微型MEMS扫描微镜工艺制造

微镜有两个主要的优点：低功耗和低的制造成本。因此，许多行业将微镜普遍用于 MEMS 应用。微镜具有普遍的潜在应用。比如，微镜可用于控制光学元件，由于具有这种功能，它们在显微镜和光纤领域非常有用。微镜常用于扫描仪、平视显示器和医学成像等领域。此外，MEMS 系统有时还将集成扫描微镜系统用于消费者和通信应用。一维MEMS扫描镜(直径1.4mm)采用半导体硅工艺制造, 低功耗静电驱动,以高速谱振模式,可实现大的光学扫描角度和高扫描频率,镜面表面以金为标准镀膜材料,可为红外波长光束提供高反射率,目前已经量产,可大批量交付客户,亦可大规模制造中采用铝为镜面材料,实现其他波段的高反射率。同时,可以根据不同需求定制其他不同大小镜面的MEMS微镜芯片。一维MEMS扫描镜是采用半导体硅工艺制造的。微型MEMS扫描微镜工艺制造

我们知道MEMS器件开发除了好的设计方案外，较关键的还是加工制造环节，成熟的工艺及其优良平台不只决定了产品的可靠性、一致性的品质要素，而且对成本乃至投放周期有至关重要的影响。为了使产品早日量产抢占市场，要注意采用的工艺。二维MEMS扫描镜（直径3.0mm /直径1.4mm）采用半导体硅技术制造， 低功耗静电驱动，快轴可达到几kHz共振模式，慢轴可实现稳定旋转，并可以实现 二维光束空间用户可以根据光学系统的实际应用选择合适的镜面尺寸； 镜面以铝为标准涂层材料，为可见光波长光束提供高反射率。 金还可以在大规模制造材料中用作镜子，以在其他波段中实现高反射率。微型MEMS扫描微镜工艺制造按照扫描维度不同，MEMS扫描镜可以分为一维扫描镜和二维扫描镜。

MEMS微镜的使用仍然涉及移动部件的使用，并伴随着可靠性和准确性的风险。但MEMS微镜也已经应用于汽车其他领域，例如DLP方案的HUD和前照灯系统，且已经通过了车规级的NVH测试。（InnovizOne在功能安全性上取得了ASIL-B传感器级别和ASIL-D系统级别的认证）。MEMS微镜的运动会产生噪声，从而限制了激光雷达的FoV和二维扫描据称，温度问题尚待解决。MEMS微镜扫描方法使用洛伦兹力磁体来控制1cm²微镜设备的运动，这是朝着小尺寸传感器模块迈出的一步，它无需使用电机，且限制了 会引起摩擦的机械部件。从理论上讲，降低了那些可能影响传感器模块可靠性和使用寿命的因素。

MEMS扫描镜全部由单晶硅制成，也就是说这种设计使运动部件不包括任何易出故障的部件，例如，金属、聚合物、压电材料等。使其拥有优良的重复性和可靠性。采用无万向节设计，使大镜面尺寸和大角度偏转的MEMS微振镜拥有更高的速度。静电驱动的MEMS扫描微振镜两个轴的偏转角度可达到32°，在满振幅运转功耗只为几毫瓦。目前静电驱动的微振镜可提供的一维和二维的MEMS扫描镜，可提供直径从0.8mm到5mm微型振镜。一维MEMS扫描镜(直径1.4mm)采用半导体硅工艺制造, 低功耗静电驱动,以高速谱振模式,可实现大的光学扫描角度和高扫描频率,镜面表面以金为标准镀膜材料,可为红外波长光束提供高反射率,目前已经量产,可大批量交付客户,亦可大规模制造中采用铝为镜面材料,实现其他波段的高反射率。任何MEMS芯片的量产从来都不是简单的事。

二维MEMS扫描镜的快轴可达到几kHz共振模式，慢轴可实现稳定旋转，并可以实现 二维光束空间用户可以根据光学系统的实际应用选择合适的镜面尺寸； 镜面以铝为标准涂层材料，为可见光波长光束提供高反射率。 金还可以在大规模制造材料中用作镜子，以在其他波段中实现高反射率。一维MEMS扫描镜可实现大的光学扫描角度和高扫描频率,镜面表面以金为标准镀膜材料,可为红外波长光束提供高反射率,目前已经量产,可大批量交付客户,亦可大规模制造中采用铝为镜面材料,实现其他波段的高反射率。一维MEMS扫描镜的特征：功耗低。常用MEMS扫描微镜有哪些

一维 MEMS扫描镜的应用：手势动作感测。微型MEMS扫描微镜工艺制造

MEMS 扫描镜的应用：传统的光学扫描镜体积大、成本高，且多为散装，限制了其应用。相较于传统的扫描镜，MEMS扫描镜具有尺寸小、成本低、扫描频率高、响应速度快和功耗低等优点，以被普遍的应用在光通信、扫描成像、激光雷达、内窥镜、3D扫描成像等领域。按照扫描维度不同，MEMS扫描镜可以分为一维扫描镜和二维扫描镜，一维扫描镜是指在镜面在一个维度内偏转，二维扫描镜是指沿着两个方向同时对光束进行调节。实现二维扫描，可以选用两个一维的扫描镜，也可以选用两个一个二维的扫描镜。相比较而言二维扫描镜功能更强大，但是结构也更复杂，控制的难度也就越大。微型MEMS扫描微镜工艺制造

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