江苏钻石抛光液价格查询

抛光液的主要产品可以按主要成分的不同分为以下几大类：金刚石抛光液（多晶金刚石抛光液、单晶金刚石抛光液和纳米金刚石抛光液）、氧化硅抛光液（即CMP抛光液）、氧化铈抛光液、氧化铝抛光液和碳化硅抛光液等几类。 

多晶金刚石抛光液

多晶金刚石抛光液以多晶金刚石微粉为主要成分，配合**散性配方，可以在保持高切削率的同时不易对研磨材质产生划伤。

应用于蓝宝石衬底的研磨、LED芯片的背部减薄、光学晶体以及硬盘磁头等的研磨和抛光。

氧化硅抛光液

氧化硅抛光液是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。

用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，如：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。

氧化铈抛光液

氧化铈抛光液是以微米或亚微米级CeO2为磨料的氧化铈研磨液，该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。

适用于高精密光学仪器，光学镜头，微晶玻璃基板，晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。

氧化铝和碳化硅抛光液

是以超细氧化铝和碳化硅微粉为磨料的抛光液，主要成分是微米或亚微米级的磨料。

用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。 Al2O3抛光液一次完成蓝宝石、碳化硅晶片的研磨和抛光，**进步抛光功率。江苏钻石抛光液价格查询

依据机械加工原理、半导体材料工程学、物力化学多相反应多相催化理论、表面工程学、半导体化学基础理论等，对硅单晶片化学机械抛光（CMP）机理、动力学控制过程和影响因素研究标明，化学机械抛光是一个复杂的多相反应，它存在着两个动力学过程：  （1）抛光首先使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表面的硅原子在表面进行氧化还原的动力学过程。这是化学反应的主体。  （2）抛光表面反应物脱离硅单晶表面，即解吸过程使未反应的硅单晶重新裸露出来的动力学过程。它是控制抛光速率的另一个重要过程。  硅片的化学机械抛光过程是以化学反应为主的机械抛光过程，要获得质量好的抛光片，必须使抛光过程中的化学腐蚀作用与机械磨削作用达到一种平衡。如果化学腐蚀作用大于机械抛光作用，则抛光片表面产生腐蚀坑、桔皮状波纹。如果机械磨削作用大于化学腐蚀作用，则表面产生高损伤层。湖北抛光液加工本公司的纳米抛光液适合水晶玻璃抛光，单晶硅片抛光，油漆表面抛光。

金刚石研磨液包括单晶、多晶和纳米。  该产品适合硬质材料的抛光

产品特点： 

 1.单晶金刚石抛光液具有良好的切削力，适用于超硬材料的研磨抛光。  

2.多晶金刚石

抛光液有良好的韧性，在研磨抛光过程中能够保持高磨削力的同时不易产 生划伤。适用于光学晶体、陶瓷、超硬合金等各种硬质材料的研磨和抛光。  

3.纳米抛光液能达到超精密的抛光效果，分散稳定性，长时间不沉淀，不团聚。***用 于硬质材料的超精密抛光过程，可使被抛表面粗糙度低于0.2nm。

抛光液的使用说明

   一、抛光液特性  抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂，具有良好的去油污，防锈，清洗和增光性能，并能使金属制品超过原有的光泽。本产品性能稳定、***，对环境无污染等作用 

二、抛光液用途  抛光液适用于铅锡合金，铜，锌合金，不锈钢，铝合金，铁等金属零部件的抛光，光亮度可达12级，可取代多种进口抛光剂和抛光粉。 

三：抛光液技术指标  抛光液项目指标测试方式： PH值 5.5—6.5 ***PH值试纸 外观 黄色粘稠液体 目测  粘度 500—100cps 粘度器测定 氧化铝抛光液凭仗较高的抛光速率在蓝宝石抛光液中有很好的运用远景。

 α-氧化铝（刚玉）的硬度高，安稳性好，纳米级的氧化铝适用于光学镜头、单芯光纤连接器、微晶玻璃基板、晶体外表等的精密抛光，运用适当***。当前，以高亮度GaN基蓝光LED为中心的半导体照明技术在照明范畴引起了很大的颤动，并成为全球半导体范畴研讨的热门。但GaN很难制备，必须在其它衬底晶片上外延生长薄膜，如蓝宝石晶片或碳化硅晶片，因而晶片的抛光也成为重视的焦点。

  近年来，国际上采用了一种新的工艺，即用Al2O3抛光液一次完成蓝宝石、碳化硅晶片的研磨和抛光，**进步抛光功率。不过，因为纳米α-氧化铝的硬度很高，因而抛光时易对工件外表形成严峻的损伤；而且纳米氧化铝的外表能比较高，粒子易聚会，也会形成抛光工件的划痕、凹坑等外表缺点。近年来对氧化铝抛光液的研讨主要会集在纳米磨料制备、氧化铝颗粒外表改性、氧化铝抛光液混合运用等方面。

抛光液具有性能稳定、***，对环境无污染等优点。重庆进口金刚石抛光液品牌

本公司销售的氧化铝抛光液运用抛光过程中的化学新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的质量。江苏钻石抛光液价格查询

氧化铝抛光液的酸碱度就是抛光液的pH值，当抛光液的pH值为9.6时，抛光液的机械作用远大于化学作用，去除速率比较大，导致抛光后抛光片表面产生高损伤层，粗糙度比较大。

当抛光液的pH值增大为10.84～11.34时，机械作用和化学作用达到一种对等状态时，此时化学作用的均匀性好，使得表面张力小，质量处理的一致性好，可以得到良好的表面抛光效果。

当pH值大于11.67时，SiO2水溶胶在强碱的作用下，生成易溶于水的硅酸氨，使得硅溶胶中的SiO2颗粒不能起到磨削作用，变成透明的液体，此时机械作用基本失效，抛光以化学作用为主，表面蚀坑增多，使得表面粗糙度重新增加。 江苏钻石抛光液价格查询

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