃)/℃-1:0.0038 外 观:银白色 蒸 发 源(丝、片):W(镀Al2O3) 坩 埚:Al2O3 性 质:与难溶金属形成合金,闪烁蒸发,在EB***内激烈飞溅,钯是银白色过渡金属,较软,有良好的延展性和可塑性,能锻造、压延和拉丝。块状金属钯能吸收大量氢气,使体积***胀大,变脆乃至破裂成碎片。化学性质不活泼,常温下在空气和潮湿环境中稳定,加热至 800℃,钯表面形成一氧化钯薄膜。 二、主要产品: 1、钯 颗粒 99.99%(点击查看详情) 常规尺寸:φ3*6mm;量大可定做。
靶中毒的解决办法:采用闭环控制反应气体的通入量。南京氟化铝靶选型
请参考设备商操作手册中关于如何正确安装靶材的相关信息。合肥氟化钾靶价钱
真空离子镀的耐腐蚀性: 金属零件是要锈蚀的,但如果零件上镀有一层防蚀镀层,就能防止零件生锈。由于离子镀所获得的镀层致密度高,少,耐腐蚀性能好,并能沉积许多其他工艺至今不能沉积的优良防腐蚀镀层。因此,离子镀目前在镀防腐蚀材料方面应用广。如水上飞机的壁板及其他外表零件,可用此法镀复防止盐雾和海水腐蚀的防蚀镀层;与铝合金零件相配合的其他材料零件也可用此法镀铝,以防止电位差腐蚀。此外,随着飞机飞行速度和高度的提高以及宇宙探索的进展,钛合金的应用越来越多,如果仍象铝合金零件那样采用镀镉防腐蚀,使用中就有镉脆的危险;但如若镀以三氧化二铝,则能完全满足要求。不过电镀等工艺是无法镀这种材料的。离子镀却能大显神通。到目前为止,适合于用离子镀的防蚀材料除氧化铝以外,还有铬、钛、钽、不锈钢等。所镀的航空零件有螺钉、螺帽、铆钉、销钉、导管、接头、陀螺转子、精密齿轮、金属密封环等。
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江阴典誉新材料科技有限公司地处江苏省江阴市,是一家专业生产溅射靶材和蒸发材料的公司,溅射靶材充分借鉴国外的先进技术,并通过与国内外**研发机构合作,整合各行业资源优势,生产出多系列***溅射靶材产品。 公司目前主要生产金属,合金,陶瓷三大类靶材产品。经过几年的发展和技术积累,已经拥有:真空热压,冷压烧结,真空熔炼,热等静压,等离子喷涂等技术。另外也可根据客户要求研发新型靶材并提供靶材金属化、绑定和背板服务。 江阴典誉新材料科技有限公司已为以下行业提供***的靶材:平面显示、装饰与工具、太阳能光伏和光热、电子和半导体、建筑与汽车玻璃大面积镀膜等工业领域。同时也为国内外各大院校和研究所提供了很多常规和新型的试验用靶材。 江阴典誉目前拥有真空热压炉两台,冷压烧结炉一台,真空熔炼设备两台,等静压设备一台,等离子喷涂两套,绑定平台两套,各类机加工设备七台,检验设备若干,确保出厂的每件产品都能达到甚至超过客户的预期。 江阴典誉秉承:“一切以客户的需求为导向,客户的所有需求一次做好。”的发展理念。