重庆钻石抛光液品牌

氧化铝又称为刚玉，在摩氏硬度表中位列第9级，具有很大的硬度。又因有六角柱体的晶格结构，十分适合再研磨材料。且相对比钻石更低廉的价钱。所以氧化铝它成为研磨和抛光的好材料。

氧化铝抛光液的特点

氧化铝抛光液具有硬度高、磨削力强、适用范围广等优点。模氏硬度可达5500-8000kg/mm2。不易产生划痕，粒度分布范围窄，研磨后材料表面质量好，粒径有1.0CR、0.3CR、0.1CR、0.05CR几种可供选择。

氧化铝抛光液的应用

1、电子行业：电子行业单晶硅片的研磨以及PCB金相切片的研磨；

2、装饰行业：不锈钢餐具及其它装饰材料的抛光；

3、喷涂材料：等离子喷涂；

4、光学玻璃冷加工。 多晶金刚石抛光液以多晶金刚石微粉为主要成分，可以在保持高切削率的同时不易对研磨材质产生划伤。重庆钻石抛光液品牌

1. LED行业  目前LED芯片主要采用的衬底材料是蓝宝石，在加工过程中需要对其进行减薄和抛光。蓝宝石的硬度极高，普通磨料难以对其进行加工。在用金刚石研磨液对蓝宝石衬底表面进行减薄和粗磨后，表面不可避免的有一些或大或小的划痕。CMP抛光液利用“软磨硬”的原理很好的实现了蓝宝石表面的精密抛光。随着LED行业的快速发展，聚晶金刚石研磨液及二氧化硅溶胶抛光液的需求也与日俱增。 

2.半导体行业  CMP技术还***的应用于集成电路(IC)和超大规模集成电路中(ULSI)对基体材料硅晶片的抛光。随着半导体工业的急速发展，对抛光技术提出了新的要求，传统的抛光技术（如：基于淀积技术的选择淀积、溅射等）虽然也可以提供“光滑”的表面，但却都是局部平面化技术，不能做到全局平面化，而化学机械抛光技术解决了这个问题，它是目前***的可以在整个硅圆晶片上***平坦化的工艺技术。 重庆钻石抛光液品牌氧化铝抛光液朴实机械抛光可使样品外表平整，但是却无法确保铜不发生，因而适合涂层丈量和边界层分析。

纳米氧化铈水分散液（纳米氧化铈抛光液）  

关键词：纳米氧化铈抛光液  氧化铈抛光液  研磨液电解抛光液 蓝宝石抛光液 不锈钢抛光液、金属抛光液、瓷砖抛光液该纳米氧化铈抛光液分散性好，质量稳定，久置不分层不沉淀，可极大提高抛光效率和精度，生产流程不会引入金属离子。   

产品说明：      本品外观为白色液体，氧化铈纳米粒子平均粒径为20nm，氧化铈含量不低于30%，分散介质为去离子水，pH在9-10，0.5%-1%的悬浮稳定剂。生产流程不引入金属离子。   产品应用：      

1）精密仪器抛光      本品不含碱金属离子，粒径小，粘度很低，为晶体硅、LED、高精密玻璃等器件的抛光需求而研发生产。不含有害成分，除氧化铈外，悬浮剂为环保成分不会对环境和人体带来间接危害。      

2）防紫外线      添加于特种涂料、遮阳伞、玻璃等便可制得防紫外线的特种产品，用于塑料中更是可以起到防老化的效果。     

 3）隔热功能      由于纳米氧化铈有***的隔热性能，本品亦是隔热涂料中不可或缺的成分。      

4）催化剂      在催化剂中加入本品可明显减少贵金属用量并改善催化性能，使催化器的价格大幅下降。氧化铈还能与纳米氧化钛制成光催化剂，用于***陶瓷和富氧离子环保涂料等。

氧化铝抛光液作为**终抛光液，是为了去除样品表面肉眼不可见的表面变形层。尤其是使用高倍物镜、偏振光、微分干涉或EBSD 技术，来检测、评定样品时，去除这种微小变形是必需的。

当采用含有溶胶氧化铝的MasterPrep氧化铝抛光液，可通过纯粹的机械抛光来***地去除材料，达到优异的表面处理效果。而如果选用其他种类的**终抛光液，比如具有弱碱性的***抛光液，那就要通过化学-机械的抛光方法与材料表面形成反应层，柔软的***去除反应层，也可得到高质量的表面，相比多了化学抛光过程。因此在实际应用中，常规情况选择氧化铝抛光液是十分普遍的。 氧化铈抛光液是以微米或亚微米级CeO2为磨料，具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。

氧化硅抛光液经过严格的粒径控制和专业的加工工艺。  该产品抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。

产品特点：  

1.分散性好、不结晶 。 

2.粒径分布***：5-100nm。  

3.高纯度(Cu2+含量小于50 ppb)，有效减小对电子类产品的沾污。  

4.经特殊工艺合成的化学机械抛光液，纳米颗粒呈球形，单分散，大小均匀，粒径分布窄，可获得高质量的抛光精度。  

5.适合与各种抛光垫、合成材料配合抛光使用。

使用方法：  

1.可根据抛光操作条件用去离子水进行5-20倍稀释。  

2.稀释后，粗抛时调节PH至11左右，精抛时调节PH至9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。 

3.循环抛光可以用原液。

CMP抛光液中常选用粒径50∼200 nm、粒径散布均匀的纳米α-Al2O3。山东宝石抛光液

本公司销售的纳米抛光液应用范围：化妆品填料。重庆钻石抛光液品牌

化学机械抛光液 

1、化学机械抛光液概念  化学机械抛光液是在利用化学机械抛光技术对半导体材料进行加工过程中的一种研磨液体，由于抛光液是CMP的关键要素之一，它的性能直接影响抛 光后表面的质量，因此它也成为半导体制造中的重要的、必不缺少的辅助材料。  

2、化学机械抛光液的组成  化学机械抛光液的组成一般包括一般由超细固体粒子研磨剂（如纳米SiO2、Al2O3粒子等）、表面活性剂、稳定剂、氧化剂等。固体粒子提供研磨作用,化学氧化剂提供腐蚀溶解作用，由于SiO2粒子去除率比较高,得到的表面质量比较好，因此在硅片抛光加工中主要采用SiO2抛光液，  

3、化学机械抛光液的分类  抛光工艺中有粗抛光和精抛光之分，故有粗抛光液和精抛光液品种之分。  

4、CMP过程中对抛光液性能的要求  抛光液的浓度、磨粒的种类、大小、形状及浓度、抛光液的粘度、pH值、流速、流动途径对去除速度都有影响。 重庆钻石抛光液品牌