北京宝石抛光液价格

氧化铝抛光液作为**终抛光液，是为了去除样品表面肉眼不可见的表面变形层。尤其是使用高倍物镜、偏振光、微分干涉或EBSD 技术，来检测、评定样品时，去除这种微小变形是必需的。

当采用含有溶胶氧化铝的MasterPrep氧化铝抛光液，可通过纯粹的机械抛光来***地去除材料，达到优异的表面处理效果。而如果选用其他种类的**终抛光液，比如具有弱碱性的***抛光液，那就要通过化学-机械的抛光方法与材料表面形成反应层，柔软的***去除反应层，也可得到高质量的表面，相比多了化学抛光过程。因此在实际应用中，常规情况选择氧化铝抛光液是十分普遍的。 本公司的纳米抛光液适合各种宝石研磨抛光、电子磁性材料的研磨抛光。北京宝石抛光液价格

铝合金抛光液  铝材镜面抛光液是在三酸抛光基础上发展起来的，是三酸抛光的换代产品。它保留了工序简单，能形成反光镜面等三酸抛光的诸多优点，同时，也克服流痕、黄等致命弱点，是一项难得的技术突破，特点如下：  

1、可任意滴流，滴干为止。由于三酸抛光槽液允许滴流的时间不能超过30秒，大量抛光液(400－600kg/T)被带进水洗槽，造成巨大的槽液损失，还需700-800公斤片碱处理废水!此外，如此短的滴流时间，稍不留心铝合金表面就会有流痕，造成废品，使三酸抛光成品率不足70%。本品添加缓蚀剂使流痕问题得到彻底解决。

2、无黄溢出，硝酸的分解被有效***，抛光亮度稳定。

3、自动***抛光灰，提高抛光质量。

4、特殊方法浓缩槽液，含水量降低，亮度大幅提高。 山东国产抛光液厂家金刚石 研磨液包括单晶、多晶和纳米。  该产品适合硬质材料的抛光。

二氧化硅抛光液用特选的纳米级SiO2作为磨料。具有***、无腐蚀、不易变质等特点。在抛光中根据客户产品的需要可以优化不同配比，使加工出来的工件表面光亮美观、色泽鲜艳，防止工件的腐蚀，提高工件表面的亮泽，达到比较好使用效果。产品分别依客户和产品对应**名称。  

 应用领域：  

1、金属类材料：如不锈钢、铝合金、锌件抛光 

2、LED蓝宝石衬底，晶体、宝石件抛光 

3、光学镜片、光学玻璃、陶瓷、石英件抛光 

4、磁头、硬盘件抛光 

5、光纤以及光伏抛光

高介电材料钛酸锶钡化学机械抛光用的纳米抛光液:一种用于半导体器件中高介电常数介电材料钛酸锶钡(BaxSr1-xTiO3,BST)化学机械抛光(CMP)的纳米抛光液。该CMP纳米抛光液包含有纳米研磨料、螯合剂、pH调节剂、表面活性剂、消泡剂、杀菌剂及溶剂等。该抛光液损伤少、易清洗、不腐蚀设备、不污染环境,主要用于新一代高密度存储器(DRAM)电容器介电材料及CMOS场效应管的栅介质——高介电常数介电材料钛酸锶钡的全局平坦化。利用上述纳米抛光液采用化学机械抛光方法平坦化高介电常数介电材料钛酸锶钡,抛光后表面的粗糙度降至0.8nm以下,抛光速率达200～300nm/min;抛光后表面全局平坦度高,损伤较少,是制备超高密度动态存储器(DRAM)及CMOS场效应管时高介电材料平坦化的一***抛光液。抛光液具有性能稳定、***，对环境无污染等优点。

蓝宝石研磨液  

蓝宝石研磨液（又称为蓝宝石抛光液）是用于在蓝宝石衬底的研磨和减薄的研磨液。  蓝宝石研磨液由质量聚晶金刚石微粉、复合分散剂和分散介质组成。    

蓝宝石研磨液利用聚晶金刚石的特性，在研磨抛光过程中保持高切削效率的同时不易对工件产生划伤。可以应用在蓝宝石衬底的研磨和减薄、光学晶体、硬质玻璃和晶体、超硬陶瓷和合金、磁头、硬盘、芯片等领域的研磨和抛光。

蓝宝石研磨液在蓝宝石衬底方面的应用：  

 1. 外延片生产前衬底的双面研磨：多用蓝宝石研磨液研磨一道或多道，根据**终蓝宝石衬底研磨要求用6um、3um、1um不等。 

 2. LED芯片背面减薄   为解决蓝宝石的散热问题，需要将蓝宝石衬底的厚度减薄，从450nm左右减至100nm左右。主要有两步：先在横向减薄机上，用50-70um的砂轮研磨磨去300um左右的厚度；再用抛光机（秀和、NTS、WEC等）针对不同的研磨盘（锡/铜盘），采用合适的蓝宝石研磨液（水/油性）对芯片背面抛光，从150nm减至100nm左右。 本公司销售的纳米抛光液应用范围：汽车表面漆层、宇航飞机机翼前缘。上海进口抛光液生产工艺

多晶金刚石 抛光液有良好的韧性，在研磨抛光过程中能够保持高磨削力的同时不易产 生划伤。北京宝石抛光液价格

抛光液的主要产品可以按主要成分的不同分为以下几大类：金刚石抛光液（多晶金刚石抛光液、单晶金刚石抛光液和纳米金刚石抛光液）、氧化硅抛光液（即CMP抛光液）、氧化铈抛光液、氧化铝抛光液和碳化硅抛光液等几类。 

多晶金刚石抛光液

多晶金刚石抛光液以多晶金刚石微粉为主要成分，配合**散性配方，可以在保持高切削率的同时不易对研磨材质产生划伤。

应用于蓝宝石衬底的研磨、LED芯片的背部减薄、光学晶体以及硬盘磁头等的研磨和抛光。

氧化硅抛光液

氧化硅抛光液是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。

用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，如：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。

氧化铈抛光液

氧化铈抛光液是以微米或亚微米级CeO2为磨料的氧化铈研磨液，该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。

适用于高精密光学仪器，光学镜头，微晶玻璃基板，晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。

氧化铝和碳化硅抛光液

是以超细氧化铝和碳化硅微粉为磨料的抛光液，主要成分是微米或亚微米级的磨料。

用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。 北京宝石抛光液价格