无锡一维MEMS扫描微镜

一维MEMS扫描镜(直径1.4mm)采用半导体硅工艺制造, 低功耗静电驱动,以高速谱振模式,可实现大的光学扫描角度和高扫描频率,镜面表面以金为标准镀膜材料,可为红外波长光束提供高反射率,目前已经量产,可大批量交付客户,亦可大规模制造中采用铝为镜面材料,实现其他波段的高反射率。同时,可以根据不同需求定制其他不同大小镜面的MEMS微镜芯片。一维MEMS 扫描镜：一维MEMS扫描镜设计上采用高速共振模式，以达到大光学扫描角的性能，可实现光束。一维MEMS扫描镜可为红外波长光束提供高反射率。无锡一维MEMS扫描微镜

MEMS微镜是指采用光学MEMS技术制造的，把微光反射镜与MEMS驱动器集成在一起的光学MEMS器件。MEMS微镜的运动方式包括平动和扭转两种机械运动。对于扭转MEMS微镜，当其光学偏转角度较大（达到10°以上），主要功能是实现激光的指向偏转、图形化扫描、图像扫描时，可被称为“MEMS扫描镜”，以区别于较小偏转角度的扭转MEMS微镜。MEMS扫描镜是激光应用必不可少的关键激光元器件，应用领域已渗透到消费电子、医疗、**、通讯等。这其中有已经量产的应用，还有许多概念性的应用。主要应用领域有三个方面：激光扫描、光通讯、数字显示。苏州MEMS扫描镜费用一维MEMS扫描镜的特征：功耗低。

任何MEMS芯片的量产从来都不是简单的事，较主要是自身在设计与制造的技术和经验的积累没有捷径可寻。一维MEMS扫描镜(直径1.4mm)采用半导体硅工艺制造, 低功耗静电驱动,以高速谱振模式,可实现大的光学扫描角度和高扫描频率,镜面表面以金为标准镀膜材料,可为红外波长光束提供高反射率,目前已经量产,可大批量交付客户,亦可大规模制造中采用铝为镜面材料,实现其他波段的高反射率。同时,可以根据不同需求定制其他不同大小镜面的MEMS微镜芯片。

MEMS扫描镜裸片与用于垂直扫描位置反馈的压阻式应变传感器靠得很近。位置系统反馈信号可以提高投影式显示器长时间使用和在不同环境条件下的稳定性，红、蓝和绿色激光二极管与MEMS扫描镜集成在一起形成一个紧凑的彩色显示引擎，如图6所示。扫描镜系统在设计中使用了MEMS和小型激光器，包含光源在内，整个体积不超过5cm^3，高度只6mm。二维MEMS扫描镜（直径3.0mm /直径1.4mm）采用半导体硅技术制造， 低功耗静电驱动，快轴可达到几kHz共振模式，慢轴可实现稳定旋转，并可以实现 二维光束空间用户可以根据光学系统的实际应用选择合适的镜面尺寸。MEMS芯片产品，其封装形式可以根据不同的使用需求进行定制化开发。

扫描镜是通过精确控制镜面的偏角来控制光束的偏转方向，扫描镜可用于光束的指向控制和扫描。昊量光电可提供的光束偏转产品包括以下产品：MEMS 扫描镜：由静电驱动，可提供镜面直径从0.8-7.5mm不等产品。一个产品可在点对点、一个轴谐振另外一个点对点控制，两个轴谐振三种不同模式下工作。二维MEMS扫描镜（直径3.0mm /直径1.4mm）采用半导体硅技术制造， 低功耗静电驱动，快轴可达到几kHz共振模式，慢轴可实现稳定旋转，并可以实现 二维光束空间用户可以根据光学系统的实际应用选择合适的镜面尺寸。一维MEMS扫描镜的特征：抗冲击、抗振动。MEMS扫描镜市场

一维MEMS扫描镜的特征：高扫描频率。无锡一维MEMS扫描微镜

MEMS扫描微镜的静电驱动：所谓静电驱动技术，就是利用电荷间的库仑力作为驱动力进行驱动的技术。通过静电作用使可以活动的微镜面转动，从而改变光路。虽然驱动力较其他原理的器件相比偏小，但工艺兼容性较好，可以使用体硅和表面硅机械加工工艺制作，便于实现集成。静电驱动技术按结构分，主要有平行板电容结构、抓刮结构（scratch drive actuator，SDA）和梳齿结构三大类。所谓的平板电容结构，就是在平板电容的两端施加电压，上级板可动，下极板固定。当外加驱动电压时，静电力使极板间距减小，造成静电力增大；静电力的增大进一步引起极板间距的减小，又使静电力进一步增大，这是一个正反馈过程。因此，通过对外加电压的控制实现镜面的扭转，但只有当驱动电压在一定范围内才是稳定的。无锡一维MEMS扫描微镜

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