导电氧化物膜厚仪供应商家

    氚灯电脑要求60mb硬盘空间50mb空闲内存usb接口电源要求100-240vac,50-60hz,a选配以下镜头，就可在F20的基础上升级为新一代的F70膜厚测量仪。镜头配件厚度范围(Index=)精度光斑大小UPG-F70-SR-KIT15nm-50μmnm标配mm(可选配下至20μm)LA-CTM-VIS-1mm50μmmμm5μm150μmmμm10μm产品应用，在可测样品基底上有了极大的飞跃：●几乎所有材料表面上的镀膜都可以测量，即使是药片，木材或纸张等粗糙的非透明基底。●玻璃或塑料的板材、管道和容器。●光学镜头和眼科镜片。Filmetrics光学膜厚测量仪经验**无出其右Filmetrics光学膜厚测量仪经验**无出其右Filmetrics光学膜厚测量仪经验**无出其右Filmetrics光学膜厚测量仪经验**无出其右Filmetrics光学膜厚测量仪经验**无出其右Filmetrics光学膜厚测量仪经验**无出其右。厚度变化 (TTV) ；沟槽深度；过孔尺寸、深度、侧壁角度。导电氧化物膜厚仪供应商家

F40 系列将您的显微镜变成薄膜测量工具F40 产品系列用于测量小到 1 微米的光斑。 对大多数显微镜而言，F40 能简单地固定在 c 型转接器上，这样的转接器是显微镜行业标准配件。

F40 配备的集成彩色摄像机，能够对测量点进行准确监控。 在 1 秒钟之内就能测定厚度和折射率。 像我们所有的台式仪器一样，F40 需要连接到您装有 Windows 计算机的 USB 端口上并在数分钟内完成设定。

F40：20nm-40µm 400-850nm

F40-EXR：20nm-120µm 400-1700nm

F40-NIR：40nm-120µm 950-1700nm

F40-UV：4nm-40µm 190-1100nm

F40-UVX：4nm-120µm 190-1700nm Filmetrics F40膜厚仪液晶显示行业F3-s980 是波长为980奈米的版本，是为了针对成本敏锐的应用而设计。

电介质成千上万的电解质薄膜被用于光学，半导体，以及其它数十个行业, 而Filmetrics的仪器几乎可以测量所有的薄膜。 

测量范例氮化硅薄膜作为电介质，钝化层，或掩膜材料被广泛应用于半导体产业。这个案例中，我们用F20-UVX成功地测量了硅基底上氮化硅薄膜的厚度，折射率，和消光系数。有趣的事，氮化硅薄膜的光学性质与薄膜的分子当量紧密相关。使用Filmetrics专有的氮化硅扩散模型，F20-UVX可以很容易地测量氮化硅薄膜的厚度和光学性质，不管他们是富硅，贫硅，还是分子当量。

厚度标准：

所有 Filmetrics 厚度标准都是得到验证可追溯的 NIST 标准。

S-Custom-NIST：在客户提供的样品上定制可追溯的 NIST 厚度校准。 

TS-Focus-SiO2-4-3100SiO2-on-Si ：厚度标准，外加调焦区和单晶硅基准，厚度大约 3100A，4" 晶圆。

TS-Focus-SiO2-4-10000SiO2-on-Si ：厚度标准，外加调焦区和单晶硅基准，厚度大约 10000A，4" 晶圆。

TS-Hardcoat-4µm：丙烯酸塑料硬涂层厚度标准，厚度大约 4um，直径 2"。

TS-Hardcoat-Trans：背面透明的硬涂层，可用于透射测量。

TS-Parylene-4um：丙烯酸塑料上的聚对二甲苯厚度标准，厚度大约 4um ，直径2"。

TS-Parylene-8um：硅基上的聚对二甲苯厚度标准，厚度大约 8um，23mm x 23mm。

TS-SiO2-4-7200：硅基上的二氧化硅厚度标准，厚度大约 7200A，4" 晶圆。

TS-SiO2-4-7200-NIST：可追溯的 NIST SiO2-4-7200 厚度标准。

TS-SiO2-6-Multi：多厚度硅基上的二氧化硅标准: 125埃米，250埃米，500埃米，1000埃米，5000埃米，和 10000埃米 (+/-10%误差)，6英寸晶圆。TS-SS3-SiO2-8000：專為SS-3样品平台設計之二氧化硅厚度标准片,厚度大约為 8000A。 F50-UV测厚范围：5nm-40µm；波长：190-1100nm。

F60 系列生产环境的自动测绘Filmetrics F60-t 系列就像我们的 F50产品一样测绘薄膜厚度和折射率，但它增加了许多用于生产环境的功能。 这些功能包括凹槽自动检测、自动基准确定、全封闭测量平台、预装软件的工业计算机，以及升级到全自動化晶圆传输的机型。

不同的 F60-t 仪器根据波长范围加以区分。 较短的波长 (例如， F60-t-UV) 一般用于测量较薄的薄膜，而较长的波长则可以用来测量更厚、更不平整以及更不透明的薄膜。 

包含的内容：集成平台/光谱仪/光源装置（不含平台）4", 6" and 200mm 参考晶圆TS-SiO2-4-7200 厚度标准真空泵备用灯 红外干涉测量技术, 非接触式测量。半导体膜厚仪高性价比选择

采用Michaelson干涉方法，红外波段的激光能更好的穿透被测物体，准确得到测试结果。导电氧化物膜厚仪供应商家

测量眼科设备涂层厚度光谱反射率可用于测量眼镜片减反射 (AR) 光谱和残余颜色，以及硬涂层和疏水层的厚度。

测量范例：

F10-AR系统配备HC升级选择通过反射率信息进行硬涂层厚度测量。这款仪器仪器采用接触探头，从而降低背面反射影响，并可测凹凸表面。接触探头安置在镜头表面。FILMeasure软件自动分析采集的光谱信息以确定镜头是否满足指定的反射规格。可测平均反射率，指定点**小比较大反射率，以抵消硬涂层的存在。如果这个镜头符合要求，系统操作人员将得到清晰的“很好”指示。 导电氧化物膜厚仪供应商家

岱美仪器技术服务（上海）有限公司总部位于金高路2216弄35号6幢306-308室，是一家磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理（拍卖除外）及其相关配套服务，国际贸易、转口贸易，商务信息咨询服务 的公司。公司自创立以来，投身于半导体工艺设备，半导体测量设备，光刻机 键合机，膜厚测量仪，是仪器仪表的主力军。岱美中国始终以本分踏实的精神和必胜的信念，影响并带动团队取得成功。岱美中国创始人陈玲玲，始终关注客户，创新科技，竭诚为客户提供良好的服务。