光掩膜版激光配件

时间:2023年06月05日 来源:

激光开封的目的:开封后,我们能清晰看到芯片表面状态,观察芯片划片道是否有崩边、裂纹,观察芯片表面是否存在异常,观察芯片logo信息,测量芯片尺寸和键合线线径,观察键合线材质,观察钝化层的完整性等芯片内部信息。

芯片开封前用X射线透(tou)视(shi)仪观察晶圆在塑封中的位置并识别键合线类型,在激光开封机上对应芯片晶圆位置,选择合适开封区域(大于晶圆位置即可,开封后要保证有一个凹槽,防止下一步腐蚀液外溢,损伤引脚),选择合适的扫描速度和功率,激光开封机减薄至键合丝出现,待化学开封。 掩模版用于芯片的批量生产;光掩膜版激光配件

激光工艺:

激光剖面芯片,替代传统费时费力的冷热制模固定,人工研磨方法。激光可剖面BGA焊球、玻纤PCB板、开封后裸露的晶圆(配合PICOEYE显微视觉,切缝宽度可控制低至5微米)。

激光开盖,主要针对陶瓷、可伐、铝合金等金属封装。超快激光在时间维度聚焦,配合辅助工艺能确保无污染无残留开盖。

Eco-Blue激光光化学法无损开封,利用激光聚焦活化ECO-BLUE溶解液,破坏塑封交联结构并溶解,无损晶圆层,应用于晶圆级失效机理分析,替代危险的强酸腐蚀工艺。

激光逐层剥离微加工,利用高稳定及均匀分布的激光能量,逐层去除PI隔离层、RDL金属路线重布层,多层晶圆。主要IC类型有陀螺仪、传感器、硅通孔IC等。 浙江激光供应不同掩模版的不透光材料有所不同。

激光工艺:

经过近20年的发展,目前比较成熟的工艺分为六种:Decap EMC 激光开封环氧树脂塑模封装Gel Removal 激光去除硅胶封装Cross section 激光剖面芯片De-lidding 激光开盖金属陶瓷封装Eco-Blue 激光光化学法无损晶圆开封De-layering 激光逐层剥离微加工。

激光开封是利用激光聚焦能量,汽化EMC(epoxy mould compound)塑封层的工艺。可替代传统的微型CNC机械磨除方法,结合GEL-BLUE工艺,可代替开封的后续滴酸工艺。

激光去除硅胶封装,是利用远红外激光器,汽化silicagel,结合GEL-BLUE溶液,完美除胶直达晶圆层。目前应用的IC主要类型有LED、IGBT、以及高压功率芯片。


激光技术是20世纪与原子能、半导体及计算机齐名的四项重大发明之一.四十多年来,随着小型电子产品和微电子元器件需求量的日益增长,对于加工材料(尤其是聚合物材料以及高熔点材料)的精密处理日渐成为激光在工业应用中发展快速的领域之一.

激光加工是激光产业的重要应用,与常规的机械加工相比,激光加工更精密、更准确、更迅速.该技术利用激光束与物质相互作用的特性对包括金属与非金属的各种材料进行加工,涉及到了焊接、切割、打标、打孔,热处理、成型等多种加工工艺。激光的特性使之成为微处理的理想工具,广泛应用于微电子、微机械和微光学加工三大领域。

激光加工技术是利用激光束与物质相互作用的特性对材料(包括金属与非金属)进行切割、焊接、表面处理、打孔及微加工等的一门加工技术. 超快激光玻璃微加工。

光刻掩膜版质量的优劣直接影响光刻的质量。在芯片制造过程中需要经过十几甚至几十次的光刻,每次光刻都需要一块光刻掩膜版,每块光刻掩膜版的质量都会影响光刻的质量。光刻过程中,通常通过一系列光学系统,将掩膜版上的图形按照 4:1 的比例投影在晶圆上的光刻胶涂层上。由于在制作过程中存在一定的设备或工艺局限,光掩膜上的图形并不可能与设计图像完全一致,即在后续的硅片制造过程中,掩膜板上的制造缺陷和误差也会伴随着光刻工艺被引入到芯片制造中。因此光掩膜的品质将直接影响到芯片的良率和稳定性。


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激光钻孔加工常见的4种方法1.开铜窗法:先将RCC(涂上树脂的铜箔层)复压于内层板上,用光化方法制作窗口,然后用蚀刻露出树脂,再用激光烧除窗口内基材材料形成微盲孔。2.开大窗法:将铜窗直径增大到0.05mm左右,比底垫还大(通常根据孔径大小确定),当孔径为0.15mm时,底垫直径应在0.25mm左右,其大窗口直径为0.30mm。然后进行激光照射,即可烧出微盲孔,这样位置准确,可用于制作精确的铜窗底垫。它的主要特点是选择自由度大,进行激光照射时可选择另按内层底垫的程序打孔。这种方法有效地避免了由于铜窗直径与孔径相同所引起的偏置,从而使激光点不能对准正窗口,从而导致大量的大尺寸拼板表面有很多半孔或残孔。光掩膜版激光配件

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