专业MEMS扫描微镜生产厂家

时间:2021年07月28日 来源:

MEMS微镜的使用仍然涉及移动部件的使用,并伴随着可靠性和准确性的风险。但MEMS微镜也已经应用于汽车其他领域,例如DLP方案的HUD和前照灯系统,且已经通过了车规级的NVH测试。(InnovizOne在功能安全性上取得了ASIL-B传感器级别和ASIL-D系统级别的认证)。MEMS微镜的运动会产生噪声,从而限制了激光雷达的FoV和二维扫描据称,温度问题尚待解决。MEMS微镜扫描方法使用洛伦兹力磁体来控制1cm²微镜设备的运动,这是朝着小尺寸传感器模块迈出的一步,它无需使用电机,且限制了 会引起摩擦的机械部件。从理论上讲,降低了那些可能影响传感器模块可靠性和使用寿命的因素。MEMS扫描微镜也叫振镜,微镜沿着x、y两个方向扫描,可以实现非常高频率的扫描。专业MEMS扫描微镜生产厂家

MEMS扫描微镜的制造:该MEMS扫描镜采用静电驱动且选用整个单晶硅制备而成,因此使得驱动电压和偏转角度之间存在良好的一一对应的关系,并且有着可重复性,而且随着使用时间的推移依然保持着极高的性能。对于开环的微振镜,致动器在每个轴上至少有14Bits(约16384个位置),因此当机械偏转角度为-5°到+5°是,角度的分辨率可达到10微弧度。一维MEMS扫描镜(直径1.4mm)采用半导体硅工艺制造,低功耗静电驱动,以高速谱振模式,可实现大的光学扫描角度和高扫描频率,镜面表面以金为标准镀膜材料,可为红外波长光束提供高反射率。激光扫描MEMS扫描镜加工MEMS扫描镜能够保持着极高的性能。

MEMS微镜中所谓静电驱动技术,就是利用电荷间的库仑力作为驱动力进行驱动的技术。通过静电作用使可以活动的微镜面转动,从而改变光路。虽然驱动力较其他原理的器件相比偏小,但工艺兼容性较好,可以使用体硅和表面硅机械加工工艺制作,便于实现集成。静电驱动技术按结构分,主要有平行板电容结构、抓刮结构(scratch drive actuator,SDA)和梳齿结构三大类。所谓的平板电容结构,就是在平板电容的两端施加电压,上级板可动,下极板固定。当外加驱动电压时,静电力使极板间距减小,造成静电力增大;静电力的增大进一步引起极板间距的减小,又使静电力进一步增大,这是一个正反馈过程。因此,通过对外加电压的控制实现镜面的扭转,但只有当驱动电压在一定范围内才是稳定的。

MEMS扫描镜特点:MEMS扫描镜的尺寸很小,其反射镜面直径通常为数毫米,镜面厚度、支撑悬臂梁的厚度/宽度只为数十微米至数百微米。MEMS扫描镜面采用金属反射薄膜,可以承受的激光功率可达到瓦级以上,因此可以满足信息激光应用的要求。:MEMS扫描镜技术的发展趋势是更好地满足各项应用的技术要求、更低的成本、更高的可靠性。从MEMS扫描镜的技术参数看,发展趋势是大尺寸镜面、大扫描角度,对MEMS三维激光雷达应用;MEMS扫描镜的直径数毫米,水平光学扫描角度高达110°,垂直光学扫描角度25~40°,谐振频率高达数十kHz。任何MEMS芯片的量产从来都不是简单的事。

MEMS扫描镜的制作:MEMS扫描镜全部由单晶硅制成,也就是说这种设计使运动部件不包括任何易出故障的部件,例如,金属、聚合物、压电材料等。使其拥有优良的重复性和可靠性。采用无万向节设计,使大镜面尺寸和大角度偏转的MEMS微振镜拥有更高的速度。静电驱动的MEMS扫描微振镜两个轴的偏转角度可达到32°,在满振幅运转功耗只为几毫瓦。目前静电驱动的微振镜可提供的一维和二维的MEMS扫描镜,可提供直径从0.8mm到5mm微型振镜。一维MEMS扫描镜(直径1.4mm)采用半导体硅工艺制造,低功耗静电驱动,以高速谱振模式,可实现大的光学扫描角度和高扫描频率,镜面表面以金为标准镀膜材料,可为红外波长光束提供高反射率,目前已经量产,可大批量交付客户,亦可大规模制造中采用铝为镜面材料,实现其他波段的高反射率。MEMS的优势:价格便宜。扭转MEMS器件价格

微镜是指采用光学MEMS技术制造的。专业MEMS扫描微镜生产厂家

MEMS扫描微镜的使用比较多,MEMS微镜按原理区分,主要包括四种:静电驱动、电磁驱动、电热驱动、压电驱动。其中前两种技术比较成熟,应用也更普遍。比如仪器的DLP中的MEMS微镜阵列采用的是静电驱动模式,且在投影领域一家独大;而较新推出的全新交互式激光投影微型扫描仪BML050中的MEMS微镜、发布的MEMS微镜S12237-03P、意法半导体与其他司合作生产的MEMS微镜,均采用电磁驱动原理;MEMS微镜采用电热驱动原理。而压电驱动的产品还未看到大规模量产的企业。专业MEMS扫描微镜生产厂家

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