MEMS扫描镜供应

MEMS二维扫描微镜性能指标国际前沿。MEMS二维扫描微镜利用微加工技术，批量制备高性能光学扫描微镜，可以实现对激光束和激光脉冲的精密扫描定位和操控。利用MEMS二维扫描微镜，以及半导体激光器的光强调制技术，可以实现全高清的微型激光投影仪，满足移动大屏显示的需求。利用MEMS二维扫描微镜结合红外激光器的调制，可以实现红外结构光的发射，满足3D相机对结构光投影的性价比的要求。利用大镜面的MEMS二维扫描微镜，可以实现固态激光雷达的小型化、低成本和可批量生产。一维MEMS扫描镜设计上采用高速共振模式，以达到大光学扫描角的性。MEMS扫描镜供应

扫描镜已成为MEMS业界关注的焦点，微镜是指采用光学MEMS技术制造的，把微光反射镜与MEMS驱动器集成在一起的光学MEMS器件。MEMS微镜的运动方式包括平动和扭转两种机械运动。对于扭转MEMS微镜，当其光学偏转角度较大（达到10°以上），主要功能是实现激光的指向偏转、图形化扫描、图像扫描时，可被称为“MEMS扫描镜”，以区别于较小偏转角度的扭转MEMS微镜。MEMS扫描镜在激光投影、激光成像、激光加工、激光传感等应用具有普遍的需求，是激光应用必不可少的关键激光元器件，较近成为关注的热点。平动MEMS扫描镜规格一维MEMS扫描镜需要特殊的驱动控制模块，我司可提供与之匹配的专业驱动控制模块。

芯片封装形式：MEMS 芯片产品，其封装形式可以根据不同的使用需求进行定制化开发。我司可提供 1 种（CLCC 封装,如下图所示）标准封装形式供客户使用。一维MEMS扫描镜需要特殊的驱动控制模块，我司可提供与之匹配的专业驱动控制模块，可缩短客户对其开发周期。一维MEMS扫描镜(直径1.4mm)采用半导体硅工艺制造, 低功耗静电驱动,以高速谱振模式,可实现大的光学扫描角度和高扫描频率,镜面表面以金为标准镀膜材料,可为红外波长光束提供高反射率,目前已经量产,可大批量交付客户,亦可大规模制造中采用铝为镜面材料,实现其他波段的高反射率。

任何MEMS芯片的量产从来都不是简单的事，较主要是自身在设计与制造的技术和经验的积累没有捷径可寻。一维MEMS扫描镜(直径1.4mm)采用半导体硅工艺制造, 低功耗静电驱动,以高速谱振模式,可实现大的光学扫描角度和高扫描频率,镜面表面以金为标准镀膜材料,可为红外波长光束提供高反射率,目前已经量产,可大批量交付客户,亦可大规模制造中采用铝为镜面材料,实现其他波段的高反射率。同时,可以根据不同需求定制其他不同大小镜面的MEMS微镜芯片。一维MEMS扫描镜的特征：高角度分辨率。

一维MEMS扫描镜描述 ：一维 MEMS 扫描镜设计上采用高速共振模式，以达到大光学扫描角的性能，可实现光束。一维空间的精确扫描；用户可根据实际应用的光学系统需求，选择合适的反射镜面尺寸及性能参数；镜面表面以金或铝为标准镀膜材料，为不同工作波长光束提供高反射率；若采用两颗一维 MEMS 扫描镜组合即可实现光束在二维空间的精确扫描，可实现高性能要求应用的开发。一维MEMS扫描镜(直径1.4mm)采用半导体硅工艺制造, 低功耗静电驱动,以高速谱振模式,可实现大的光学扫描角度和高扫描频率,镜面表面以金为标准镀膜材料,可为红外波长光束提供高反射率,目前已经量产,可大批量交付客户,亦可大规模制造中采用铝为镜面材料,实现其他波段的高反射率MEMS芯片产品，其封装形式可以根据不同的使用需求进行定制化开发。无锡MEMS器件价钱

一维MEMS扫描镜的特征：稳定性、重复性好。MEMS扫描镜供应

从MEMS扫描镜的轴数看，双轴扫描镜是技术发展趋势，这样能大幅度降低封装成本。从MEMS扫描镜的扫描角度精度看，发展趋势是扫描镜集成制造角度传感器，采用闭环控制方法实现对扫描微镜的精确控制。从MEMS扫描镜的驱动方式看，由于压电驱动具有更高的力密度，压电驱动MEMS扫描镜将可能成为技术新方向，值得关注。一维 MEMS 扫描镜设计上采用高速共振模式，以达到大光学扫描角的性能，可实现光束，一维空间的精确扫描；用户可根据实际应用的光学系统需求，选择合适的反射镜面尺寸及性能参数；镜面表面以金或铝为标准镀膜材料，为不同工作波长光束提供高反射率。MEMS扫描镜供应

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