常见MEMS扫描微镜厂商

一维MEMS扫描镜的特征：纯硅制造工艺，大扫描角度、高角度分辨率，高扫描频率， 功耗低， 稳定性、重复性好，抗冲击、抗振动，采用 MEMS 静电驱动原理，体积小、质量轻，成本低。一维 MEMS扫描镜的应用：室内激光雷达（LiDAR），编码结构光投影器、生物医学检测、手势动作感测、其它。一维MEMS扫描镜(直径1.4mm)采用半导体硅工艺制造, 低功耗静电驱动,以高速谱振模式,可实现大的光学扫描角度和高扫描频率,镜面表面以金为标准镀膜材料,可为红外波长光束提供高反射率。一维MEMS扫描镜(直径1.4mm)采用半导体硅工艺制造。常见MEMS扫描微镜厂商

MEMS扫描微镜：MEMS扫描镜组件中有一个反射镜悬浮在常平架(GimbalFrame)内，常平架上有一个微加工的通电线圈。MEMS裸片周围安装有永磁体，用于提供磁场。只要给MEMS线圈施加一个电流，就能在常平架上产生一个磁力扭矩，并沿旋转轴的两个方向产生分量这种设计的一个关键特性是只有一个驱动信号输入到MEMS。为了产生双轴移动，垂直和水平移动的波形只需做简单的叠加。扭矩的一个分量使常平架绕其挠曲悬架旋转(左)；另一个分量则激发扫描镜谐振模式的振动，使反射镜绕常平架的挠曲悬架旋转(右)。这种复合的镜驱动波形由60Hz垂直扫描锯齿波函数和激发水平扫描谐振的高频正弦波叠加而成。南通MEMS扫描镜哪家好一维 MEMS扫描镜的应用：编码结构光投影器。

MEMS扫描镜特点：MEMS扫描镜的尺寸很小，其反射镜面直径通常为数毫米，镜面厚度、支撑悬臂梁的厚度/宽度只为数十微米至数百微米。MEMS扫描镜面采用金属反射薄膜，可以承受的激光功率可达到瓦级以上，因此可以满足信息激光应用的要求。：MEMS扫描镜技术的发展趋势是更好地满足各项应用的技术要求、更低的成本、更高的可靠性。从MEMS扫描镜的技术参数看，发展趋势是大尺寸镜面、大扫描角度，对MEMS三维激光雷达应用；MEMS扫描镜的直径数毫米，水平光学扫描角度高达110°，垂直光学扫描角度25~40°，谐振频率高达数十kHz。

MEMS扫描微镜的使用：我们知道MEMS器件开发除了好的设计方案外，较关键的还是加工制造环节，成熟的工艺及其优良平台不只决定了产品的可靠性、一致性的品质要素，而且对成本乃至投放周期有至关重要的影响。为了使产品早日量产抢占市场，要注意采用的工艺。二维MEMS扫描镜（直径3.0mm/直径1.4mm）采用半导体硅技术制造，低功耗静电驱动，快轴可达到几kHz共振模式，慢轴可实现稳定旋转，并可以实现二维光束空间用户可以根据光学系统的实际应用选择合适的镜面尺寸；镜面以铝为标准涂层材料，为可见光波长光束提供高反射率。金还可以在大规模制造材料中用作镜子，以在其他波段中实现高反射率。一维MEMS扫描镜的特征：纯硅制造工艺。

MEMS扫描微镜在整片的单晶硅上采用拥有技术的无万向节设计和独特的多级悬梁制造工艺制作一个完整的微镜促动器。其中采用无万向节设计可以使微镜在成像或光束偏转时可以在两个轴上达到同样的高速度。一个普通的拥有0.8mm直径的微镜，当机械偏角为-6°到+6°时，非谐振偏转速度超过1000rad/s，谐振频率更是达到3.6KHz。与常规的MEMS扫描镜不同的是，该微型振镜可以在多个模式下工作，即点对点模式（受迫振动）、混合模式和谐振模式。MEMS扫描镜被普遍的应用在光通信、扫描成像、激光雷达。上海低成本MEMS器件

一维MEMS扫描镜可大规模制造中采用铝为镜面材料,实现其他波段的高反射率。常见MEMS扫描微镜厂商

MEMS 扫描镜的应用是比较多的，光学扫描镜是一种矢量扫描设备，能使入射光束按照特定的方式与时间顺序发生反射，从而在像面上实现扫描成像.传统的光学扫描镜体积大、成本高，且多为散装，限制了其应用。相较于传统的扫描镜，MEMS扫描镜具有尺寸小、成本低、扫描频率高、响应速度快和功耗低等优点，以被普遍的应用在光通信、扫描成像、激光雷达、内窥镜、3D扫描成像等领域。按照扫描维度不同，MEMS扫描镜可以分为一维扫描镜和二维扫描镜，一维扫描镜是指在镜面在一个维度内偏转，二维扫描镜是指沿着两个方向同时对光束进行调节。实现二维扫描，可以选用两个一维的扫描镜，也可以选用两个一个二维的扫描镜。相比较而言二维扫描镜功能更强大，但是结构也更复杂，控制的难度也就越大。常见MEMS扫描微镜厂商

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