EVG510 HE纳米压印美元报价

时间:2021年09月17日 来源:

UV-NIL / SmartNIL 纳米压印系统

EV Group为基于紫外线的纳米压印光刻(UV-NIL)提供完整的产品线,包括不同的单步压印系统,大面积压印机以及用于高 效母版制作的分步重复系统。除了柔软的UV-NIL,EVG还提供其专有的SmartNIL技术以及多种用途的聚合物印模技术。高 效,强大的SmartNIL工艺可提供高图案保真度,高度均匀的图案层和**少的残留层,并具有易于调整的晶圆尺寸和产量。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期承诺,即纳米压印是一种用于大规模生产微米和纳米级结构的高性能,低成本和具有批量生产能力的技术。


这个系列的型号包括:EVG®610;EVG®620NT;EVG®6200NT;EVG®720;EVG®7200;EVG®7200LA;HERCULES®NIL;EVG®770;IQAligner®。 IQ Aligner UV-NIL是自动化紫外线纳米压印光刻系统,是用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印的系统。EVG510 HE纳米压印美元报价

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       通过中心提供的试验生产线基础设施,WaveOptics将超越其客户对下个季度的预期需求,并有一条可靠的途径将大批量生产工艺和设备转移至能够大规模生产波导的指定设施适用于全球前列OEM品牌。

      WaveOptics与EVG的合作突显了其致力于以可实现的价格提供高性能,商用波导来帮助客户将AR显示器推向市场的承诺。利用EVG在批量生产设备和工艺技术方面的专业知识,到2019年,AR终端用户产品将以不到600美元的价格进入市场,这是当今行业中的*低价位。 海南纳米压印服务为先SmartNIL是基于紫外线曝光的全域型压印技术。

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EVG ® 770特征:

微透镜用于晶片级光学器件的高 效率制造主下降到纳米结构为SmartNIL ®

简单实施不同种类的大师

可变抗蚀剂分配模式

分配,压印和脱模过程中的实时图像

用于压印和脱模的原位力控制

可选的光学楔形误差补偿

可选的自动盒带间处理


EVG ® 770技术数据:

晶圆直径(基板尺寸):100至300毫米

解析度:≤50 nm(分辨率取决于模板和工艺)

支持流程:柔软的UV-NIL

曝光源:大功率LED(i线)> 100 mW /cm²

对准:顶侧显微镜,用于实时重叠校准≤±500 nm和精细校准≤±300 nm

较早印刷模具到模具的放置精度:≤1微米

有效印记区域:长达50 x 50毫米

自动分离:支持的


前处理:涂层:液滴分配(可选)


EVG ® 6200 NT特征:

顶部和底部对准能力

高精度对准台

自动楔形补偿序列

电动和程序控制的曝光间隙

支持***的UV-LED技术

**小化系统占地面积和设施要求

分步流程指导

远程技术支持

多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)

敏捷处理和转换工具

台式或带防震花岗岩台的单机版


EVG ® 6200 NT附加功能:

键对准

红外对准

智能NIL ®

µ接触印刷技术数据

晶圆直径(基板尺寸)

标准光刻:75至200 mm

柔软的UV-NIL:75至200毫米

SmartNIL ®:**多至150mm

解析度:≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)

支持流程:软UV-NIL&SmartNIL

®


曝光源:汞光源或紫外线LED光源

对准:软NIL:≤±0.5 µm;SmartNIL ®:≤±3微米

自动分离:柔紫外线NIL:不支持;SmartNIL

®:支持


工作印章制作:柔软的UV-NIL:外部;SmartNIL ®:支持


NIL已被证明是能够在大面积上制造纳米图案的**经济、高 效的方法。

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    NIL系统肖特增强现实负责人RuedigerSprengard博士表示:“将高折射率玻璃晶圆的制造扩展到300-mm,对于实现我们客户满足当今和未来**AR/MR设备不断增长的市场需求所需的规模经济产量来说至关重要。通过携手合作,EVG和肖特彰显了当今300-mm高折射率玻璃制造的设备和供应链的就绪性。”在此之前,使用光刻/纳米压印技术对具有光子学应用结构的玻璃基板进行图案成形***于200-mm基板。向300-mm晶圆加工的迁移是将AR/MR头戴显示设备推向大众消费和工业市场迈出的重要一步。不过,在这些较大的基板上保持高基板质量和工艺均匀性是很难控制的,需要先进的自动化和工艺控制能力。EVG的SmartNIL技术得益于多年的研究、开发和实验,旨在满足纳米图案成形的需求,经过了现场验证,能够轻松从晶圆级样品尺寸扩展到大面积基板。去年六月,EVG推出了HERCULES®NIL300mm,将SmartNIL引入300-mm制造,满足各种设备和应用的生产需求,其中包括AR、MR和虚拟现实(VR)头戴显示设备的光学器件以及3D传感器、生物医疗设备、纳米光子学和等离子电子学。集成到SmartNIL®UV-NIL系统的全模块化EVG®HERCULES®。EVG开拓了这种非常规光刻技术,拥有多年技术,掌握了NIL,并已在不断增长的基板尺寸上实现了批量生产。甘肃纳米压印值得买

EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA是自动化的全场域纳米压印解决方案,适用于第3代基材。EVG510 HE纳米压印美元报价

EV Group的一系列高精度热压花系统基于该公司市场**的晶圆键合技术。出色的压力和温度控制以及大面积上的均匀性可实现高精度的压印。热压印是一种经济高 效且灵活的制造技术,具有非常高的复制精度,可用于**小50 nm的特征尺寸。该系统非常适合将复杂的微结构和纳米结构以及高长宽比的特征压印到各种聚合物基材或旋涂聚合物中。

NILPhotonics®能力中心-支持和开发

NILPhotonics能力中心是经过验证的创新孵化器。


欢迎各位客户来样制作,验证EVG的纳米压印设备的性能。


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