半导体轮廓仪厂家

时间:2023年03月13日 来源:

轮廓仪的主要客户群体300mm集成电路技术封装生产线检测集成电路工艺技术研发和产业化国家重点实验室高效太阳能电池技术研发、产业化MEMS技术研发和产业化新型显示技术研发、产业化超高精密表面工程技术轮廓仪是一种两坐标测量仪器,仪器传感器相对被测工件表而作匀速滑行,传感器的触针感受到被测表而的几何变化,在X和Z方向分别采样,并转换成电信号,该电信号经放大和处理,再转换成数字信号储存在计算机系统的存储器中,计算机对原始表而轮廓进行数字滤波,分离掉表而粗糙度成分后再进行计算,测量结果为计算出的符介某种曲线的实际值及其离基准点的坐标,或放大的实际轮廓曲线,测量结果通过显示器输出,也可由打印机输出。(来自网络)。NanoX-8000主设备尺寸:1290(W)x1390(D)x2190(H) mm。半导体轮廓仪厂家

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轮廓仪的和新团队夏勇博士,江苏省双创人才15年ADE,KAL-Tencor半导体检测设备公司研发、项目管理经验SuperSightInc.CEO/共同创始人,太阳能在线检测设备唐寿鸿博士,国家千人****25年ADE,KAL-Tencor半导体检测设备公司研发经验KLA-Tencor资申研发总监,世界即图像处理、算法**许衡博士,软件系统研发10年硅谷世界500强研发经验(BDMedicalInstrument)光学测量、软件系统岱美仪器与**组为您提供轮廓仪的技术支持,为您排忧解难。浙江轮廓仪有哪些品牌隔振系统:集成气浮隔振 + 大理石基石。

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NanoX-8000系统主要性能▪菜单式系统设置,一键式操作,自动数据存储▪一键式系统校准▪支持连接MES系统,数据可导入SPC▪具备异常报警,急停等功能,报警信息可储存▪MTBF≥1500hrs▪产能:45s/点(移动+聚焦+测量)(扫描范围50um)➢具备Globalalignment&Unitalignment➢自动聚焦范围:±0.3mm➢XY运动速度蕞快如果需要了解更多详细参数,请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。我们主要经营键合机、光刻机、轮廓仪,隔振台等设备。

轮廓仪在集成电路的应用封砖Bump测量视场:72*96(um)物镜:干涉50X检测位置:样品局部面减薄表面粗糙度分析封装:300mm硅片背面减薄表面粗糙度分析面粗糙度分析:2D,3D显示;线粗糙度分析:Ra,Ry,Rz,…器件多层结构台阶高MEMS器件多层结构分析、工艺控制参数分析激光隐形切割工艺控制世界为一的能够实现激光槽宽度、深度自动识别和数据自动生成,大达地缩短了激光槽工艺在线检测的时间,为了避免人工操作带来的一致性,可靠性问题欢迎咨询。白光干涉系统基于无限远显微镜系统,通过干涉物镜产生干涉条纹,使基本的光学显微镜系统变为白光干涉仪。

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NanoX-系列产品PCB测量应用测试案例测量种类◼基板ASoldMask3D形貌、尺寸◼基板ASoldMask粗糙度◼基板A绿油区域3D形貌◼基板A绿油区域Pad粗糙度◼基板A绿油区域粗糙度◼基板A绿油区域pad宽度◼基板ATrace3D形貌和尺寸◼基板B背面PadNanoX-8000系统主要性能▪菜单式系统设置,一键式操作,自动数据存储▪一键式系统校准▪支持连接MES系统,数据可导入SPC▪具备异常报警,急停等功能,报警信息可储存▪MTBF≥1500hrs▪产能:45s/点(移动+聚焦+测量)(扫描范围50um)➢具备Globalalignment&Unitalignment➢自动聚焦范围:±0.3mm➢XY运动速度蕞快传统光学显微镜的图像包含清晰和模糊的细节。半导体设备轮廓仪

几何特征(关键孔径尺寸,曲率半径,特征区域的面积和集体,特征图形的位置和数量等)。半导体轮廓仪厂家

轮廓仪的性能测量模式:移相干涉(PSI),白光垂直扫描干涉(VSI),单色光垂直扫描干涉(CSI)样品台:150mm/200mm/300mm样品台(可选配)XY平移:±25mm/150mm/200mm/300mm,倾斜:±5°可选手动/电动样品台CCD相机像素:标配:1280×960视场范围:560×750um(10×物镜)具体视场范围取决于所配物镜及CCD相机光学系统:同轴照明无限远干涉成像系统光源:高效LEDZ方向聚焦80mm手动聚焦(可选电动聚焦)Z方向扫描范围精密PZT扫描(可选择高精密机械扫描,拓展达10mm)纵向分辨率<0.1nmRMS重复性*0.005nm,1σ台阶测量**准确度≤0.75%;重复性≤0.1%,1σ横向分辨率≥0.35um(100倍物镜)检测速度≤35um/sec,与所选的CCD半导体轮廓仪厂家

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