芯片图形激光答疑解惑

半导体激光器失效机理与案例分析：

2）欧姆接触如果芯片和焊料存在较大的热失配，激光器在焊接或工作时会导致材料界面产生应力集中，进而引起焊料开裂或芯片裂损。此外，在焊接激光器时，芯片和焊料间存在焊接空隙会导致激光器发生失效，同时焊接中的焊料溢出也易导致PN结短路。

3）腔面退化腔面退化是激光器区别于其他微电子器件的一个失效模式。由于激光器有源区材料中含有Al或In元素，且当芯片设计制造工艺均匀性或一致性较差时，Al、In元素在高功率工作下会发生融化或再结晶，导致腔面出现杂质或缺陷，从而使该区域温度不断升高，面的电流密度继续增大导致该区域温度进一步升高，终导致灾变光学损伤。

4）环境污染环境污染是导致半导体激光器失效的外界因素，主要原因为灰尘、水汽、离子污染物等颗粒进入半导体激光器内部，附着在芯片表面引起短路或开路，导致器件失效。 超快激光微加工的技术应用；芯片图形激光答疑解惑

光刻掩膜版质量的优劣直接影响光刻的质量。在芯片制造过程中需要经过十几甚至几十次的光刻，每次光刻都需要一块光刻掩膜版，每块光刻掩膜版的质量都会影响光刻的质量。光刻过程中，通常通过一系列光学系统，将掩膜版上的图形按照 4：1 的比例投影在晶圆上的光刻胶涂层上。由于在制作过程中存在一定的设备或工艺局限，光掩膜上的图形并不可能与设计图像完全一致，即在后续的硅片制造过程中，掩膜板上的制造缺陷和误差也会伴随着光刻工艺被引入到芯片制造中。因此光掩膜的品质将直接影响到芯片的良率和稳定性。

成都激光镭射机掩模版激光都有哪些种类？

激光开封的目的：开封后，我们能清晰看到芯片表面状态，观察芯片划片道是否有崩边、裂纹，观察芯片表面是否存在异常，观察芯片logo信息，测量芯片尺寸和键合线线径，观察键合线材质，观察钝化层的完整性等芯片内部信息。

芯片开封前用X射线透（tou）视（shi）仪观察晶圆在塑封中的位置并识别键合线类型，在激光开封机上对应芯片晶圆位置，选择合适开封区域（大于晶圆位置即可，开封后要保证有一个凹槽，防止下一步腐蚀液外溢，损伤引脚），选择合适的扫描速度和功率，激光开封机减薄至键合丝出现，待化学开封。

半导体业的铜引线封装越来越成为发展主流，传统的化学开封已无法完全满足铜引线封装的开封要求。激光开封机的诞生给分析领域带来了新的技术。

激光开封机特点：

1、对铜引线封装有很好的开封效果

2、对复杂样品的开封极为方便

3、可重复性、一致性极高

、电脑控制开封形状、位置、大小、时间等，操作便利

5、对环境及人体污染伤害较小，安全性高

6、几乎没有耗材，使用成本很低

7、体积较小，容易摆放

激光开封机是怎么操作的？开封，开盖，开帽，指给完整封装的IC做局部腐蚀，使得IC可以暴露出来，同时保持芯片功能的完整无损，保持 die，bond pads，bond wires乃至lead-frame不受损伤，为下一步芯片失效分析实验做准备，方便观察或做其他测试（如FIB，EMMI）， Decap后功能正常。 激光开封机主要应用有哪些呢？

常见、有代表性的激光应用之激光热处理：也称激光淬火，是一种表面改性工艺，用于增强部件的耐磨性或延长其寿命，从家用工具到汽车制造部件及重工业和运输领域的工装，均在适用范围内，尤其汽车工业中应用普遍，如缸套、曲轴、活塞环、换向器、齿轮等零部件的热处理，同时在航空航天、机床行业和其它机械行业也应用范围广。激光淬火常用于钢和铸铁材料。激光器通过受控的局部加热使金属部件上的目标区域发生固态相变，同时保证基材的冶金性能。吸收取决于材料类型、碳含量、微结构、表面条件、尺寸和几何形状，通常限于在表面层，淬火深度0.2–2.0 mm。可采用光束整形器件控制加热区域。激光加工是激光产业的重要应用。成都激光镭射机

激光逐层剥离微加工；芯片图形激光答疑解惑

激光打标机常见的五种故障分析：

激光打标机出现问题的时候，如果不能及时解决问题将会影响到产品的交付时间，虽然激光打标机的维修是比较麻烦的，但是它的原理是较简单的，有很多问题是可以自行解决而不需要专业技术人员维修的，下面就是激光打标机常见的五种故障。

1．激光打标机的标识图案发白解决方法：检查模压速度是否太慢、模压温度是否太高。

2．激光打标机的标识图案局部不清晰解决办法：检查模压版的厚度是否均匀，模压压力是否太小，温度是否过低，机器精度是否下降。工艺控制要点：模压版厚度误差应控制在0．O01mm以内，硬度应保持在230—280N／mm。因为全息图是通过给模压辊施加一定的压力而模压出干涉条纹，如果模压版的硬度不够，在压印的过程中内应力会使模压版变形或损坏。 芯片图形激光答疑解惑

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