晶圆片纳米压印用途

时间:2021年11月17日 来源:

EVG ® 720自动SmartNIL

® UV纳米压印光刻系统

自动全视野的UV纳米压印溶液达150毫米,设有EVG's专有SmartNIL ®技术


EVG720系统利用EVG的创新SmartNIL技术和材料专业知识,能够大规模制造微米和纳米级结构。具有SmartNIL技术的EVG720系统能够在大面积上印刷小至40 nm *的纳米结构,具有****的吞吐量,非常适合批量生产下一代微流控和光子器件,例如衍射光学元件( DOEs)。

*分辨率取决于过程和模板


如果需要详细的信息,请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。也可以访问官网,获得更多信息。 EVG ® 7200是自动SmartNIL ® UV纳米压印光刻系统。晶圆片纳米压印用途

晶圆片纳米压印用途,纳米压印

SmartNIL是一项关键的启用技术,可用于显示器,生物技术和光子应用中的许多新创新。例如,SmartNIL提供了****的全区域共形压印,以便满足面板基板上线栅偏振器的**重要标准。SmartNIL还非常适合对具有复杂纳米结构的微流控芯片进行高精度图案化,以支持下一代药 物研究和医学诊断设备的生产。此外,SmartNIL的***发展为制造具有比较高功能,**小外形尺寸和大体积创新型光子结构提供了更多的自由度,这对于实现衍射光学元件(DOE)至关重要。


特征:

体积验证的压印技术,具有出色的复制保真度

专有SmartNIL ®技术,多使用聚合物印模技术

经过生产验证的分辨率低至40 nm或更小

大面积全场压印

总拥有成本比较低

在地形上留下印记

对准能力

室温过程

开放式材料平台 研究所纳米压印干涉测量应用EV Group 提供完整的UV 紫外光纳米压印光刻(UV-NIL)产品线。

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EVG ® 510 HE特征:

用于聚合物基材和旋涂聚合物的热压印应用

自动化压花工艺

EVG专有的**对准工艺,用于光学对准的压印和压印

完全由软件控制的流程执行

闭环冷却水供应选项

外部浮雕和冷却站


EVG ® 510 HE技术数据:

加热器尺寸:150毫米 ,200毫米

比较大基板尺寸:150毫米,200毫米

**小基板尺寸:单芯片,100毫米

比较大接触力:10、20、60 kN

比较高温度:标准:350°C;可选:550°C

夹盘系统/对准系统

150毫米加热器:EVG ® 610,EVG ® 620,EVG ® 6200

200毫米加热器:EVG ® 6200,MBA300,的Smart View ® NT

真空:

标准:0.1毫巴


可选:0.00001 mbar


EV Group的一系列高精度热压花系统基于该公司市场**的晶圆键合技术。出色的压力和温度控制以及大面积上的均匀性可实现高精度的压印。热压印是一种经济高 效且灵活的制造技术,具有非常高的复制精度,可用于**小50 nm的特征尺寸。该系统非常适合将复杂的微结构和纳米结构以及高长宽比的特征压印到各种聚合物基材或旋涂聚合物中。

NILPhotonics®能力中心-支持和开发

NILPhotonics能力中心是经过验证的创新孵化器。


欢迎各位客户来样制作,验证EVG的纳米压印设备的性能。


SmartNIL的主要技术是可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印结果。

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为了优化工艺链,HERCULES NIL中包括多次使用的软印章的制造,这是大批量生产的基石,不需要额外的压印印章制造设备。作为一项特殊功能,该工具可以升级为具有ISO 3 *功能的微型环境,以确保比较低的缺 陷率和比较高质量的原版复制。

通过为大批量生产提供完整的NIL解决方案,HERCULES NIL增强了EVG在***积NIL设备解决方案中的领导地位。

*根据ISO 14644


HERCULES ® NIL特征:

批量生产**小40 nm *或更小的结构

联合预处理(清洁/涂层/烘烤/寒意)和SmartNIL ®

体积验证的压印技术,具有出色的复制保真度

全自动压印和受控的低力分离,可很大程度地重复使用工作印章

包括工作印章制造能力

高功率光源,固化时间**快

优化的模块化平台可实现高吞吐量


*分辨率取决于过程和模板 EV Group的一系列高精度热压花系统是基于该公司市场**的晶圆键合技术。半导体设备纳米压印保修期多久

EVG的纳米压印设备括不同的单步压印系统,大面积压印机以及用于高 效母版制作的分步重复系统。晶圆片纳米压印用途

纳米压印应用二:面板尺寸的大面积纳米压印

EVG专有的且经过大量证明的SmartNIL技术的***进展,已使纳米图案能够在面板尺寸比较大为Gen 3(550 mm x 650 mm)的基板上实现。对于不能减小尺寸的显示器,线栅偏振器,生物技术和光子元件等应用,至关重要的是通过增加图案面积来提高基板利用率。 NIL已被证明是能够在大面积上制造纳米图案的**经济、高 效的方法,因为它不受光学系统的限制,并且可以为**小的结构提供比较好的图案保真度。岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。


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