光掩膜版激光性价比

激光开封的目的：开封后，我们能清晰看到芯片表面状态，观察芯片划片道是否有崩边、裂纹，观察芯片表面是否存在异常，观察芯片logo信息，测量芯片尺寸和键合线线径，观察键合线材质，观察钝化层的完整性等芯片内部信息。

芯片开封前用X射线透（tou）视（shi）仪观察晶圆在塑封中的位置并识别键合线类型，在激光开封机上对应芯片晶圆位置，选择合适开封区域（大于晶圆位置即可，开封后要保证有一个凹槽，防止下一步腐蚀液外溢，损伤引脚），选择合适的扫描速度和功率，激光开封机减薄至键合丝出现，待化学开封。 激光应用之激光打标；光掩膜版激光性价比

激光光掩膜主要分两个组成部分，即基板和不透光材料，不同掩模版的不透光材料有所不同。基板通常是高纯度，低反射率，低热膨胀系数的石英玻璃。不同种类光掩膜使用的不透光材料不同。光掩膜分为铬版（苏打玻璃、石英玻璃、硼硅玻璃）、干版、菲林、凸版（APR）。铬版的不透光层是通过溅射方法镀在玻璃下方厚约 0.1um 的铬层。铬的硬度比玻璃略小，不易受损但有可能被玻璃所伤害。应用于芯片制造的光掩膜为高敏感度的铬版。干版涂附的乳胶，硬度小且易吸附灰尘，不过干版还有包膜和超微颗粒干版，后者可应用于芯片制造。激光开封光掩膜的品质将直接影响到芯片的良率和稳定性。

常见、有代表性的激光应用之激光冷却：利用激光和原子的相互作用减速原子运动以获得低温原子的高新技术。这一重要技术早期主要目的是为了精确测量各种原子参数，用于高分辨率激光光谱和超高精度的量子频标（原子钟），后来成为实现原子玻色-爱因斯坦凝聚的关键实验方法。激光冷却有许多应用，如：原子光学、原子刻蚀、原子钟、光学晶格、光镊子、玻色-爱因斯坦凝聚、原子激光、高分辨率光谱及光和物质的相互作用的基础研究等。

1997年诺贝尔物理学奖被授予朱棣文、克劳德·科恩·塔努吉和威廉·D·菲利普斯，以表彰他们利用激光冷却和捕获原子的方法。

激光工艺：

激光剖面芯片，替代传统费时费力的冷热制模固定，人工研磨方法。激光可剖面BGA焊球、玻纤PCB板、开封后裸露的晶圆（配合PICOEYE显微视觉，切缝宽度可控制低至５微米)。

激光开盖，主要针对陶瓷、可伐、铝合金等金属封装。超快激光在时间维度聚焦，配合辅助工艺能确保无污染无残留开盖。

Eco-Blue激光光化学法无损开封，利用激光聚焦活化ECO-BLUE溶解液，破坏塑封交联结构并溶解，无损晶圆层，应用于晶圆级失效机理分析，替代危险的强酸腐蚀工艺。

激光逐层剥离微加工，利用高稳定及均匀分布的激光能量，逐层去除PI隔离层、RDL金属路线重布层，多层晶圆。主要IC类型有陀螺仪、传感器、硅通孔IC等。 激光光掩膜主要分基板和不透光材料两个部分；

常见、有代表性的激光应用之激光清洗：可看做是一种烧蚀工艺，通过将激光能量汇聚到材料表面并被吸收后使表层、涂层气化的工艺过程，同时对底层基材的影响小。该工艺可应用于多种材料，包括金属、塑料、复合材料和玻璃。

常见、有代表性的激光应用之激光熔覆：使用激光作为热源将金属涂层添加到部件表面上的过程。该工艺通常用于生成功能性更高的保护涂层及修复损坏或磨损的表面。激光熔覆可延长部件受到腐蚀、磨损或冲击的设备和机器的寿命。如，工程机械行业采用该技术提高其产品的耐磨性并延长设备的使用寿命。通常，利用激光来熔化金属粉末，以在基底上添加涂层，可在钢或不锈钢基材上应用保护涂层，例如碳化钨、镍合金或钴合金。该工艺可在涂层和基体材料之间形成高结合强度和低稀释率的冶金结合，从而增强金属的防腐蚀性与耐磨性。 半导体激光器失效机理；激光开封

激光钻孔加工技术方法；光掩膜版激光性价比

在芯片制造中，光刻是至关重要的一个环节，这是将设计好的芯片版图转移到晶圆上的过程，类似于胶片相机中的胶卷曝光后，利用底片进行洗制照片的过程。一个底片可以洗出来很多照片，一样的道理，通过芯片版图，就是要复制出来很多芯片，只是这个过程要比洗相片复杂繁琐太多。芯片版图，也称为光刻掩膜版，或者是光罩、掩膜版，是决定芯片造价成本的关键，一般来说，一个芯片生产线，所需要的大致设备、材料都是类似的，只是随着芯片制程工艺的不断提升，所需要的设备精密度越高，而材料纯度也是越高，这些都会导致生产成本的不断提升，不过，上升快的则是光刻掩膜版所带来的成本。光掩膜版激光性价比

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