武汉显微镜种类
聚焦离子束（FIB）显微镜
随着纳米科技的发展，纳米尺度制造业发展迅速，而纳米加工就是纳米制造业的重要部分，纳米加工的代表性方法就是聚焦离子束。近年来发展起来的聚焦离子束（FIB）技术利用聚焦离子束对材料进行纳米加工，配合扫描电镜（SEM）等高倍数电子显微镜实时观察，成为了纳米级分析、制造的主要方法。目前已广泛应用于半导体集成电路修改、切割和故障分析等。
技术特征
1、比较高束流可以达到100nA,且加工性能优异。可以实现快速切割和纳米加工。
2、最高分辨率小于3nm，可以实现精细加工，并显示优异的FIB成像质量。
3、电压范围在500V-30KV可调，可以实现精细抛光，降低样品表面非晶层厚度。
4、离子源比较稳定，使用寿命长。行业内**长离子源寿命1500小时（3000uAh），72小时束流变化在5%以内。5、与SEM镜筒完美配合，可以实现FIB加工过程中可以利用SEM进行实时观察。 金相显微镜原理及光学应用；武汉显微镜种类
激光共聚焦显微镜的机械运动更少，特别是在光谱成像中，机械运动更稳定，可确保更快，间歇和令人信服的结果。通过将多个检测器集成在一起，可以可靠地重现用户的测量结果。并行光谱检测允许在波长模式下同时读取更多信号。另外，还有一种特殊的采集方法，可以有效提高光谱分辨率。
激光共聚焦显微镜可以显示清晰的细节和高对比度的图像，而不管表面形态和结构分析或表面轮廓如何。提高灵敏度和减少背景噪声是激光共聚焦显微镜应用的先决条件。激光共聚焦显微镜具有出色的灵敏度，良好的降噪技术和激发激光技术，可确保良好的输出功率。 PSM-1000显微镜品牌排行芯片测试观察用显微镜；
激光共聚焦显微镜可以将水平分辨率提高40%以上，其优势可以达到120nm。激光共聚焦显微镜具有高度适应性，并且是非接触式检测。为了改善场景的深度，必须在高度方向上进行扫描以获得一系列切片，然后重叠以获得三维图像。激光共聚焦显微镜不需要样品制备和电导率处理，并且样品没有损坏(可以检测粉末，软样品和透明样品)。激光共聚焦显微镜具有丰富的测量结果，高分辨率的2D和3D摄影。各种2D和3D显示结果的比较，大面积图像样条曲线，非接触粗糙度测量，膜厚度测量，荧光分析等。操作和维护都很简单。激光共聚焦显微镜不需要昂贵的材料，模块设计，用户友好的操作软件以及自动校正程序。
显微镜常见故障的排除：
一、显微镜灯泡不亮1、检查电源线是否有松动，插座是否正常。2、检查保险丝是否烧断（保险丝多在机身电源接口处），如烧断了则更换保险丝。3、更换备用灯泡，注意在更换过程中不要手指直接接触到灯泡。
二、显微镜无法对焦成像1、检查调焦限位机构是否没调节好，导致工作距离不够。2、检查样品是否放反。
三、低倍下成像清晰，高倍下成像较模糊1、高倍下对样品厚度和平整度有更高要求，检查样品是否平整。2、盖玻片位置是否放反，注意盖玻片朝上。3、生物显微镜应注意100X物镜是否滴油，物镜是否干净。4、切换到高倍镜时，聚光镜上的孔径光阑相应调大。
显微镜的专业术语词义；
扫描探针显微镜是在扫描隧道显微镜的基础上发展起来的各种新型探针显微镜(原子力显微镜，静电力显微镜，磁力显微镜，扫描离子电导显微镜，扫描电化学显微镜等)的统称，是国际上近年发展起来的表面分析仪器。
扫描探针显微镜的基本工作原理是利用探针与样品表面原子分子的相互作用，即当探针与样品表面接近至纳米尺度时形成的各种相互作用的物理场，通过检测相应的物理量而获得样品表面形貌。扫描探针显微镜主要由探针、扫描器、位移传感器、控制器、检测系统和图像系统5部分组成。 透射电子显微镜和扫描电子显微镜；金像显微镜原理
探针台显微镜选用的是长工作距离物镜；武汉显微镜种类
显微镜对于不透明物体的照明和暗视场照明方法
对于不透明物体，采用从侧面或者从上方照明的方法。此时，标本是靠散射光或反射光成像的。侧面照明是把光源放在标本的斜上方，有的显微镜用物镜四周的小灯泡形成斜照明，上方照明方式使物镜兼作聚光镜
暗视场照明方法：暗视场照明适用于离散分布的颗粒标本的观测。在某种程度上，暗视场照明可以提高显微镜的分辨率。暗视场照明的原理是不让透过标本的光直接进入物镜，只让由颗粒散射的光线进入物镜。这样，使物镜形成的像面是一个暗背景上分布着亮颗粒的景象。由于衬度（对比）好，有利于颗粒的分辨。暗视场照明分为单向暗视场照明和双向暗视场照明。分为单向暗视场照明和双向暗视场照明。 武汉显微镜种类
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