浙江光刻机美元价格
HERCULES®
■ 全自动光刻跟/踪系统,模块化设计,用于掩模和曝光,集成了预处理和后处理能力
■ 高产量的晶圆加工
■ **多8个湿法处理模块以及多达24个额外烘烤,冷却和蒸汽填料板
■ 基于EVG的IQ Aligner® 或者EVG®6200
NT技术进行对准和曝光
■ **的柜内化学处理
■ 支持连续操作模式(CMO)
EVG光刻机可选项有:
手动和自动处理
我们所有的自动化系统还支持手动基片和掩模加载功能,以便进行过程评估。此外,该系统可以配置成处理弯曲,翘曲,变薄或非SEMI标准形状的晶片和基片。各种晶圆卡盘设计毫无任何妥协,带来**/大的工艺灵活性和基片处理能力。我们的掩模对准器配有机械或非接触式光学预对准器,以确保**/佳的工艺能力和产量。Load&Go选项可在自动化系统上提供超快的流程启动。 EVG光刻机**/新的曝光光学增强功能是对LED灯的设置。浙江光刻机美元价格
EVG6200 NT特征:
晶圆/基板尺寸从小到200 mm /8''
系统设计支持光刻工艺的多功能性
在第/一次光刻模式下的吞吐量高达180 WPH,在自动对准模式下的吞吐量高达140 WPH
易碎,薄或翘曲的多种尺寸的晶圆处理,更换时间短
带有间隔垫片的自动无接触楔形补偿序列
自动原点功能,用于对准键的精确居中
具有实时偏移校正功能的动态对准功能
支持**/新的UV-LED技术
返工分拣晶圆管理和灵活的盒式系统
自动化系统上的手动基板装载功能
可以从半自动版本升级到全自动版本
**小化系统占地面积和设施要求
多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)
先进的软件功能以及研发与全/面生产之间的兼容性
便捷处理和转换重组
远程技术支持和SECS / GEM兼容性
台式或带防震花岗岩台的单机版 IQ Aligner光刻机试用EVG100光刻胶处理系统可以处理多种尺寸的基板,直径从2寸到300 mm。
光刻机软件支持
基于Windows的图形用户界面的设计,注重用户友好性,并可轻松引导操作员完成每个流程步骤。多语言支持,单个用户帐户设置和集成错误记录/报告和恢复,可以简化用户的日常操作。所有EVG系统都可以远程通信。因此,我们的服务包括通过安全连接,电话或电子邮件,对包括经过现场验证的,实时远程诊断和排除故障。EVG经验丰富的工艺工程师随时准备为您提供支持,这得益于我们分散的全球支持机构,包括三大洲的洁净室空间:欧洲 (HQ), 亚洲 (日本) 和
北美 (美国).
EVG620 NT技术数据:
曝光源:
汞光源/紫外线LED光源
先进的对准功能:
手动对准/原位对准验证
自动对准
动态对准/自动边缘对准
对准偏移校正算法
EVG620 NT产量:
全自动:第/一批生产量:每小时180片
全自动:吞吐量对准:每小时140片晶圆
晶圆直径(基板尺寸):高达150毫米
对准方式:
上侧对准:≤±0.5 µm
底侧对准:≤±1,0 µm
红外校准:≤±2,0 µm /具体取决于基材
键对准:≤±2,0 µm
NIL对准:≤±3.0 µm
曝光设定:真空接触/硬接触/软接触/接近模式/弯曲模式
楔形补偿:全自动软件控制
曝光选项:间隔曝光/洪水曝光/扇区曝光
系统控制:
操作系统:Windows
文件共享和备份解决方案/无限制 程序和参数
多语言用户GUI和支持:CN,DE,FR,IT,JP,KR
实时远程访问,诊断和故障排除
工业自动化功能:
盒式磁带/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,弯曲,翘曲,边缘晶圆处理
纳米压印光刻技术:SmartNIL ® HERCULES以**小的占地面积结合了EVG精密对准和光刻胶处理系统的所有优势。
光刻机处理结果:EVG在光刻技术方面的核心竞争力在于其掩模对准系统(EVG6xx和IQ Aligner系列)以及高度集成的涂层平台(EVG1xx系列)的高吞吐量的接近和接触曝光能力。EVG的所有光刻设备平台均为300mm,可完全集成到HERCULES光刻轨道系统中,并辅以其用于从上到下侧对准验证的计量工具。高级封装:在EVG®IQAligner®上结合NanoSpray™曝光的涂层TSV底部开口 ;在EVG的IQ
Aligner NT®上进行撞击40μm厚抗蚀剂;负侧壁,带有金属兼容的剥离抗蚀剂涂层; 金属垫在结构的中间;用于LIGA结构的高纵横比结构,用EVG® IQ Aligner®曝光200μm厚的抗蚀剂的结果;西门子星状测试图暴露在EVG®6200NT上,展示了高/分辨率的厚抗蚀剂图形处理能力;MEMS结构在20μm厚的抗蚀剂图形化的结果。 只有接近客户,才能得知客户**真实的需求,这是我们一直时刻与客户保持联系的原因之一。青海光刻机要多少钱
OmniSpray涂层技术是对高形晶圆表面进行均匀涂层。浙江光刻机美元价格
仪器仪表行业本身是一个加入,产出周期较长的行业,所以作为业内厂家,一方面要寻找中、短期市场热点,另一方面也要在产品、技术研发方面有长远的规划;目前,半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪等产品的产量居世界前列,实验分析仪器等中产品的市场占比不断上升,行业技术上总体已达到的中等国际水平,少数产品接近或达到当前较高国际水平。在国民经济运行中,磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理(拍卖除外)及其相关配套服务,国际贸易、转口贸易,商务信息咨询服务 等设备是提高劳动生产率的倍增器,对国民经济有着巨大的作用和影响力。美国商业部地区技术和标准研究院(NIST)提出的报告称:美国90年代仪器仪表工业产值只占工业总产值的4%,但它对国民经济(GNP)的影响面却达到66%。尽管在我国相关政策的引导和支持下,我国仪器仪表行业得到了飞速发展。但是从贸易整体上看,我国的仪器仪表行业还是落后于国际水平的。重点技术缺乏、高精尖产品严重依赖进口、仪器仪表产品同质化严重、生产工艺落后、研发能力弱、精度不高等问题的凸显,为仪器仪表行业的发展带来了严峻的挑战。浙江光刻机美元价格
岱美仪器技术服务(上海)有限公司坐落在金高路2216弄35号6幢306-308室,是一家专业的磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理(拍卖除外)及其相关配套服务,国际贸易、转口贸易,商务信息咨询服务 公司。一批专业的技术团队,是实现企业战略目标的基础,是企业持续发展的动力。公司以诚信为本,业务领域涵盖半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪,我们本着对客户负责,对员工负责,更是对公司发展负责的态度,争取做到让每位客户满意。公司力求给客户提供全数良好服务,我们相信诚实正直、开拓进取地为公司发展做正确的事情,将为公司和个人带来共同的利益和进步。经过几年的发展,已成为半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪行业出名企业。