南京MEMS扫描微镜厂家价格

芯片封装形式：MEMS 芯片产品，其封装形式可以根据不同的使用需求进行定制化开发。我司可提供 1 种（CLCC 封装,如下图所示）标准封装形式供客户使用。一维MEMS扫描镜需要特殊的驱动控制模块，我司可提供与之匹配的专业驱动控制模块，可缩短客户对其开发周期。一维MEMS扫描镜(直径1.4mm)采用半导体硅工艺制造, 低功耗静电驱动,以高速谱振模式,可实现大的光学扫描角度和高扫描频率,镜面表面以金为标准镀膜材料,可为红外波长光束提供高反射率,目前已经量产,可大批量交付客户,亦可大规模制造中采用铝为镜面材料,实现其他波段的高反射率。扫描镜已成为MEMS业界关注的焦点。南京MEMS扫描微镜厂家价格

MEMS具有体积小、扫描速度快、成本低的特点，可以进行双轴扫描，成为此类激光雷达系统的重要组成部分。MEMS镜前正透镜焦距设定为100mm，距MEMS微镜23.5 mm;根据建议，MEMS的机械倾斜角设置为±°4左右，即MEMS本身的光偏斜角=±°8 1(因为光学偏斜角是机械倾斜角的两倍)。所用MEMS的参数参考Mirrorcle Technologies Inc.的产品。一维MEMS扫描镜(直径1.4mm)采用半导体硅工艺制造, 低功耗静电驱动,以高速谱振模式,可实现大的光学扫描角度和高扫描频率,镜面表面以金为标准镀膜材料,可为红外波长光束提供高反射率,目前已经量产。广东静电驱动MEMS扫描微镜定制一维MEMS扫描镜需要特殊的驱动控制模块，我司可提供与之匹配的专业驱动控制模块。

一维MEMS扫描镜描述 ：一维 MEMS 扫描镜设计上采用高速共振模式，以达到大光学扫描角的性能，可实现光束。一维空间的精确扫描；用户可根据实际应用的光学系统需求，选择合适的反射镜面尺寸及性能参数；镜面表面以金或铝为标准镀膜材料，为不同工作波长光束提供高反射率；若采用两颗一维 MEMS 扫描镜组合即可实现光束在二维空间的精确扫描，可实现高性能要求应用的开发。一维MEMS扫描镜(直径1.4mm)采用半导体硅工艺制造, 低功耗静电驱动,以高速谱振模式,可实现大的光学扫描角度和高扫描频率,镜面表面以金为标准镀膜材料,可为红外波长光束提供高反射率,目前已经量产,可大批量交付客户,亦可大规模制造中采用铝为镜面材料,实现其他波段的高反射率

扫描镜是通过精确控制镜面的偏角来控制光束的偏转方向，扫描镜可用于光束的指向控制和扫描。昊量光电可提供的光束偏转产品包括以下产品：MEMS 扫描镜：由静电驱动，可提供镜面直径从0.8-7.5mm不等产品。一个产品可在点对点、一个轴谐振另外一个点对点控制，两个轴谐振三种不同模式下工作。二维MEMS扫描镜（直径3.0mm /直径1.4mm）采用半导体硅技术制造， 低功耗静电驱动，快轴可达到几kHz共振模式，慢轴可实现稳定旋转，并可以实现 二维光束空间用户可以根据光学系统的实际应用选择合适的镜面尺寸。MEMS扫描镜采用静电驱动且选用整个单晶硅制备而成，使得驱动电压和偏转角度之间存在良好的关系。

MEMS扫描微镜的静电驱动：所谓静电驱动技术，就是利用电荷间的库仑力作为驱动力进行驱动的技术。通过静电作用使可以活动的微镜面转动，从而改变光路。虽然驱动力较其他原理的器件相比偏小，但工艺兼容性较好，可以使用体硅和表面硅机械加工工艺制作，便于实现集成。静电驱动技术按结构分，主要有平行板电容结构、抓刮结构（scratch drive actuator，SDA）和梳齿结构三大类。所谓的平板电容结构，就是在平板电容的两端施加电压，上级板可动，下极板固定。当外加驱动电压时，静电力使极板间距减小，造成静电力增大；静电力的增大进一步引起极板间距的减小，又使静电力进一步增大，这是一个正反馈过程。因此，通过对外加电压的控制实现镜面的扭转，但只有当驱动电压在一定范围内才是稳定的。一维MEMS扫描镜目前已经量产，可大批量交付客户。MEMS器件费用

任何MEMS芯片的量产从来都不是简单的事。南京MEMS扫描微镜厂家价格

MEMS扫描镜的市场前景是比较好的，从MEMS扫描镜的轴数看，双轴扫描镜是技术发展趋势，这样能大幅度降低封装成本。从MEMS扫描镜的扫描角度精度看，发展趋势是扫描镜集成制造角度传感器，采用闭环控制方法实现对扫描微镜的精确控制。从MEMS扫描镜的驱动方式看，由于压电驱动具有更高的力密度，压电驱动MEMS扫描镜将可能成为技术新方向，值得关注。一维 MEMS 扫描镜设计上采用高速共振模式，以达到大光学扫描角的性能，可实现光束，一维空间的精确扫描；用户可根据实际应用的光学系统需求，选择合适的反射镜面尺寸及性能参数；镜面表面以金或铝为标准镀膜材料，为不同工作波长光束提供高反射率。南京MEMS扫描微镜厂家价格

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