低温纳米压印竞争力怎么样

时间:2021年09月23日 来源:

    据外媒报道,美国威斯康星大学麦迪逊分校(UWMadison)的研究人员们,已经同合作伙伴联手实现了一种突破性的方法。不仅**简化了低成本高性能、无线灵活的金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)的制造工艺,还克服了许多使用标准技术制造设备时所遇到的操作上的问题。该技术可用于制造大卷的柔性塑料印刷线路板,并在可穿戴电子设备和弯曲传感器等领域派上大用场。研究人员称,这项突破性的纳米压印平板印刷制造工艺,可以在普通的塑料片上打造出整卷非常高性能的晶体管。由于出色的低电流需求和更好的高频性能,MOSFET已经迅速取代了电子电路中常见的双极晶体管。为了满足不断缩小的集成电路需求,MOSFET尺寸也在不断变小,然而这也引发了一些问题。EVG ® 7200 LA是大面积SmartNIL ® UV紫外光纳米压印光刻系统。低温纳米压印竞争力怎么样

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纳米压印光刻设备-处理结果:

新应用程序的开发通常与设备功能的提高紧密相关。 EVG的NIL解决方案能够产生具有纳米分辨率的多种不同尺寸和形状的图案,并在显示器,生物技术和光子应用中实现了许多新的创新。HRI SmartNIL®压印上的单个像素的1.AFM图像压印全息结构的AFM图像

资料来源:EVG与SwissLitho

AG合作(欧盟项目SNM)

2.通过热压花在PMMA中复制微流控芯片

资料来源:EVG

3.高纵横比(7:1)的10 µm柱阵列

由加拿大国家研究委 员会提供

4.L / S光栅具有优化的残留层,厚度约为10 nm

资料来源:EVG

5.紫外线成型镜片300 µm

资料来源:EVG

6.光子晶体用于LED的光提取

多晶硅的蜂窝织构化(mc-Si)

由Fraunhofer ISE提供

7.金字塔形结构50 µm

资料来源:EVG

8.**小尺寸的光模块晶圆级封装

资料来源:EVG

9.光子带隙传感器光栅

资料来源:EVG(欧盟Saphely项目)

10.在强光照射下对HRISmartNIL®烙印进行完整的晶圆照相

资料来源:EVG EVG7200LA纳米压印国内用户高 效,强大的SmartNIL工艺提供高图案保真度,拥有高度均匀图案层和**少残留层,易于扩展的晶圆尺寸和产量。

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IQ Aligner UV-NIL 自动化紫外线纳米压印光刻系统

应用:用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印系统

IQ Aligner UV-NIL系统允许使用直径从150 mm至300 mm的压模和晶片进行微成型和纳米压印工艺,非常适合高度平行地制造聚合物微透镜。该系统从从晶圆尺寸的主图章复制的软性图章开始,提供了混合和整体式微透镜成型工艺,可以轻松地将其与工作图章和微透镜材料的各种材料组合相适应。此外,EV Group提供合格的微透镜成型工艺,包括所有相关的材料专业知识。EV Group专有的卡盘设计可为高产量大面积印刷提供均匀的接触力。配置包括从压印基材上释放印章的释放机制。


EVG ® 6200 NT是SmartNIL

UV纳米压印光刻系统。


用UV纳米压印能力设有EVG's专有SmartNIL通用掩模对准系统®技术范围达150m。这些系统以其自动化的灵活性和可靠性而著称,以**小的占地面积提供了**

新的掩模对准技术。操作员友好型软件,**短的掩模和工具更换时间以及高 效的全球服务和支持使它们成为任何研发环境(半自动批量生产)的理想解决方案。该工具支持多种标准光刻工艺,例如真空,软,硬和接近曝光模式,并且可以选择背面对准。此外,该系统还为多功能配置提供了附加功能,包括键对准和纳米压印光刻。此外,半自动和全自动系统配置均支持EVG专有的SmartNIL技术。


EVG先进的多用户概念可以适应从初学者到**级别的所有需求,因此使其成为大学和研发应用程序的理想选择。

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IQ Aligner UV-NIL特征:

用于光学元件的微成型应用

用于全场纳米压印应用

三个**控制的Z轴,可在印模和基材之间实现出色的楔形补偿

三个**控制的Z轴,用于压印抗蚀剂的总厚度变化(TTV)控制

利用柔软的印章进行柔软的UV-NIL工艺

EVG专有的全自动浮雕功能

抵抗分配站集成

粘合对准和紫外线粘合功能


IQ Aligner UV-NIL技术数据:

晶圆直径(基板尺寸):150至300毫米

解析度:≤50 nm(分辨率取决于模板和工艺)

支持流程:柔软的UV-NIL,镜片成型


曝光源:汞光源

对准:≤±0.5微米

自动分离:支持的

前处理:涂层:水坑点胶(可选)

迷你环境和气候控制:可选的


工作印章制作:支持的


SmartNIL 非常适合对具有复杂纳米结构微流控芯片进行高精度图案化,用在下一代药 物研究和医学诊断设备生产。广西纳米压印高性价比选择

NIL已被证明是能够在大面积上制造纳米图案的**经济、高 效的方法。低温纳米压印竞争力怎么样

EVG610特征:

顶部和底部对准能力

高精度对准台

自动楔形误差补偿机制

电动和程序控制的曝光间隙

支持***的UV-LED技术

**小化系统占地面积和设施要求

分步流程指导

远程技术支持

多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)

敏捷处理和光刻工艺之间的转换

台式或带防震花岗岩台的单机版


EVG610附加功能:

键对准

红外对准

纳米压印光刻 

µ接触印刷


EVG610技术数据:

晶圆直径(基板尺寸)

标准光刻:比较大150毫米的碎片

柔软的UV-NIL:比较大150毫米的碎片

解析度:≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)

支持流程:柔软的UV-NIL

曝光源:汞光源或紫外线LED光源

自动分离:不支持

工作印章制作:外部


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